Ищите и читайте полные тексты патентов со всего мира
Настоящее изобретение относится к фотолитографии с помощью излучения в далекой ультрафиолетовой области спектра, в частности для изготовления интегра...
Публикация: 2009-06-20
Данное изобретение относится к литографическому устройству, использующему источник экстремального ультрафиолетового излучения и многослойные зеркала...
Публикация: 2005-04-10
Настоящее изобретение относится к генерации излучения на требуемой длине волны. В частности, изобретение относится к способу генерации излучения в за...
Публикация: 2009-09-27
...
Публикация: 2004-03-20
Публикация: 2007-11-27
Публикация: 2007-10-20
Изобретение относится к области микролитографии, в частности фотолитографии, и может быть промышленно реализовано, например, при изготовлении инте...
Публикация: 2005-10-10
Эта заявка на изобретение является частичным продолжением заявок на изобретение под номерами: 09/034870 "Управление энергией импульса эксимерного л...
Публикация: 2003-01-20
Уровень техники Эксимерные лазеры в настоящее время находят все более широкое применение в качестве источника света при производстве интегральных ми...
Публикация: 2004-11-20
Публикация: 2009-12-27