Литографическое устройство - RU2002118110A

Реферат

1. Литографическое устройство, содержащее опору (16) для образца, подлежащего освещению в соответствии с заданным узором, маску (24), содержащую заданный узор в увеличенном виде, источник (22) излучения в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне спектра, оптическое средство (26) для собирания и передачи излучения к маске, обеспечивающей изображение узора в увеличенном виде, и оптическое средство (29) для уменьшения этого изображения и проекции уменьшенного изображения на образец, при этом маска (24), оптическое средство (26) для собирания и передачи и оптическое средство (29) для уменьшения и проекции содержат многослойные зеркала, причем каждое многослойное зеркало содержит подложку (74) и на этой подложке комплект чередующихся слоев (76) первого материала и слоев (78) второго материала, при этом первый материал имеет атомный номер больше атомного номера второго материала, первый и второй слои взаимодействуют для отражения экстремального ультрафиолетового излучения, комплект имеет свободную поверхность (80), для падения на нее подлежащего отражению излучения, отличающееся тем, что источник (22) содержит по меньшей мере одну твердую мишень (28), имеющую первую поверхность (30) и вторую поверхности (37) и способную излучать экстремальное ультрафиолетовое излучение за счет взаимодействия с лазерным лучом (34), сфокусированном на первой поверхности (30) мишени, причем мишень (28) способна анизотропно излучать часть (36) экстремального ультрафиолетового излучения со второй поверхности (37) мишени, и устройство содержит оптическое средство (26) для сбора и передачи на маску (24) части (36) экстремального ультрафиолетового излучения, приходящего со второй поверхности (37) мишени источника, и что толщина пар смежных слоев (76, 78) в содержащемся в каждом зеркале комплекте слоев является монотонной функцией глубины в комплекте, причем эта глубина отсчитывается от свободной поверхности (80) комплекта.

2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что мишень (28) содержит материал, способный излучать экстремальное ультрафиолетовое излучение за счет взаимодействия с лазерным лучом, и толщина мишени выбрана в диапазоне от 0,05 до 5 мкм.

3. Устройство по любому из п.1 или 2, отличающееся тем, что мишень (28) содержит материал, способный излучать экстремальное ультрафиолетовое излучение за счет взаимодействия с лазерным лучом и имеющий атомный номер от 28 до 92.

4. Устройство по любому из пп.1-3, отличающееся тем, что содержит множество соединенных друг с другом мишеней (42), и средства (48, 50) перемещения этого множества мишеней, обеспечивающие, что эти мишени могут последовательно принимать лазерный луч (34).

5. Устройство по п.4, отличающееся тем, что дополнительно содержит средство (38, 44, 52) опоры, выполненное с возможностью крепежа на него мишени (42) и с возможностью обеспечивать прохождение лазерного луча в направлении мишени, при этом средство (48, 50) перемещения выполнено с возможностью перемещения указанного средства опоры с мишенями.

6. Устройство по п.5, отличающееся тем, что средство (52) опоры способно поглощать излучение, эмитируемое первой поверхностью каждой мишени, принимающей лазерный луч, и повторно излучать это излучение в направлении мишени.

7. Устройство по любому из п.5 или 6, отличающееся тем, что средство опоры содержит отверстие (40, 46) напротив каждой мишени, при этом это отверстие задано двумя боковыми стенками (54, 56), по существу параллельными друг другу и перпендикулярными этой мишени.

8. Устройство по любому из п.5 или 6, отличающееся тем, что средство опоры содержит отверстие напротив каждой мишени, при этом это отверстие задано двумя боковыми стенками (55, 57), выполненными расходящимися в направлении к мишени.

9. Устройство по любому из пп.1-5, отличающееся тем, что дополнительно содержит вспомогательное неподвижное средство (58), способное обеспечивать прохождение лазерного луча (34) в направлении мишени, поглощать лазерный луч в направлении мишени, поглощать излучение, излучаемое первой поверхностью этой мишени и повторно излучать это излучение в направлении мишени.

10. Устройство по любому из пп.1-9, отличающееся тем, что комплект подразделен на пакеты из, по меньшей мере, одной пары первого и второго слоев (76, 78), и толщина этих пакетов является монотонной функцией от глубины в комплекте, причем эта глубина отсчитывается от свободной поверхности (80) комплекта.

11. Устройство по п.10, отличающееся тем, что приращения толщины этих пакетов образует арифметическую прогрессию.

12. Устройство по любому из п.10 или 11, отличающееся тем, что первый и второй слои (76, 78) каждого пакета имеют приблизительно одинаковую толщину.

13. Устройство по любому из пп.1-12, отличающееся тем, что первый и второй материалы являются, соответственно, молибденом и бериллием или молибденом и кремнием.

14. Устройство по любому из пп.1-13, отличающееся тем, что подложка (74) выполнена из материала, выбранного из группы, состоящей из кремния и германия.

15. Устройство по любому из пп.1-14, отличающееся тем, что толщина подложки (74) находится внутри диапазона от 5 до 40 мм, а толщина комплекта составляет около 1 мкм.

16. Устройство по любому из пп.1-15, отличающееся тем, что каждое многослойное зеркало снабжено средствами (92) охлаждения этого многослойного зеркала для уменьшения его деформации при его облучении экстремальным ультрафиолетовым излучением.

17. Устройство по п.16, отличающееся тем, что средства (92) охлаждения выполнены с возможностью охлаждения зеркала до температуры примерно 100 К.

18. Устройство по любому из пп.16 и 17, отличающееся тем, что средства (92) охлаждения зеркала являются средствами охлаждения с помощью жидкого гелия, фреона, жидкого азота или охлаждающей жидкости, которая является жидким теплоносителем, работоспособным при низких температурах вблизи 0 К.

19. Устройство по любому из пп.1-18, отличающееся тем, что образец содержит полупроводниковую подложку (18), на которую нанесен слой (20) фоточувствительного полимера, который подлежит освещению в соответствии с заданным узором.