Плазменный источник направленных лучей и применение его в микрофотолитографии - RU2006116897A

Реферат

1. Способ генерации излучения в заданном направлении в требуемом диапазоне длин волн, включающий:

получение первоначального излучения с помощью источника излучения, длины волн которого включают требуемый диапазон;

фильтрацию первоначального излучения так, чтобы по существу устранить лучи первоначального излучения, длина волн которых находится за пределами требуемого диапазона,

отличающийся тем, что фильтрацию осуществляют путем обеспечения управляемого распределения показателя преломления лучей в области управления, через которую проходит первоначальное излучение, таким образом, чтобы выборочно отклонять лучи первоначального излучения в зависимости от их длины волны и отбирать лучи с заданной длиной волны.

2. Способ по п.1, отличающийся тем, что управляемое распределение показателя преломления лучей получают путем управления распределением плотности электронов в области управления.

3. Способ по п.2, отличающийся тем, что область управления находится в плазме.

4. Способ по п.3, отличающийся тем, что плазма, содержащая область управления, находится в камере, связанной с источником излучения.

5. Способ по п.3 или 4, отличающийся тем, что управление плотностью электронов осуществляют таким образом, чтобы на удалении от центральной линии испускания первоначального излучения получить более высокую плотность электронов, чем на указанной центральной линии испускания первоначального излучения.

6. Способ по п.5. отличающийся тем, что центральная линия испускания первоначального излучения является прямой первоначального излучения, а первоначальное излучение получают с помощью источника излучения с практически осесимметричным распределением вокруг указанной прямой первоначального излучения.

7. Способ по п.6, отличающийся тем, что для получения распределения плотности электронов в плазму вводят энергию вдоль центральной линии испускания первоначального излучения.

8. Способ по п.7, отличающийся тем, что ввод энергии осуществляют путем ионизации плазмы вдоль центральной линии испускания первоначального излучения.

9. Способ по п.8, отличающийся тем, что для осуществления ионизации выполняют следующие операции:

подают электрическое напряжение на электроды камеры, содержащей плазму, при этом электроды удалены друг от друга вдоль направления, определяемого центральной линией испускания первоначального излучения;

вводят энергетический пучок вдоль центральной линии испускания первоначального излучения.

10. Способ по п.1, отличающийся тем, что для отбора лучей с требуемой длиной волны на выходе области управления размещают по меньшей мере одно окно для выборочного пропускания лучей в требуемом диапазоне длин волн.

11. Способ по п.10, отличающийся тем, что каждое окно располагают на центральной линии испускания первоначального излучения с криволинейной абсциссой, соответствующей месту пересечения отклоненных лучей излучения в требуемом диапазоне длин волн, с центральной линией испускания первоначального излучения.

12. Способ по п.1, отличающийся тем, что требуемый диапазон длин волн находится в интервале 0-100 нм.

13. Способ по п.12, отличающийся тем, что требуемый диапазон длин волн находится в области ВУФ.

14. Устройство для генерации излучения в требуемом диапазоне длин волн и заданном направлении, содержащее:

источник первоначального излучения, длины волн которого включают заданный диапазон,

средства фильтрации первоначального излучения для по существу устранения лучей первоначального излучения, длина волны которых находится за пределами требуемого диапазона,

отличающееся тем, что средства фильтрации содержат средства для обеспечения управляемого распределения показателя преломления лучей в области управления, через которую проходит первоначальное излучение, так чтобы выборочно отклонять лучи в зависимости от их длины волны и отбирать лучи с требуемой длиной волны.

15. Устройство по п.14, отличающееся тем, что средства для обеспечения управляемого распределения показателя преломления лучей содержат средства для управления распределением плотности электронов в области управления.

16. Устройство по п.15, отличающееся тем, что область управления находится в плазме.

17. Устройство по п.16, отличающееся тем, что плазма, содержащая область управления, находится в камере, связанной с источником излучения.

18. Устройство по п.16 или 17, отличающееся тем, что средства для управления распределением плотности электронов выполнены с возможностью получения на удалении от центральной линии испускания первоначального излучения более высокой плотности, чем на центральной линии испускания первоначального излучения.

19. Устройство по п.18, отличающееся тем, что центральная линия испускания первоначального излучения является прямой первоначального излучения, а средства для управления распределением плотности электронов выполнены с возможностью создания плотности электронов, практически осесимметричной относительно прямой первоначального излучения.

20. Устройство по п.19, отличающееся тем, что средства для управления распределением плотности электронов содержат средства для ввода энергии в плазму вдоль центральной линии испускания первоначального излучения.

21. Устройство по п.20, отличающееся тем, что средства для ввода энергии содержат средства для ионизации плазмы вдоль центральной линии испускания первоначального излучения.

22. Устройство по п.21, отличающееся тем, что средства для ввода энергии содержат средства, предназначенные для:

подачи электрического напряжения на электроды камеры, содержащей плазму, при этом электроды удалены друг от друга вдоль направления, определяемого центральной линией испускания первоначального излучения;

ввода энергетического пучка вдоль центральной линии испускания первоначального излучения.

23. Устройство по п.14, отличающееся тем, что на выходе области управления устройство содержит по меньшей мере одно окно для выборочного пропускания лучей в требуемом диапазоне длин волн.

24. Устройство по п.23, отличающееся тем, что каждое окно расположено на центральной линии испускания первоначального излучения с криволинейной абсциссой, соответствующей месту пересечения отклоненных лучей, находящихся в требуемом диапазоне длин волн, с центральной линией испускания первоначального излучения.

25. Устройство по п.23 или 24, отличающееся тем, что содержит многослойное зеркало для дополнительной фильтрации, связанное по меньшей мере с некоторыми окнами.

26. Устройство по п.25, отличающееся тем, что содержит множество модулей, каждый из которых содержит источник первоначального излучения и средства фильтрации, а также устройство содержит оптическое средство, используемое для сбора излучения, прошедшего фильтрацию, и последующего направления его за пределы устройства.

27. Устройство по п.26, отличающееся тем, что оптическое средство представляет собой многослойное зеркало, выполненное с возможностью окончательной фильтрации собранного излучения.

28. Устройство по п.14, отличающееся тем, что требуемый диапазон длин волн находится в интервале 0-100 нм.

29. Устройство по п.28, отличающееся тем, что требуемый диапазон длин волн находится в области ВУФ.

30. Устройство для литографии, содержащее устройство для генерации излучения по одному из пп.14-29.