Покрытие полотна подложки осаждением атомных слоев - RU2014152783A

Реферат

1. Способ атомно-слоевого осаждения, включающий:подачу покрываемого полотна в реакционное пространство реактора атомно-слоевого осаждения;формирование для покрываемого полотна в реакционном пространстве траектории с повторяющейся конфигурацией иобеспечение доступности покрываемого полотна в реакционном пространстве разделенным во времени импульсам подачи прекурсоров для нанесения на указанное полотно материала посредством последовательных самоограниченных поверхностных реакций.2. Способ по п. 1, включающий многократное изменение направления движения покрываемого полотна для формирования повторяющейся конфигурации.3. Способ по п. 1, включающий подачу покрываемого полотна через входной шлюз, предотвращающий выход газов из реакционного пространства.4. Способ по п. 1, включающий подачу покрываемого полотна через расширенный проход, в котором создают избыточное давление.5. Способ по любому из предыдущих пунктов, в котором траектория с повторяющейся конфигурацией задает в реакционном пространстве проточные каналы, причем поступление прекурсоров в течение указанных импульсов в каждый из проточных каналов осуществляют с использованием распределителя потока.6. Способ по п. 5, в котором используют распределитель потока, содержащий расширитель с множеством ответвлений с выполненными в них подающими отверстиями.7. Способ по п. 6, включающий регулировку длины траектории в реакционном пространстве путем настройки ее конфигурации.8. Аппарат для атомно-слоевого осаждения, содержащий:входной шлюз, сконфигурированный с возможностью вводить движущееся покрываемое полотно в реакционное пространство реактора