{Регулярные или неправильные множества наноразмерных структур, например, запечатлевают слой маски фотомеханическое, например, фотолитографское, производство текстурированных или шаблонных поверхностей g03f7/00; литографские процессы для того, чтобы сделат

Ищите и читайте полные тексты патентов со всего мира