Устройство для химического осаждения из газовой фазы - RU2012114733A

Реферат

1. Устройство для осаждения материала на подложку, имеющую первый конец и второй конец, отстоящие друг от друга, с захватными частями, расположенными на каждом конце подложки, содержащее:корпус, имеющий камеру;вход, выполненный в корпусе для введения газа в камеру;выход, выполненный в корпусе для выведения газа из камеры;по меньшей мере, один электрод, проходящий сквозь корпус, причем электрод, по меньшей мере, частично расположен в камере для соединения с захватной частью и содержит:стержень, имеющий первый конец и второй конец;головку, расположенную на одном из концов стержня, причем указанная головка имеет наружную поверхность, включающую контактную зону для контакта с захватной частью;источник питания, соединенный с электродом для подачи на него электрического тока; инаружное покрытие, нанесенное на наружную поверхность электрода вне контактной зоны, причем наружное покрытие имеет более высокую износостойкость, чем никель, измеряемую в мм/Н·м.2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что электрод изготовлен из металла основы, причем наружное покрытие нанесено непосредственно на указанный металл основы.3. Устройство по п.2, отличающееся тем, что металл основы выбран из группы, включающей медь, серебро, никель, инконель, золото и их сплавы.4. Устройство по одному из предшествующих пунктов, отличающееся тем, что наружное покрытие имеет износостойкость, равную, по меньшей мере, 6·10мм/Н·м по методике ASTM G99-5.5. Устройство по одному из пп.1-3, отличающееся тем, что наружное покрытие имеет удельную электропроводность, меньшую 7·10Сименс/метр при комнатной температуре.6. Устройство по п.5, отличающееся тем, что наружное покрыти�