Формула
1. Устройство, содержащее устройство для выпекания с замкнутым конвейером (22),
в котором вафельницы (23) расположены на замкнутом конвейере (22),
причем каждая вафельница (23) содержит нижнюю плиту (25) и верхнюю плиту (24), присоединенную с возможностью поворота к нижней плите (24),
причем каждая вафельница (23) последовательно перемещается по замкнутому конвейеру (22):
от загрузочного приспособления (26) для введения массы для выпекания в открытую вафельницу (23),
к приспособлению (27) для закрывания вафельницы (23),
через нагретую пекарную камеру (28),
к приспособлению (29) для открывания вафельницы (23),
и затем к приспособлению (31) для выемки выпеченных изделий из вафельницы (23),
отличающееся тем, что предусмотрено лазерное устройство для очистки площадей (1) пода, выполненных рельефной формы, и дополнительно для очистки уплотняющих или испарительных полос (2) подовых плит (3) машины для выпекания (4),
причем лазерное устройство содержит:
источник (5) лазерного излучения для испускания лазерного луча (6) на локально выбираемую целевую область (7) путем непрерывного изменения направления выхода лазерного луча (6) и перемещения контура (8), образующего целевую область (7);
отклоняющую оптику (9), расположенную на расстоянии от источника (5) лазерного излучения и в целевой области (7) источника (5) лазерного излучения для отклонения лазерного луча (6) и для проецирования целевой области (7), образованной контуром (8), на подовую плиту (3), подлежащую очистке, в направлении (10) проецирования,
причем отклоняющая оптика (9) содержит средство для регулирования изменения направления (10) проецирования и направления выхода лазерного луча (6).
2. Устройство по п.1, в котором лазерное устройство отличается тем, что
отклоняющая оптика (9) содержит, по меньшей мере, два отклоняющих элемента (11), которые отклоняют лазерные лучи (6), излучаемые источником лазерного излучения (5) под разными углами,
или отклоняющая оптика (9) содержит, по меньшей мере, два отклоняющих элемента (11), выполненных в виде отражающих элементов, например, в частности, зеркал, которые расположены под разными углами относительно источника (5) лазерного излучения,
или отклоняющая оптика (9) содержит, по меньшей мере, один отклоняющий элемент (11) для отклонения лазерного луча (6), который имеет, по меньшей мере, две выбираемые позиции,
таким образом, чтобы обеспечить по меньшей мере, два выбираемых разных направления (10) проецирования.
3. Устройство по п.1 или 2, в котором лазерное устройство отличается тем, что
отклоняющая оптика (9) или отклоняющий элемент (11) или отклоняющие элементы (11) расположены с возможностью перемещения,
и/или отклоняющая оптика (9) или отклоняющий элемент (11) или отклоняющие элементы (11) расположены с возможностью изгиба, поворота или свободного вращения вокруг оси (12) вращения, причем ось (12) вращения приблизительно соответствует центральному выходному направлению лазерного луча (6) из источника (5) лазерного излучения.
4. Устройство по любому из пп. 1 - 3, отличающееся тем, что предусмотрен несущий элемент (14), который выступает из основного корпуса (13) и который, в частности, выполнен трубчатой формы, причем в зоне свободного конца (15) несущего элемента (14) предусмотрена отклоняющая оптика (9) и, в частности, жестко присоединена к несущему элементу (14).
5. Устройство по любому из пп. 1 - 4, в котором лазерное устройство отличается тем, что несущий элемент (14) установлен с возможностью перемещения посредством привода (16) несущего элемента, с возможностью вращения или с возможностью вращения относительно оси (12) вращения.
6. Устройство по любому из пп. 1 - 5, в котором лазерное устройство отличается тем, что привод (16) несущего элемента и/или источник (5) лазерного излучения расположены в зоне основного корпуса (13) или в основном корпусе (13).
7. Устройство по любому из пп. 1 - 6, в котором лазерное устройство отличается тем, что целевая область (7) источника (5) лазерного излучения направлена, произвольно, на один из отклоняющих элементов (11) или на один из отклоняющих элементов (11), выполненных в виде отражающих элементов.
8. Устройство по любому из пп. 1 - 7, в котором лазерное устройство отличается тем, что
целевая область (7) и контур (8), образующий целевую область (7), выполнен полосовидной или линейной формы,
целевая область (7) и контур (8), образующий целевую область (7), выполнен полосовидной или линейной формы и пересекаются лазерным лучом (6) периодическим или циклическим образом.
9. Устройство по любому из пп. 1 - 8, в котором лазерное устройство отличается тем, что
предусмотрен управляющий кулачок (17), который сканируется сканирующим элементом (18), чтобы активировать или деактивировать источник (5) лазерного излучения,
сканирующий элемент (18) выполнен с возможностью перемещения относительно управляющего кулачка (17) приведением в действие привода (16) несущего элемента и дополнительно вращением несущего элемента (14),
при этом источник (5) лазерного излучения, следовательно, активируется и деактивируется в зависимости от направления (10) проецирования.
10. Устройство по любому из пп. 1 - 9, в котором лазерное устройство отличается тем, что предусмотрено всасывающее устройство (19), всасывающий трубопровод (20) которого выступает в ту зону, в которой испускается лазерный луч (6), или в которой лазерный луч падает на объект, подлежащий очистке.
11. Устройство по любому из пп. 1 - 10, в котором лазерное устройство отличается тем, что предусмотрено двигательное приспособление для поступательного перемещения несущего элемента (14) или отклоняющей оптики (9),
причем направление (21) поступательного перемещения, в частности, следует центральному выходному направлению лазерного луча (6) из источника (5) лазерного излучения, ходу несущего элемента (14) или оси (12) вращения,
и причем дополнительно предусмотрено второе направление (21) поступательного движения, которое продолжается, по существу, поперечно первому направлению и, в частности, продолжается вертикально.
12. Лазерное устройство по любому из пп. 1 - 11, отличающееся тем, что лазерное устройство выполнено в виде модуля, который выполнен с возможностью подключения или подключен к машине для выпекания.
13. Устройство по любому из пп.1 - 12, отличающееся тем, что предусмотрено приспособление (29) для открывания вафельницы (23) и приспособление (27) для закрывания вафельницы (23), причем вафельницы (23) открыты между двумя приспособлениями (27, 29) на угол раскрытия,
отклоняющая оптика (9) и, по меньшей мере, часть несущего элемента (14) выступают вбок, т.е., поперечно направлению перемещения замкнутого конвейера (22) в вафельницу (23) и между верхней плитой (24) и нижней плитой (25).
14. Устройство по любому из пп.1 - 13, отличающееся тем, что направление (10) проецирования нацеливается поворотом отклоняющей оптики (9) или поворотом несущего элемента (14), присоединенного к отклоняющей оптике (9), произвольно, на верхнюю плиту (24) изнутри или на нижнюю плиту (25) изнутри.
15. Устройство по любому пп. 1 - 14, отличающееся тем, что угол (30) падения направления (10) проецирования на вафельницу (23) может меняться дополнительно направлением целевой области (7) источника (5) лазерного излучения на один из отклоняющих элементов (14).
16. Устройство по любому пп. 1 - 15, отличающееся тем, что
отклоняющая оптика (9) содержит, по меньшей мере, два отклоняющих элемента (11),
целевая область (7) источника (5) лазерного излучения дополнительно направлена на один из отклоняющих элементов (11),
когда целевая область (7) источника (5) лазерного излучения направлена на один из отклоняющих элементов (11), направление (10) проецирования имеет первый угол (30) падения на подовую плиту (3), подлежащую очистке,
когда целевая область (7) источника (5) лазерного излучения направлена на другой отклоняющий элемент (11), направление (10) проецирования имеет второй угол (30) падения на подовую плиту (3), подлежащую очистке,
и два угла (30) падения отклоняются в противоположных направлениях от угла падения, падающего перпендикулярно на подовую плиту.
17. Устройство по любому пп. 1 - 16, отличающееся тем, что
отклоняющая оптика (9) содержит, по меньшей мере, три отражающих элемента,
целевая область (7) источника (5) лазерного излучения направлена, произвольно, на один из трех отражающих элементов,
когда целевая область (7) источника (5) лазерного излучения направлена на один отражающий элемент, направление (10) проецирования имеет первый угол (30) падения на подовую плиту (3), подлежащую очистке,
когда целевая область (7) источника (5) лазерного излучения направлена на другой отражающий элемент, направление (10) проецирования имеет второй угол (30) падения на подовую плиту (3), подлежащую очистке,
два угла (30) падения отклоняются в противоположных направлениях от угла падения, падающего перпендикулярно на подовую плиту (3),
и когда целевая область (7) источника (5) лазерного излучения направлена на третий отражающий элемент, направление (10) проецирования имеет третий угол (30) падения на подовую плиту (3), подлежащую очистке, который находится между первым и вторым углом (30) падения и, в частности, продолжается по существу перпендикулярно подовой плите (3), подлежащей очистке.