Композиция для электролитического осаждения металла, содержащая выравнивающий агент - RU2015121797A
Код документа: RU2015121797A
Формула
1. Композиция, содержащая источник металлических ионов и по меньшей мере одну добавку, содержащую по меньшей мере один полиаминоамид, причем указанный полиаминоамид содержит структурную единицу, представленную формулой I
или производные полиаминоамида формулы I, получаемые путем полного или частичного протонирования, N-функционализации или N-кватернизации неароматическим реагентом,
где D6 представляет собой, для каждой повторяющейся единицы от 1 до s независимо, двухвалентную группу, выбранную из насыщенного или ненасыщенного С1-С20 органического радикала,
D7 представляет собой, для каждой повторяющейся единицы от 1 до s независимо, двухвалентную группу, выбранную из неразветвленного или разветвленного С2-С20 алкандиила, который необязательно может прерываться гетероатомами или двухвалентными группами, выбранными из О, S и NR10,
R1 для каждой повторяющейся единицы от 1 до s независимо выбирается из Н, С1-С20 алкила и C1-C20 алкенила, которые необязательно могут быть замещены гидроксилом, алкокси или алкоксикарбонилом, или вместе с R2 могут образовывать двухвалентную группу D8, и
R2 для каждой повторяющейся единицы от 1 до s независимо выбирается из Н, С1-С20 алкила и С1-С20 алкенила, которые необязательно могут быть замещены гидроксилом, алкокси или алкоксикарбонилом, или вместе с R1 могут образовывать двухвалентную группу D8, и
D8 выбирается из неразветвленного или разветвленного C1-C18 алкандиила, который необязательно может прерываться гетероатомами или двухвалентными группами, выбранными из О, S и NR10,
s представляет собой целое число от 1 до 250,
R10 выбирается из Н, С1-С20 алкила и C1-C20 алкенила, которые необязательно могут быть замещены гидроксилом, алкокси или алкоксикарбонилом.
2. Композиция по п. 1, где полиаминоамид представлен формулой IV
где D6, D7, R1, R2 и s имеют указанные значения, и
Е3, Е4 независимо выбираются из
(а) NH-С1-С20-алкила или NH-С1-С20-алкенила,
(b) N-(С1-С20-алкила)2 или N-(С1-С20-алкенила)2 или N-(С1-С20-алкил)(С1-С20-алкенила)
(c) NR2-D7-NR2H, или
(d) NR2-D7-NR2-CH2-CH2-CO-NH-(C1-C20-алкила) или NR2-D7-NR2-CH2-CH2-CO-NH-(C1-С20-алкенила).
3. Композиция по п. 2, где Е3 и Е4 независимо выбираются из NR1-D7-NR2H.
4. Композиция по п. 1, где металлические ионы содержат ион меди.
5. Композиция по п. 1, где D6 для каждой повторяющейся единицы от 1 до s независимо выбирается из (CH2)g, где g представляет собой целое число от 1 до 6.
6. Композиция по п. 1, где D7 выбирается из неразветвленного С2-С6-алкандиила.
7. Композиция по п. 1, где s представляет собой целое число от 1 до 150, более предпочтительно от 2 до 100, наиболее предпочтительно от 2 до 50.
8. Композиция по п. 1, где R1 выбирается из Н, С1-С20-алкила, С1-С20-алкенила, которые необязательно могут быть замещены гидроксилом, алкокси или алкоксикарбонилом.
9. Композиция по п. 1, где R2 выбирается из Н, С1-С20-алкила или С1-С20-алкенила, которые необязательно могут быть замещены гидроксилом, алкокси или алкоксикарбонилом.
10. Композиция по п. 1, где R1 и R2 вместе образуют двухвалентную группу D8, где D8 выбирается из неразветвленного или разветвленного C1-C18 алкандиила, который необязательно может прерываться гетероатомами или двухвалентными группами, выбранными из О, S и NR10, где R10 выбирается из H, С1-С20 алкила и С1-С20 алкенила, которые необязательно могут быть замещены гидроксилом, алкокси или алкоксикарбонилом.
11. Композиция по п. 1, дополнительно содержащая ускоряющий агент.
12. Композиция по любому одному из пп. 1-11, дополнительно содержащая подавляющий агент.
13. Применение полиаминоамида формулы I, как определено в любом одном из пп. 1-10, в ванне для осаждения слоев, содержащих металл.
14. Способ осаждения металлического слоя на подложке путем:
a) контакта электролитической ванны для нанесения металлического покрытия, содержащей композицию по любому из пп. 1-12, с подложкой, и
b) создания плотности тока в подложке в течение периода времени, достаточного для осаждения металлического слоя на подложку.
15. Способ по п. 14, отличающийся тем, что подложка содержит элементы поверхности микрометрового или нанометрового размера, и осаждение осуществляется с заполнением элементов поверхности микрометрового или нанометрового размера.
16. Способ по п. 15, отличающийся тем, что элементы поверхности нанометрового размера имеют размер от 1 до 1000 нм и/или коэффициент пропорциональности 4 или более.
