Электролит для нанесения гальванических покрытий методом химического восстановления и способ получения элемента высокотемпературного устройства с применением такого электролита - RU2008111820A

Реферат

1. Электролит для нанесения гальванического покрытия методом химического восстановления для формирования на подложке сплава Ni-Re-B, содержащего не менее 50 ат.% Re, путем нанесения гальванического покрытия методом химического восстановления; упомянутый электролит имеет pH от 6 до 8 и включает компонент, обеспечивающий источник поступления металла и содержащий Ni2+ и ReО4 - в равных эквивалентах в диапазоне от 0,01 до 0,5 моль/л; компонент-комплексообразователь, содержащий лимонную кислоту и, по меньшей мере, еще одну органическую кислоту при отношении молярной концентрации лимонной кислоты к сумме Ni2+ и ReО4 -, находящемся в диапазоне от 1/20 до 1/5, и при отношении молярной концентрации общего количества органической кислоты, включая упомянутую лимонную кислоту и упомянутую, по меньшей мере, еще одну органическую кислоту, к сумме Ni2+ и ReО4 -, находящемся в диапазоне от 1/2 до 10; и компонент-восстановитель, содержащий диметиламинборан при отношении молярной концентрации диметиламинборана к сумме Ni2+ и ReО4 -, находящемся в диапазоне от 1/4 до 2. ! 2. Электролит для нанесения гальванического покрытия методом химического восстановления по п.1, в котором упомянутая, по меньшей мере, еще одна органическая кислота представляет собой органическую кислоту с более слабой комплексообразующей способностью в отношении Re, чем лимонная кислота. ! 3. Электролит для нанесения гальванического покрытия методом химического восстановления по п.2, в котором органическая кислота с более слабой комплексообразующей способностью в отношении Re, чем лимонная кислота, представляет собой, по меньшей мере, одну из следующих кислот: янтарную кислоту, яблочную ки�