Неэлектрическое осаждение барьерных слоев - RU2010134880A

Реферат

1. Раствор для осаждения барьерных слоев на металлические поверхности, содержащий ! - соединения элементов никеля и молибдена, ! - по крайней мере один первый восстановитель, выбираемый из вторичных и третичных циклических аминоборанов, ! - по крайней мере один второй восстановитель, в частности фосфорноватистую кислоту или ее соль, и ! - по крайней мере один комплексообразователь, ! при этом раствор имеет значение рН от 8,5 до 12. ! 2. Раствор по п.1, содержащий в качестве первого восстановителя гетероциклический аминоборан, в частности морфолиноборан. ! 3. Раствор по п.1, где по крайней мере один комплексообразователь представляет собой гидроксикарбоновую кислоту. ! 4. Раствор по п.1, содержащий ! - соединение никеля в количестве от 0,01 до 0,2 моль/л, ! - соединение молибдена в количестве от 0,001 до 0,01 моль/л, ! - комплексообразователь в количестве от 0,01 до 0,3 моль/л, ! - первый восстановитель в количестве от 0,005 до 0,05 моль/л, ! - второй восстановитель в количестве от 0,1 до 0,3 моль/л. ! 5. Раствор по одному из пп.1-4, где молярное отношение соединения никеля к не менее чем одному комплексообразователю составляет от 1:1 до 1:2. ! 6. Применение раствора по одному из пп.1-5 для неэлектролитического осаждения слоев на металлические поверхности интегрированных проводящих схем, в состав которых входит медь. ! 7. Способ получения барьерных слоев неэлектролитическим осаждением на металлические поверхности полупроводниковых субстратов, включающий ! а) получение раствора, содержащего соединение элемента, выбираемого из никеля и кобальта, соединение элемента, выбираемого из молибдена, вольфрама и рения, и содержащего первый восстановитель, выбираемы