Реактор атомно-слоевого осаждения для обработки партии подложек и способ обработки партии подложек - RU2014124039A

Реферат

1. Способ, включающий:обеспечение модуля реакционной камеры реактора атомно-слоевого осаждения для обработки партии подложек способом атомно-слоевого осаждения; изагрузку партии подложек перед обработкой в модуль реакционной камеры по пути, отличающемуся от пути, по которому партию подложек разгружают после обработки.2. Способ по п. 1, включающий:предварительную обработку партии подложек в модуле предварительной обработки реактора атомно-слоевого осаждения;обработку предварительно обработанной партии подложек способом атомно-слоевого осаждения в модуле реакционной камеры реактора; изаключительную обработку обработанной партии подложек в модуле заключительной обработки реактора, причем модуль предварительной обработки, модуль реакционной камеры и модуль заключительной обработки расположены последовательно.3. Способ по п. 2, отличающийся тем, что обработка способом атомно-слоевого осаждения включает осаждение материала на партию подложек посредством последовательных самонасыщающихся поверхностных реакций.4. Способ по п. 2, отличающийся тем, что модуль предварительной обработки является модулем предварительного нагрева, а предварительная обработка включает предварительный нагрев партии подложек.5. Способ по п. 2, отличающийся тем, что модуль заключительной обработки является охлаждающим модулем, а заключительная обработка включает охлаждение партии подложек.6. Способ по п. 2, отличающийся тем, что он включает транспортировку партии подложек в одном направлении вдоль всей технологической линии, а технологическая линия включает модули предварительной обработки, реакционной камеры и заключительно�