Способ удаления поверхностных отложений и пассивирования внутренних поверхностей реактора химического осаждения из паровой фазы - RU2008108013A

Реферат

1. Активированная газовая смесь, содержащая ! от примерно 60% до примерно 75% атомов фтора, ! от примерно 10% до примерно 30% атомов азота, ! возможно, до примерно 15% атомов кислорода, и ! от примерно 0,3% до примерно 15% одного или более атомов, выбранных из группы, состоящей из углерода и серы. ! 2. Активированная газовая смесь по п.1, причем ! доля атомов фтора составляет от примерно 66% до примерно 74%, ! доля атомов азота составляет от примерно 11% до примерно 24%, ! доля атомов кислорода составляет от примерно 0,9% до примерно 11%, и ! доля одного или более атомов, выбранных из группы, состоящей из углерода и серы, составляет от примерно 0,6% до примерно 11%. ! 3. Активированная газовая смесь по п.1 или 2, в которой один или более атомов, выбранных из группы, состоящей из углерода и серы, является углеродом. ! 4. Активированная газовая смесь по п.1, дополнительно содержащая газ-носитель. ! 5. Активированная газовая смесь по п.4, в которой газ-носитель выбран из группы, состоящей из аргона и гелия. ! 6. Активированная газовая смесь по п.5, в которой газ-носитель является аргоном. ! 7. Способ травления и удаления поверхностных отложений с внутренних поверхностей CVD-аппарата, включающий ! активирование в удаленной камере газовой смеси, содержащей источник кислорода, источник одного или более атомов, выбранных из группы, состоящей из углерода и серы, и NF3, причем мольное отношение источника кислорода к источнику одного или более атомов, выбранных из группы, состоящей из углерода и серы, составляет по меньшей мере примерно 0,75:1, и причем мольная доля NF3 в указанной газовой смеси составляет от примерно 50% до примерно 98%; ! направление потока указанной активированной газов