Код документа: RU2011103924A
1. Способ двухстороннего осаждения слоя (7) покрытия из аморфного гидрогенизированного углерода на кремниевую пластину (4), содержащую первую главную сторону с первым скосом по кромке первой главной стороны и вторую главную сторону с центральным участком и вторым скосом по кромке второй главной стороны, окружающей центральный участок, причем вторая главная сторона противоположна первой главной стороне, включающий стадии, на которых: помещают пластину (4) на опору (31) для подложки держателя (3) подложки, причем опора (31) для подложки выполнена таким образом, что лишь центральный участок второй главной стороны пластины (4) находится в контакте с опорой (31) для подложки; помещают держатель подложки с пластиной (4) в реакционную камеру (8) плазменного реактора, в которой на первый и второй скосы одновременно воздействуют плазмой (6), с тем чтобы создавать осажденный слой (7), причем аморфный гидрогенизированный углерод осаждается из плазмы. ! 2. Способ по п.1, в котором температура пластины в процессе осаждения поддерживается ниже 200°С. ! 3. Способ по п.1, в котором пластину (4) охлаждают перед помещением на держатель (3) подложки, или держатель (3) подложки охлаждают перед помещением в реакционную камеру (8), или пластину (4) и держатель (3) подложки охлаждают перед помещением в реакционную камеру (8). ! 4. Способ по п.1, в котором реакционная камера (8) содержит два параллельных плоских электрода (1, 2), при этом пластину (4) принудительно охлаждают в процессе осаждения с помощью средства (22) охлаждения, расположенного в электродах (2) реакционной камеры (8), или пластину (4) принудительно охлаждают в процессе осаждения слоя с помощью средства (32) ох