Способ нанесения пленочного покрытия - RU2007105012A

Реферат

1. Способ нанесения пленочных покрытий, в котором поочередно осуществляют импульсную генерацию плазмы за счет распыления катодной мишени, осаждение вещества на подложку в течение времени t₁ с последующим, через временной промежуток τ, воздействием на покрытие импульсным пучком высокоэнергетических ионов, отличающийся тем, что в вакууме формируют стационарную плазму магнетронного разряда, осаждение покрытия осуществляют с помощью сильноточного высоковольтного диффузионного разряда, формируемого путем пропускания через стационарную плазму магнетронного разряда импульсов тока с плотностью 0,3-100 А/см² и длительностью t₁=10^-6...1 с частотой следования от однократного до 10³ Гц, временной промежуток τ выбирают больше, чем время рекомбинации плазмы сильноточного высоковольтного диффузионного разряда в объеме камеры распыления, воздействие импульсным пучком осуществляют с энергией пучка не более 10⁶ эВ, и при этом осуществляют подавление потока вторичных частиц в ускорительный промежуток при помощи средства подавления высоковольтного пробоя, которым снабжен генератор импульсного пучка ионов.

2. Способ по п.1, отличающийся тем, что воздействие импульсным пучком осуществляют при условии соотношения числа имплантируемых ионов к числу атомов осаждаемого вещества 1:10-10⁵.

3. Способ по п.1, отличающийся тем, что воздействие импульсным пучком осуществляют с энергией пучка не менее 10² эВ.

4. Способ по любому из пп.1-3, отличающийся тем, что в качестве средства подавления высоковольтного пробоя используют электростатические подавители вторичных электронов (супрессоры).

5. Способ по любому из пп.1-3, отличающийся тем, что в качестве средства подавления высоковольтного пробоя используют магнитные ловушки на входе импульсного ионного пучка в рабочий объем камеры, обеспечивающие замагничивание электронов плазмы.

6. Способ по любому из пп.1-3, отличающийся тем, что в вакуумном объеме предварительно создают магнитное поле мультипольной конфигурации с помощью 2n магнетронных генераторов плазмы, из которых 2m (1

7. Способ по любому из пп.1-3, отличающийся тем, что в вакуумном объеме предварительно создают магнитное поле мультипольной конфигурации с помощью 2n магнетронных генераторов плазмы, из которых 2m (1