Способ изготовления обработанной поверхности и вакуумные источники плазмы - RU2010122060A

Реферат

1. Способ изготовления обработанной поверхности, содержащий: ! обеспечение рабочего пространства внутри вакуумного приемника, в нем анода с анодной поверхностью из металла и катода, причем упомянутый металл устанавливает первый удельный импеданс по постоянному току; ! установление в упомянутом рабочем пространстве атмосферы газа или газовой смеси при желательном давлении или при желательных парциальных давлениях; ! генерирование плазменного разряда в упомянутом рабочем пространстве путем подачи между упомянутым анодом и упомянутым катодом электрического сигнала питания, содержащего постояннотоковую составляющую; ! обработку поверхности с помощью упомянутого плазменного разряда, с образованием тем самым в упомянутом рабочем пространстве твердого вещества, имеющего второй удельный электрический импеданс по постоянному току, который выше, чем упомянутый первый удельный импеданс по постоянному току, ! отличающийся созданием по меньшей мере одного участка упомянутой анодной поверхности, экранированного от упомянутого твердого вещества путем генерирования отдельной экранирующей плазмы на упомянутом по меньшей мере одном участке, протяженность которой, по существу, ограничена упомянутым по меньшей мере одним участком. ! 2. Способ по п.1, содержащий генерирование упомянутой экранирующей плазмы выполнением упомянутого экранируемого участка в виде участка поверхности полости, имеющей отверстие, открытое в упомянутое рабочее пространство, и генерированием в упомянутой полости упомянутой отдельной экранирующей плазмы исключительно за счет соответствующего выбора размеров упомянутой полости. ! 3. С