Система физического осаждения из газовой фазы с помощью плазменно-стимулированного процесса с дистанционным дуговым разрядом - RU2019133311A
Код документа: RU2019133311A
Формула
1. Система нанесения покрытия, содержащая:
камеру нанесения покрытия, имеющую периферийную стенку камеры, верхнюю стенку и нижнюю стенку, при этом указанные периферийная стенка камеры, верхняя стенка и нижняя стенка определяют полость нанесения покрытия и центр камеры;
источник плазмы, расположенный в центре камеры, при этом источник плазмы содержит центральный катодный стержень и множество катодных стержней, окружающих центральный катодный стержень; и
держатель образца, выполненный с возможностью удерживать множество подложек, подлежащих покрытию, причем держатель образца имеет возможность вращения вокруг центра камеры на первом расстоянии от центра камеры.
2. Система нанесения покрытия по п. 1, дополнительно содержащая центральную катушку, окружающую центральный катодный стержень.
3. Система нанесения покрытия по п. 1, дополнительно содержащая по меньшей мере один дистанционный анод, расположенный на втором расстоянии от центра камеры рядом с периферийной стенкой камеры.
4. Система нанесения покрытия по п. 1, в которой множество катодных стержней включает в себя от 1 до 10 стержневидных катодов, имеющих продольную ось, ориентированную параллельно периферийной стенке камеры.
5. Система нанесения покрытия по п. 4, в которой каждый катодный стержень из множества катодных стержней выполнен с возможностью вращения вокруг продольной оси.
6. Система нанесения покрытия по п. 5, дополнительно содержащая множество блокирующих экранов, так что между чередующимися парами катодных стержней из множества катодных стержней расположен блокирующий экран.
7. Система нанесения покрытия по п. 1, дополнительно содержащая первый изолирующий экран, расположенный между держателем образца и периферийной стенкой камеры, и второй изолирующий экран, расположенный между источником плазмы и держателем образца.
8. Система нанесения покрытия по п. 7, в которой первый изолирующий экран представляет собой внешний металлический сетчатый экран, а второй изолирующий экран представляет собой внутренний металлический сетчатый экран.
9. Система нанесения покрытия по п. 8, в которой подложки имеют такой же потенциал смещения, что и внутренний металлический экран.
10. Система нанесения покрытия по п. 9, дополнительно содержащая источник питания постоянного тока, имеющий положительный вывод и отрицательный вывод, причем отрицательный вывод соединен с первым изолирующим экраном.
11. Система нанесения покрытия по п. 1, выполненная с возможностью ионной очистки и ионного кондиционирования поверхности в газовой плазме полого катода, создаваемой в отрицательно заряженном металлическом сетчатом контейнере.
12. Система нанесения покрытия по п. 1, выполненная с возможностью плазменно-стимулированного магнетронного распыления (PEMS).
13. Система нанесения покрытия по п. 1, в которой верхняя стенка представляет собой верхний фланец, расположенный на верхнем торце периферийной стенки камеры, а нижняя стенка представляет собой нижний фланец, расположенный на нижнем торце периферийной стенки камеры.
14. Система нанесения покрытия, содержащая:
камеру нанесения покрытия, имеющую периферийную стенку камеры, верхнюю стенку и нижнюю стенку, при этом указанные периферийная стенка камеры, верхняя стенка и нижняя стенка определяют полость нанесения покрытия и центр камеры;
источник плазмы, расположенный в центре камеры, при этом источник плазмы содержит центральный катодный стержень;
держатель образца, выполненный с возможностью удерживать множество подложек, подлежащих покрытию, причем держатель образца имеет возможность вращения вокруг центра камеры на первом расстоянии от центра камеры; и
первую коаксиальную магнитную катушку, расположенную снаружи камеры нанесения покрытия, и вторую коаксиальную магнитную катушку, расположенную снаружи камеры для нанесения покрытия.
15. Система нанесения покрытия по п. 14, в которой первая коаксиальная магнитная катушка расположена рядом с периферийной стенкой камеры, и вторая коаксиальная магнитная катушка расположена рядом с периферийной стенкой камеры.
16. Система нанесения покрытия по п. 14, дополнительно содержащая центральную катушку, окружающую центральный катодный стержень.
17. Система нанесения покрытия по п. 14, дополнительно содержащая по меньшей мере один дистанционный анод, расположенный на втором расстоянии от центра камеры рядом с периферийной стенкой камеры.
18. Система нанесения покрытия по п. 14, дополнительно содержащая множество катодных стержней, окружающих центральный катодный стержень.
19. Система покрытия по п. 18, в которой каждый катодный стержень из множества катодных стержней выполнен с возможностью вращения вокруг продольной оси.
20. Система нанесения покрытия по п. 18, дополнительно содержащая множество блокирующих экранов, так что между чередующимися парами катодных стержней из множества катодных стержней расположен блокирующий экран.
21. Система нанесения покрытия по п. 14, дополнительно содержащая первый изолирующий экран, расположенный между держателем образца и периферийной стенкой камеры, и второй изолирующий экран, расположенный между источником плазмы и держателем образца.
22. Система нанесения покрытия по п. 21, в которой первый изолирующий экран представляет собой внешний металлический сетчатый экран, а второй изолирующий экран представляет собой внутренний металлический сетчатый экран.
