Способ плазменного борирования - RU2008115510A

Реферат

1. Способ борирования металлической поверхности, включающий стадии: ! (а) внесение КВХ4, в котором каждый Х представляет собой галоген; ! (b) нагревание КВХ4 при температуре, достаточной для высвобождения ВХ3; и ! (с) приложение плазменного заряда к ВХ3 для создания одной или более активированных борсодержащих частиц для диффундирования в металлическую поверхность. ! 2. Способ по п.1, в котором КВХ4 вносится в присутствии металлической поверхности. ! 3. Способ по п.1, в котором одна или более активированных борсодержащих частиц избираются из В+, ВХ+, ВХ2 + или ВХ3 +. ! 4. Способ по п.3, в котором плазменный заряд представляет собой плазму тлеющего разряда. ! 5. Способ по п.1, в котором металлическая поверхность представляет собой железосодержащую металлическую поверхность. ! 6. Способ по п.5, в котором металлическая поверхность включает сталь, феррохром с высоким содержанием хрома или титановый сплав. ! 7. Способ по п.1, в котором металлическая поверхность представляет собой титан или титансодержащий металл. ! 8. Способ по п.1, в котором КВХ4 нагревается при температуре от 700 до 900°С. ! 9. Способ по п.1, далее включающий стадию введения газообразного водорода. ! 10. Способ по п.9, в котором газообразный водород вводится в потоке аргона. ! 11. Способ плазменного борирования, включающий стадии: ! (а) внесение КВХ4, в котором Х представляет собой галоген; ! (b) термическое разложение названного КВХ4 с образованием КХ и ВХ3; ! (с) направление названного ВХ3 в плазму, сформированную инертным газом, в котором состав и условия формирования плазмы подбираются так, что ВХ3 разлагается на ВХ2 + и Х-; и ! (d) обеспечение возможности названному ВХ2 + реагировать с металлом.