Абразивные композиции для чистки твердых поверхностей - RU2005132177A

Реферат

1. Водная кислотная чистящая композиция, содержащая кислоту, абразив и анионное поверхностно-активное вещество, отличающаяся тем, что анионное поверхностно-активное вещество способно образовывать структурированную жидкость с разбавленной кислотой; композиция содержит неорганическую кислоту; композиция имеет рН в диапазоне от 0 до 2; композиция представляет собой пасту, характеризующуюся значением вязкости на плато, превышающим 1000 Па·с при напряжении сдвига, меньшем 10 Па, и характеризуется вязкостью, равной, по меньшей мере, 0,1 Па·с при напряжении сдвига, равном 100 Па.

2. Композиция по п.2, характеризующаяся тем, что неорганическую кислоту выбирают из серной кислоты и сульфаминовой кислоты.

3. Композиция по п.1, характеризующаяся тем, что она дополнительно содержит ди- либо поликарбоновую кислоту.

4. Композиция по п.2, характеризующаяся тем, что она дополнительно содержит ди- либо поликарбоновую кислоту.

5. Композиция по п.1, характеризующаяся тем, что композиция имеет рН, равный либо меньший 1.

6. Композиция по п.4, характеризующаяся тем, что композиция имеет рН, равный либо меньший 1.

7. Композиция по любому из пп.1-6, характеризующаяся тем, что она содержит 20-75% минерального абразива, характеризующегося твердостью по Моосу в диапазоне от 1 до 7 и средневзвешенным размером частиц в диапазоне от 0,5 до 500 мкм.

8. Композиция по любому из пп.1-6, характеризующаяся тем, что анионное поверхностно-активное вещество выбирают из алкилбензолсульфонатов и вторичных алкансульфонатов, и оно присутствует в количестве в диапазоне от 2 до 25% от количества жидкой фазы.

9. Композиция по п.7, характеризующаяся тем, что анионное поверхностно-активное вещество выбирают из алкилбензолсульфонатов и вторичных алкансульфонатов, и оно присутствует в количестве в диапазоне от 2 до 25% от количества жидкой фазы.

10. Композиция по любому из пп.1-6, характеризующаяся тем, что она содержит кислотостойкий загуститель.

11. Композиция по п.7, характеризующаяся тем, что она содержит кислотостойкий загуститель.

12. Композиция по п.8, характеризующаяся тем, что она содержит кислотостойкий загуститель.

13. Композиция по п.10, характеризующаяся тем, что кислотостойкий загуститель выбирают из загущающего диоксида кремния и загущающей глины, и его используют в количестве в диапазоне 1-25% от количества жидкой фазы.

14. Композиция по п.11, характеризующаяся тем, что кислотостойкий загуститель выбирают из загущающего диоксида кремния и загущающей глины, и его используют в количестве в диапазоне 1-25% от количества жидкой фазы.

15. Композиция по п.12, характеризующаяся тем, что кислотостойкий загуститель выбирают из загущающего диоксида кремния и загущающей глины, и его используют в количестве в диапазоне 1-25% от количества жидкой фазы.

16. Композиция по любому из пп.1-6, характеризующаяся тем, что она не содержит цвиттер-ионного либо катионного поверхностно-активного вещества.

17. Композиция по п.7, характеризующаяся тем, что она не содержит цвиттер-ионного либо катионного поверхностно-активного вещества.

18. Композиция по п.8, характеризующаяся тем, что она не содержит цвиттер-ионного либо катионного поверхностно-активного вещества.

19. Композиция по п.10, характеризующаяся тем, что она не содержит цвиттер-ионного либо катионного поверхностно-активного вещества.

20. Композиция по любому из пп.1-6, характеризующаяся тем, что она не содержит неионных либо амфотерных поверхностно-активных веществ.

21. Композиция по п.7, характеризующаяся тем, что она не содержит неионных либо амфотерных поверхностно-активных веществ.

22. Композиция по п.8, характеризующаяся тем, что она не содержит неионных либо амфотерных поверхностно-активных веществ.

23. Композиция по п.10, характеризующаяся тем, что она не содержит неионных либо амфотерных поверхностно-активных веществ.

24. Способ удаления пятен ржавчины и известкового налета с твердых поверхностей, включающий стадии нанесения на пятно композиции по любому из пп.1-23, оставления композиции на пятне в течение времени, достаточно продолжительного для удаления всего либо части пятна в результате растворения, при желании удаления остатков пятна при использовании механического абразивного действия и удаления композиции в результате вытирания и/или ополаскивания.