Гравировальные пасты для неорганических поверхностей - RU2002130248A

Реферат

1. Печатаемое, гомогенное, свободное от частиц гравировальное средство, обладающее неньютоновским характером течения, для гравировки неорганических, стеклоподобных или кристаллических поверхностей.

2. Печатаемое гравировальное средство по п.1 для поверхностей стекол, выбираемых из группы, состоящей из стекол, основанных на оксиде кремния, и стекол, основанных на нитриде кремния.

3. Печатаемое гравировальное средство по пп.1 и 2, для поверхностей стекол, включающих элементы, выбираемые из группы, состоящей из кальция, натрия, алюминия, свинца, лития, магния, бария, калия, бора, бериллия, фосфора, галлия, мышьяка, сурьмы, лантана, скандия, цинка, тория, меди, хрома, марганца, железа, кобальта, никеля, молибдена, ванадия, титана, золота, платины, палладия, серебра, церия, цезия, ниобия, тантала, циркония, иттрия, неодима и празеодима.

4. Печатаемое гравировальное средство по пп.1 - 3, отличающееся тем, что оно представляет собой гравировальную пасту, обладающую неньютоновским характером течения.

5. Печатаемое гравировальное средство по пп.1 - 4, отличающееся тем, что оно представляет собой гомогенную, свободную от частиц гравировальную пасту, которая включает а) по меньшей мере один гравировальный компонент для неорганических поверхностей, b) растворитель, с) сгуститель, d) при желании, органическую(ие) и/или неорганическую(ие) кислоту(ы), е) при желании, добавки, такие как противопенящие агенты, тиксотропные агенты, агенты для контроля над потоком, агенты деаэрации и промоторы адгезии; которое эффективно даже при температурах от 15 до 50°С или активируется, при необходимости вводом энергии.

6. Гравировальное средство по п.5, отличающееся тем, что оно включает, в качестве гравирующего компонента, по меньшей мере одно соединение, выбираемое из группы, состоящей из фторидов, бифторидов и тетрафтороборатов и, при желании, по меньшей мере одной неорганической и/или органической кислоты, причем гравировальный(е) компонент(ы) присутствуют в концентрации от 2 до 20 вес.%, предпочтительно от 5 до 15 вес.%, исходя из общего количества.

7. Гравировальное средство по пп.5 и 6, отличающееся тем, что оно включает, в качестве гравирующего компонента, по меньшей мере одно соединение фтора, выбираемое из группы, состоящей из фторидов аммиака, щелочных металлов и сурьмы, бифторидов аммиака, щелочных металлов и кальция и тетрафтороборатов алкилированного аммиака и калия и, при желании, по меньшей мере одной неорганической минеральной кислоты, выбираемой из группы, состоящей из соляной кислоты, фосфорной кислоты, серной кислоты и азотной кислоты и/или, при желании, по меньшей мере, одной органической кислоты, которая может содержать прямоцепочечный или разветвленный алкильный радикал, имеющий 1-10 атомов углерода, выбираемой из группы, состоящей из алкилкарбоновых кислот, гидроксикарбоновых кислот и дикарбоновых кислот.

8. Гравировальное средство по п.5, отличающееся тем, что оно включает органическую кислоту, выбираемую из группы, состоящей из муравьиной кислоты, уксусной кислоты, молочной кислоты и щавелевой кислоты.

9. Гравировальное средство по пп.5 - 8, отличающееся тем, что доля органических и/или неорганических кислот лежит в диапазоне концентраций от 0 до 80 вес.%, исходя из общего количества средства, каждая из добавленных кислот имеет значение рК_а от 0 до 5.

10. Гравировальное средство по п.5, отличающееся тем, что оно включает, в качестве растворителя, воду, моноатомные или многоатомные спирты, такие как глицерин, 1,2-пропандиол, 1,4-бутандиол, 1,3-бутандиол, 1,5-пентандиол, 2-этил-1-гексанол, этиленгликоль, диэтиленгликоль и дипропиленгликоль, а также их простые эфиры, такие как этиленгликольмонобутиловый эфир, триэтиленгликольмонометиловый эфир, диэтиленгликольмонобутиловый эфир и дипропиленгликольмонометиловый эфир, и сложные эфиры, такие как [2,2-бутокси(этокси)]этилацетат, сложные эфиры угольной кислоты, такие как пропиленкарбонат, кетоны, такие как ацетофенон, метил-2-гексанон, 2-октанон, 4-гидрокси-4-метил-2-пентанон и 1-метил-2-пирролидон, как такие или в смеси, в количестве от 10 до 90 вес.%, предпочтительно в количестве от 15 до 85 вес.%, исходя из общего количества средства.

11. Гравировальное средство по п.5, отличающееся тем, что оно включает в качестве сгустителя от 0,5 до 25 вес.%, предпочтительно от 3 до 20 вес.%, исходя из общего количества гравировального средства, целлюлозы/производных целлюлозы, крахмала/производных крахмала и/или полимеров, основанных на акрилате или функционализированных виниловых звеньев.

12. Гравировальное средство по п.5, отличающееся тем, что оно включает от 0 до 5 вес.%, исходя из общего количества, добавок, выбираемых из группы, состоящей из противовспенивателей, тиксотропных агентов, агентов, контролирующих поток, агентов деаэрации и промоторов адгезии.

13. Применение гравировального средства по пп.1-12 в способе гравировки, при котором его наносят на поверхность, подвергающуюся гравировке и потом удаляют по прошествии времени выдержки в 1-15 мин.

14. Применение гравировального средства по пп.1 - 12 в фотоэлектриках, полупроводниковой технологии, высокоточной электронике, минералогии или стекольной промышленности, а также для получения фотодиодов, обзорных стекол для клапанов или измерительного оборудования, стеклянных основ для наружного применения, для производства гравированных стеклянных поверхностей в медицинской, декоративной и гигиенической областях, для производства гравированных стеклянных контейнеров для косметической продукции, пищи и напитков, для получения маркировки или этикеток на контейнерах и при производстве плоского стекла.

15. Применение гравировального средства по пп.1 - 12 при способах трафаретной печати, шелково-трафаретной печати, подушечной печати, печати при помощи штампов, струйной печати и ручной печати.

16. Применение гравировального средства по пп.1 - 12 для получения стеклянных основ для солнечных элементов или тепловых коллекторов.

17. Применение гравировального средства по пп.1 - 12 для гравировки стекол, содержащих SiO₂- или нитрид кремния, в виде однородного полного, непористого или пористого твердых веществ или соответствующих непористых или пористых слоев стекла различной толщины, полученных на других субстратах.

18. Применение гравировального средства по пп.1-12 для гравирования однородных, твердых, непористых или пористых стекол, основанных на системах из оксида кремния или нитрида кремния, и слоев с различной толщиной из таких систем.

19. Применение гравировального средства по пп.1 - 12 для удаления слоев из оксида кремния/оксида кремния с добавками и нитрида кремния, для селективного открытия слоев пассивации из оксида кремния или нитрида кремния для генерирования двустадийных селективных излучателей и/или локальных областей задней поверхности p⁺ и для гравировки кромки солнечных элементов с покрытием из оксида кремния и нитрида кремния.

20. Применение гравировального средства по пп.1 - 12 для открытия слоев пассивации из оксида кремния и нитрида кремния в способе получения полупроводниковых компонентов и их контуров.

21. Применение гравировального средства по пп.1 - 12 для открытия слоев пассивации из оксида кремния и нитрида кремния в способе получения компонентов для высокоточной электроники.

22. Применение гравировального средства по пп.1 - 12 для минералогических, геологических и микроструктурных исследований.

23. Способ гравировки неорганических, стеклоподобных, кристаллических поверхностей, отличающийся тем, что гравировальное средство по пп.1-12 наносят на всю поверхность или конкретно, согласно структурной маске гравировки, только на точки, в которых гравировка является желаемой, и, после завершения гравировки, смывают при помощи растворителя или смеси растворителей или выжигают в печи.

24. Способ по п.23, отличающийся тем, что гравировальное средство смывают водой после завершения гравировки.