Звездообразные разветвленные кремнийорганические полимеры в качестве добавок, препятствующих образованию тумана, для применения в покрытиях - RU2005118412A

Реферат

1. Композиция для уменьшения образования тумана во время нанесения покрытия на гибкие основы, содержащая продукт реакции гидросилилирования

a) M_aM^H_bD_cD^H_dT_eT^H_f и

b) количества α CH₂=CHR¹

где α+1≤b+d+f и g≤b, h≤d, i≤f, при этом, 1,5b≤+d+f≤100; 2≤a+b≤12; 0≤c+d≤1000; 0≤e+f≤10, и R¹ представляет собой одновалентный радикал, выбранный из группы, состоящей из галогенов, водорода, C1-C60 одновалентных углеводородных радикалов, C1-C60 одновалентных радикалов сложных полиэфиров, C1-C60 одновалентных нитрильных радикалов, C1-C60 одновалентных алкилгалогенидных радикалов и C1-C60 одновалентных радикалов простых полиэфиров и их смесей, где

M=R²R³R⁴SiO_1/2;

M^H=HR⁵R⁶SiO_1/2;

D=R⁷R⁸ SiO_2/2;

D^H=HR⁹SiO_2/2;

T=R¹¹SiO₃/₂;

T^H=HSiO_3/2;

и указанный продукт реакции имеет формулу

M'_gM_aM^H_b-gD_cD'_hD^H_d-hT_eT'_iT^H_f-i, где

M'=(CH₂CHR¹)R⁵R⁶SiO_1/2;

D'=(CH₂CHR¹)R⁹SiO_2/2 и

T'=(CH₂CHR¹)SiO_3/2,

при этом каждый из R², R³, R⁴, R⁵ , R⁶, R⁷, R⁸, R⁹ и R¹¹ независимо выбирается из группы C1-C60 одновалентных углеводородных радикалов, где нижние индексы a, b, c, d, e, f, g, h и i равны нулю или положительным числам, с теми ограничениями, что b+d+f-g-h-i>0.

2. Композиция, содержащая продукт реакции гидросилилирования

a) композиции продукта реакции по п. 1 и

b) (M_jM^Vi_kD_lD^Vi_mT_nT^Vi_o)_pQ)_q, где

нижние индексы j, k, l, m, n, o и p равны нулю или положительным числам, с теми ограничениями, что k+m+o>0, k+m+o

(b+d+f-g-h-i)/(((k+m+o)p)q) находится в пределах от 4,59 до 0,25, где

M^vi=R^ViR⁵R⁶SiO_1/2;

D^Vi=R^ViR¹⁰SiO_2/2;

T^Vi=R^ViSiO_3/2;

Q=SiO_4/2, где

R¹⁰ независимо выбирается из группы C1-C60 одновалентных углеводородных радикалов, и каждый R^Vi независимо выбирается из группы C2-C60 одновалентных алкенильных углеводородных радикалов.

3. Композиция по п. 2, в которой R¹ выбирается из группы, состоящей из C1-C60 одновалентных углеводородных радикалов, C1-C60 одновалентных радикалов сложных полиэфиров, C1-C60 одновалентных нитрильных радикалов, C1-C60 одновалентных алкилгалогенидных радикалов и C1-C60 одновалентных радикалов простых полиэфиров.

4. Композиция по п. 2, в которой R¹ выбирается из группы, состоящей из C15-C60 одновалентных углеводородных радикалов, C15-C60 одновалентных радикалов сложных полиэфиров, C15-C60 одновалентных нитрильных радикалов, C15-C60 одновалентных алкилгалогенидных радикалов и C15-C60 одновалентных радикалов простых полиэфиров.

5. Композиция по п. 2, в которой R¹ выбирается из группы, состоящей из C30-C60 одновалентных углеводородных радикалов, C30-C60 одновалентных радикалов сложных полиэфиров, C30-C60 одновалентных нитрильных радикалов, C30-C60 одновалентных алкилгалогенидных радикалов и C30-C60 одновалентных радикалов простых полиэфиров.

6. Композиция по п. 3, в которой каждый R², R³, R⁴, R⁵, R⁶, R⁷, R⁸, R⁹, R¹⁰ и R¹¹ представляют собой метил.

7. Композиция по п. 4, в которой каждый R², R³, R⁴, R⁵, R⁶, R⁷, R⁸, R⁹, R¹⁰ и R¹¹ представляет собой метил.

8. Композиция по п. 5, в которой каждый R², R³, R⁴, R⁵, R⁶, R⁷, R⁸, R⁹, R¹⁰ и R¹¹ представляет собой метил.

9. Композиция по п. 2, в которой R¹ представляет собой стирил.

10. Композиция по п. 9, в которой каждый R², R³, R⁴, R⁵, R⁶, R⁷, R⁸, R⁹, R¹⁰ и R¹¹ представляет собой метил.

11. Композиция, содержащая продукт реакции гидросилилирования

a) M_aM^H_bD_cD^H_dT_eT^H_f и

b) количества α CH₂=CHR¹,

где α+1≤b+d+f и g≤b, h≤d, i≤f, при этом 1,5≤b+d+f≤100; 2≤a+b≤12; 0≤c+d≤1000; 0≤e+f≤10, и R¹ представляет собой одновалентный радикал, выбранный из группы, состоящей из галогенов, водорода, C1-C60 одновалентных углеводородных радикалов, C1-C60 одновалентных радикалов сложных полиэфиров, C1-C60 одновалентных нитрильных радикалов, C1-C60 одновалентных алкилгалогенидных радикалов и C1-C60 одновалентных радикалов простых полиэфиров и их смесей, где

M=R²R³R⁴SiO_1/2;

M^H=HR⁵R⁶SiO_1/2;

D=R⁷R⁸SiO_2/2;

D^H=HR⁹SiO_2/2;

T=R¹¹SiO₃/₂;

T^H=HSiO_3/2;

и указанный продукт реакции имеет формулу

M'_gM_aM^H_b-gD_cD'_hD^H_d-hT_eT'_iT^H_f-i, где

M'=(CH₂CHR¹)R⁵R⁶SiO_1/2;

D'=(CH₂CHR¹)R⁹SiO_2/2 и

T'=(CH₂CHR¹)SiO_3/2,

при этом каждый из R², R³, R⁴ , R⁵, R⁶, R⁷, R⁸, R⁹ и R¹¹ независимо выбирается из группы C1-C60 одновалентных углеводородных радикалов, где нижние индексы a, b, c, d, e, f, g, h и i равны нулю или положительным числам, с теми ограничениями, что g>0; b-g>0; h>0; и d-h>0.

12. Композиция, содержащая продукт реакции гидросилилирования

a) продукта реакции композиции по п. 11 и

b) (M_jM^Vi_kD_lD^Vi_mT_nT^Vi_o)_pQ)_q, где

нижние индексы j, k, l, m, n, o и p равны нулю или положительным числам, с теми ограничениями, что k+m+o> 0, k+m+o

(b+d+f-g-h-i)/(((k+m+o)p)q) находится в пределах от 4,59 до 0,25, где

M^vi=R^ViR⁵R⁶SiO_1/2;

D^Vi=R^ViR¹⁰SiO_2/2;

T^Vi=R^ViSiO_3/2;

Q=SiO_4/2, где

R¹⁰ независимо выбирается из группы C1-C60 одновалентных углеводородных радикалов, и каждый R^Vi независимо выбирается из группы C2-C60 одновалентных алкенильных углеводородных радикалов.

13. Композиция по п. 12, в которой R¹ выбирается из группы, состоящей из C1-C60 одновалентных углеводородных радикалов, C1-C60 одновалентных радикалов сложных полиэфиров, C1-C60 одновалентных нитрильных радикалов, C1-C60 одновалентных алкилгалогенидных радикалов и C1-C60 одновалентных радикалов простых полиэфиров.

14. Композиция по п. 12, в которой R¹ выбирается из группы, состоящей из C15-C60 одновалентных углеводородных радикалов, C15-C60 одновалентных радикалов сложных полиэфиров, C15-C60 одновалентных нитрильных радикалов, C15-C60 одновалентных алкилгалогенидных радикалов и C15-C60 одновалентных радикалов простых полиэфиров.

15. Композиция по п. 12, в которой R¹ выбирается из группы, состоящей из C30-C60 одновалентных углеводородных радикалов, C30-C60 одновалентных радикалов сложных полиэфиров, C30-C60 одновалентных нитрильных радикалов, C30-C60 одновалентных алкилгалогенидных радикалов и C30-C60 одновалентных радикалов простых полиэфиров.

16. Композиция по п. 13, в которой каждый из R², R³, R⁴, R⁵, R⁶, R⁷, R⁸, R⁹, R¹⁰ и R¹¹ представляет собой метил.

17. Композиция по п. 14, в которой каждый из R², R³, R⁴, R⁵, R⁶, R⁷, R⁸, R⁹, R¹⁰ и R¹¹ представляет собой метил.

18. Композиция по п. 15, в которой каждый из R², R³, R⁴, R⁵, R⁶, R⁷, R⁸, R⁹, R^I0 и R¹¹ представляет собой метил.

19. Композиция по п. 12, в которой R¹ представляет собой стирил.

20. Композиция по п. 19, в которой каждый из R², R³, R⁴, R⁵, R⁶, R⁷, R⁸, R⁹, R¹⁰ и R¹¹ представляет собой метил.

21. Способ уменьшения образования тумана при нанесении покрытий на гибкую основу, указанный способ включает получение композиции покрытия для нанесения покрытия на указанную основу и добавление к ней композиции по п. 11.

22. Способ уменьшения образования тумана при нанесении покрытий на гибкую основу, указанный способ включает получение композиции покрытия для нанесения покрытия на указанную основу и добавление к ней композиции по любому из пп. 12-20.