Многослойное тело и способ изготовления многослойного тела - RU2007133613A

Реферат

1. Способ изготовления многослойного тела (100, 100') с частично отформованным первым слоем (3m), отличающийся тем, что в первой области репликационного слоя (3) многослойного тела формуют дифракционную первую рельефную структуру (4), первый слой (3m) наносят на репликационный слой (3) в первой области и во второй области, в которой первая рельефная структура в репликационном слое (3) не отформована, с постоянной поверхностной плотностью по отношению к заданной репликационным слоем (3) плоскости, на первый слой (3m) наносят фоточувствительный слой (8) или в качестве репликационного слоя наносят фоточувствительную смывочную маску, фоточувствительный слой или смывочную маску (8) экспонируют через первый слой (3m), так что фоточувствительный слой или смывочная маска (8) вследствие первой рельефной структуры экспонируются по-разному в первой и во второй областях, и первый слой (3m) удаляют с использованием экспонированного фоточувствительного слоя или смывочной маски (8) в качестве маскирующего слоя в первой области, но не во второй области, либо во второй области, но не в первой области.

2. Способ по п.1, отличающийся тем, что первый слой (3m) наносят на репликационный слой (3) по всей поверхности, в частности, осаждением из паровой фазы.

3. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что первый слой (3m) наносят на репликационный слой (3) с толщиной, при которой первый слой (3m) обладает оптической плотностью более 1,5.

4. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что первый слой (3m) наносят на репликационный слой (3) по всей поверхности с толщиной, при которой первый слой (3m) обладает оптической плотностью между 2 и 7.

5. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что первый слой (3m) формируют металлическим слоем или слоем из металлического сплава.

6. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что во второй области в репликационном слое формуют вторую рельефную структуру, и в качестве первой рельефной структуры в репликационном лаковом слое формуют дифракционную рельефную структуру, которая повышает пропускание, в частности прозрачность, первого слоя (3m) в первой области относительно пропускания, в частности прозрачности, первого слоя (3m) во второй области.

7. Способ по п.6, отличающийся тем, что первая рельефная структура имеет большую глубину рельефа, чем вторая рельефная структура.

8. Способ по п.6, отличающийся тем, что произведение пространственной частоты и глубины рельефа первой рельефной структуры является большим, чем произведение пространственной частоты и глубины рельефа второй рельефной структуры.

9. Способ по п.6, отличающийся тем, что первая или вторая рельефная структура выполнена в виде оптически активной, отражающей или пропускающей светодифрагирующей, и/или светопреломляющей, и/или светорассеивающей микро- или наноструктуры, например в виде решетчатой структуры, такой как линейная решетка или пересекающаяся решетка, в виде изотропной или анизотропной матовой структуры, в виде бинарных или непрерывных линз Френеля, в виде микропризмы, в виде блестящей решетки, в виде комбинированной структуры или в виде макроструктуры.

10. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что в первой области в качестве первой рельефной структуры формуют дифракционную рельефную структуру с высоким отношением глубины к ширине отдельных элементов структуры, в частности с отношением глубины к ширине >0,3.

11. Способ по п.10, отличающийся тем, что вторую рельефную структуру выполняют в виде рельефной структуры с более низким отношением глубины к ширине.

12. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что во второй области граница раздела между репликационным слоем и первым слоем является, по существу, плоской.

13. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что в качестве фоточувствительного слоя (8) или в качестве фоточувствительной смывочной маски наносят фоточувствительный материал с бинарной характеристикой, и фоточувствительный слой или фоточувствительную смывочную маску экспонируют через первый слой при такой силе экспонирования и такой длительности экспонирования, что фоточувствительный слой (8) или фоточувствительную смывочную маску активируют в первой области, в которой пропускание первого слоя (3m) повышено первой рельефной структурой, и не активируют во второй области.

14. Способ по п.13, отличающийся тем, что фоточувствительный слой или смывочную маску (8) экспонируют через первый слой (3m) посредством УФ-излучения.

15. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что активированные экспонированием области фоточувствительной смывочной маски и расположенные там области первого слоя (3m) удаляют в процессе смывки.

16. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что экспонированный через первый слой (3m) фоточувствительный слой (8) проявляют, и проявленный фоточувствительный слой (8) образует маску травления для первого слоя (3m).

17. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что фоточувствительный слой активируют экспонированием в первой области, в которой пропускание первого слоя (3m) повышено первой рельефной структурой, и активированный фотоактивируемый слой образует травитель для первого слоя (3m).

18. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что фоточувствительный слой (8) выполняют из фоторезиста.

19. Способ по п.18, отличающийся тем, что фоторезист выполняют из позитивного фоторезиста.

20. Способ по п.18, отличающийся тем, что фоторезист выполняют из негативного фоторезиста.

21. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что фоточувствительный слой (8) выполняют из фотополимера.

22. Способ по п.16, отличающийся тем, что остатки масок травления удаляют.

23. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что в те области, в которых первый слой (3m) удален, вводят второй слой (3р).

24. Способ по п.23, отличающийся тем, что все еще остающиеся области первого слоя (3m) удаляют и заменяют третьим слоем (3р').

25. Многослойное тело, изготавливаемое по одному из пп.1-24, с репликационным слоем (3) и по меньшей мере одним частично отформованным первым слоем (3m), расположенным на репликационном слое, отличающееся тем, что в первой области репликационного слоя (3) отформована дифракционная первая рельефная структура, во второй области репликационного слоя (3) первая рельефная структура в репликационном слое (3) не отформована, и первый слой (3m) частично удален в соответствии с расположением первой рельефной структуры так, что первый слой (3m) удален с точным совмещением с первой рельефной структурой в первой области, но не во второй области, либо во второй области, но не в первой области, при этом первый слой (3m) в первой области существует в виде линий и/или точек с шириной и/или диаметром в диапазоне между 200 нм и 5 мкм.

26. Многослойное тело по п.25, отличающееся тем, что вторая область отформована узорчато, и первая область и вторая область расположены непосредственно прилегающими друг к другу, предпочтительно вторая область охвачена первой областью либо первая область охвачена второй областью.

27. Многослойное тело по п.25, отличающееся тем, что вторая область состоит из двух или более участков, охваченных первой областью, во второй области в репликационном слое отформована оптически активная вторая рельефная структура, и первый слой является отражающим слоем, который удален в первой области и поэтому расположен с точным совмещением со второй рельефной структурой.

28. Многослойное тело по п.25, отличающееся тем, что первая область состоит из двух или более участков, охваченных второй областью, или наоборот, и первый слой является отражающим слоем, который удален во второй области и поэтому расположен с точным совмещением с первой рельефной структурой.

29. Многослойное тело по п.25 или 26, отличающееся тем, что участки второй области или участки первой области имеют ширину меньше, чем 2 мм, предпочтительно меньше, чем 1 мм.

30. Многослойное тело по п.25 или 26, отличающееся тем, что второй слой (3р) расположен в тех областях репликационного слоя (3), в которых не присутствует первый слой (3m).

31. Многослойное тело по п.25 или 26, отличающееся тем, что первый слой (3m) и/или второй слой (3p) выполнен(ы) из диэлектрика, например из TiO₂ или ZnS.

32. Многослойное тело по п.30, отличающееся тем, что второй слой (3p) выполнен из диэлектрика, например из TiO₂ или ZnS.

33. Многослойное тело по п.32, отличающееся тем, что первый слой (3m) и второй слой (3p) выполнены с разными показателями преломления.

34. Многослойное тело по п.30, отличающееся тем, что первый слой (3m) и/или второй слой (3p) выполнен(ы) из полимера.

35. Многослойное тело по п.30, отличающееся тем, что первый слой (3m) и/или второй слой (3p) выполнен (ы) в виде окрашенного слоя.

36. Многослойное тело по п.30, отличающееся тем, что первый слой (3m) и/или второй слой (3p) выполнен(ы) из множества частичных слоев.

37. Многослойное тело по п.36, отличающееся тем, что частичные слои образуют систему тонкопленочных слоев.

38. Многослойное тело по п.36, отличающееся тем, что частичные слои выполнены из различных материалов.

39. Многослойное тело по п.30, отличающееся тем, что первый слой (3m) и/или второй слой (3p) образует(ют) оптический узор.

40. Многослойное тело по п.30, отличающееся тем, что первый слой (3m) и/или второй слой (3p) образует(ют) растровое изображение.

41. Многослойное тело по п.30, отличающееся тем, что первый слой (3m) и/или второй слой (3p) образуют один или более оптических защитных признаков.

42. Многослойное тело по п.30, отличающееся тем, что первый слой (3m) и/или второй слой (3p) образуют или образует электронный компонент, например антенну, конденсатор, катушку или органический полупроводниковый компонент.

43. Многослойное тело по п.25, отличающееся тем, что многослойное тело представляет собой пленочный элемент, в частности переводную пленку, пленку горячего тиснения или ламинирующую пленку.

44. Многослойное тело по п.30, отличающееся тем, что первый слой (3m) и/или второй слой (3p) образуют ориентирующий слой для выравнивания жидких кристаллов.

45. Многослойное тело по п.44, отличающееся тем, что ориентирующий слой содержит дифракционные структуры для ориентации жидких кристаллов, которые ориентированы локально по-разному так, что жидкие кристаллы при наблюдении в поляризованном свете предоставляют элемент информации, такой как, например, логотип.

46. Способ по п.1 для изготовления многослойного тела (200) с частично отформованным вторым слоем (31m), отличающийся тем, что в первой области репликационного слоя (30) формуют дифракционную первую рельефную структуру (40), первый слой (30m) наносят на репликационный слой (30) в первой области и во второй области, в которой первая рельефная структура в репликационном слое (30) не отформована, с постоянной поверхностной плотностью по отношению к заданной репликационным слоем (30) плоскости, фоточувствительный слой или фоточувствительную смывочную маску (8) экспонируют через первый слой (30m) так, что фоточувствительный слой или смывочная маска (8) вследствие первой рельефной структуры экспонируются по-разному в первой и во второй областях, и второй слой (31m) удаляют с использованием экспонированного фоточувствительного слоя или смывочной маски (8) в качестве маскирующего слоя в первой области, но не во второй области, либо во второй области, но не в первой области.

47. Способ по п.46, отличающийся тем, что фоточувствительный слой или фоточувствительную смывочную маску (8) экспонируют через второй слой.

48. Способ по п.46 или 47, отличающийся тем, что репликационный слой наносят на несущий слой маски экспонирования.

49. Способ по п.46 или 47, отличающийся тем, что фоточувствительный слой наносят на второй слой.

50. Способ по п.46 или 47, отличающийся тем, что второй слой наносят на фоточувствительную смывочную маску.

51. Применение многослойного тела по п.25 в качестве маски экспонирования для изготовления дополнительного многослойного тела (170) с частично отформованным дополнительным слоем.

52. Применение по п.51, отличающееся тем, что маска (200) экспонирования образует один или более слоев дополнительного многослойного тела (170).

53. Применение по п.51 или 52, отличающееся тем, что между маской (200) экспонирования и дополнительным многослойным телом (170) располагается разделительный слой.