Устройство и способ осаждения атомных слоев - RU2012107069A

Реферат

1. Устройство для осаждения атомных слоев на поверхность листообразной подложки, включающее:- инжекторную головку, включающую:осадительное пространство, снабженное впуском для прекурсора и выпуском для прекурсора; причем указанные впуск и выпуск расположены для обеспечения потока газообразного прекурсора от впуска для прекурсора через осадительное пространство к выпуску для прекурсора; причем осадительное пространство при использовании ограничено инжекторной головкой и поверхностью подложки;газовую опору, содержащую инжектор опорного газа, предназначенный для нагнетания опорного газа между инжекторной головкой и поверхностью подложки, причем опорный газ таким образом создает газ-опору;- конвейерную систему, обеспечивающую относительное перемещение подложки и инжекторной головки вдоль плоскости подложки для формирования плоскости транспортирования, вдоль которой перемещают подложку; и- опорную деталь, размещенную напротив инжекторной головки, причем опорная деталь выполнена для обеспечения газовой опоры с установленным давлением, которая уравновешивает газ-опору инжекторной головки в плоскости транспортирования так, что подложка поддерживается без опоры указанной газовой опорой с установленным давлением между инжекторной головкой и опорной деталью;причем осадительное пространство определяет высоту D2 осадительного пространства относительно поверхности подложки; и причем газовая опора определяет, относительно подложки, величину зазора D1, которая является меньшей, чем высота D2 осадительного пространства.2. Устройство по п.1, в котором газ-опора с установленным давлением уравновешивает ин