Электрофотографический фоточувствительный элемент, технологический картридж и электрофотографическое устройство - RU2596193C1

Код документа: RU2596193C1

Чертежи

Описание

Область техники

Данное изобретение относится к электрофотографическому фоточувствительному элементу, и технологическому картриджу и электрофотографическому устройству, включающим электрофотографический фоточувствительный элемент.

Предшествующий уровень техники

В отношении электрофотографического фоточувствительного элемента с применением органического фотопроводящего материала (органического электрофотографического фоточувствительного элемента) в последние годы проводились интенсивные исследования и разработки.

Электрофотографический фоточувствительный элемент в основном включает основу и фоточувствительный слой, сформированный на основе. Фактически, тем не менее, различные слои располагают во многих случаях между основой и фоточувствительным слоем с целью, например, покрывания дефектов на поверхности основы, защиты фоточувствительного слоя от электрического разрушения, улучшения поляризуемости и улучшения способности к блокированию инжекции зарядов от основы к фоточувствительному слою.

Из слоев, располагаемых между основой и фоточувствительным слоем, слой, содержащий частицы оксида металла, известен как слой, предоставляемый с целью покрывания дефектов на поверхности основы. Слой, содержащий частицы оксида металла, обычно обладает высокой электропроводностью (например, первоначальным объемным удельным сопротивлением от 1,0×10⁸ Ом·см до 2,0×10¹³ Ом·см) по сравнению с ее величиной для слоя, не содержащего частицы оксида металла, и даже если толщина слоя увеличена, возрастание остаточного потенциала во время формирования изображения затруднено. Поэтому, слой, содержащий частицы оксида металла, легко покрывает дефекты на поверхности основы. Когда такой слой, обладающий высокой электропроводностью (далее в данном документе называемый как «электропроводный слой») предоставлен между основой и фоточувствительным слоем, чтобы покрывать дефекты на поверхности основы, допустимый интервал дефектов на поверхности основы увеличен. В результате, допустимый интервал используемой основы увеличивается. Соответственно, обеспечивается преимущество в улучшении производительности электрофотографического фоточувствительного элемента.

Патентный документ 1 описывает технологию, включающую применение в электропроводном слое между основой и фоточувствительным слоем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фосфором или вольфрамом. Кроме того, Патентный документ 2 описывает технологию, включающую применение в электропроводном слое между основой и фоточувствительным слоем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фосфором, вольфрамом или фтором.

Кроме того, Патентный документ 3 описывает технологию, содержащую включение в нижний слой электрофотографического фоточувствительного элемента, полученного последовательным наслаиванием нижнего слоя, промежуточного слоя и фоточувствительного слоя на электропроводную основу, двух видов частиц оксида металла, имеющих разные средние диаметры частиц. Кроме того, Патентный документ 4 описывает следующую технологию. Два или более вида электропроводных частиц, имеющих разные диаметры первичных частиц, включают в промежуточный слой электрофотографического фоточувствительного элемента, полученного наслаиванием промежуточного слоя и фоточувствительного слоя на электропроводную основу в указанном порядке, отношение «A:B» между средними диаметрами первичных частиц A, имеющих наибольший средний диаметр частиц из электропроводных частиц, и первичных частиц B имеющих наименьший средний диаметр частиц из электропроводных частиц устанавливают от 12:1 до 30:1, и средний диаметр частиц первичных частиц B устанавливают при 0,05 мкм или менее. Кроме того, Патентный документ 4 описывает технологию, включающую применение частиц оксида олова, легированного танталом, в промежуточном слое электрофотографического фоточувствительного элемента.

Кроме того, Патентный документы 5 и 6 описывают каждый технологию, включающую применение частиц оксида олова, легированного ниобием, в электропроводном слое или промежуточном слое между основой и фоточувствительным слоем.

Список ссылок

Патентные документы

Патентный документ 1: Выложенная заявка на патент Японии № 2012-18371

Патентный документ 2: Выложенная заявка на патент Японии № 2012-18370

Патентный документ 3: Выложенная заявка на патент Японии № 2007-187771

Патентный документ 4: Выложенная заявка на патент Японии № 2004-151349

Патентный документ 5: Выложенная заявка на патент Японии № H01-248158

Патентный документ 6: Выложенная заявка на патент Японии № H01-150150

Сущность изобретения

Техническая проблема

В последние годы увеличивается следующая возможность: большое число изображений, идентичных одно другому, выводят из одного и того же электрофотографического фоточувствительного элемента в течение короткого периода времени.

В таком случае, направление перемещения среды для печати (такой как материал для переноса (например, бумага) или промежуточный передающий элемент) в электрофотографическом фоточувствительном элементе и вертикальное направление (продольное направление, когда электрофотографический фоточувствительный элемент является цилиндрическим) не отклоняются одно от другого. Соответственно, например, когда сплошное черное изображение или полутоновое изображение выводят после того, как было выведено непрерывным образом большое число изображений, каждое из которых включает вертикальные линии 306 (линии, параллельные направлению перемещения среды для печати), подобно изображению 301 на Фиг. 4, эффект, называемый памятью рисунка, имеет место на участках, на которых формировались вертикальные линии. Более конкретно, по существу, выводят сплошное черное изображение, подобное изображению 302 на Фиг. 4, и выводят полутоновое изображение, подобное изображению 303 на Фиг. 4. Однако когда сплошное черное изображение выводят после того, как было выведено непрерывным образом большое число изображений, каждое из которых включает вертикальные линии 306, подобно изображению 301 на Фиг. 4, выводимое изображение может быть изображением 304 с вертикальными линиями 307, являющимися следствием повторяющегося гистерезиса вертикальных линий 306 изображения 301 на Фиг. 4. Также в случае полутонового изображения, как и в случае сплошного черного изображения, выводимое изображение может быть изображением 305 с вертикальными линиями 308, являющимися следствием повторяющегося гистерезиса вертикальных линий 306 изображения 301 на Фиг. 4. Часть изображения, где проявляется повторяющийся гистерезис, подобно этим вертикальным линиям 307 и 308, называют памятью рисунка.

В частности, увеличивается следующая возможность по сравнению с прошлым временем в связи с увеличением срока службы электрофотографического фоточувствительного элемента: большое число изображений, идентичных одно другому, выводят из одного и того же электрофотографического фоточувствительного элемента в течение короткого периода времени. Соответственно, также и в случае обычного электрофотографического фоточувствительного элемента, который ранее мог быть использован в достаточной мере, начала проявляться ситуация, когда память рисунка имеет место при выведении большого числа изображений, идентичных одно другому, в течение короткого периода времени. В связи с этим, каждый из электрофотографических фоточувствительных элементов, включающих обычные электропроводные слои, описанных в Патентных документах с 1 по 6, вовлекался иногда в обстоятельства, когда имеет место эффект памяти рисунка.

С другой стороны, в случае электропроводного слоя, содержащего связующий материал и частицы оксида металла, возможно возникновение трещин в электропроводном слое, даже когда объемное удельное сопротивление электропроводного слоя уменьшено лишь посредством увеличения содержания частиц оксида металла в электропроводном слое, с тем, чтобы могло сдерживаться увеличение остаточного потенциала во время формирования изображения. Соответственно, возникает настоятельная потребность в подавлении возникновения эффекта памяти рисунка и подавлении увеличения остаточного потенциала наряду с подавлением возникновения трещин в электропроводном слое.

Принимая во внимание вышеуказанное, данное изобретение направлено на предоставление электрофотографического фоточувствительного элемента, в котором остаточный потенциал практически не увеличивается во время формирования изображения, эффект памяти рисунка практически не происходит, и практически не происходит возникновение трещин в электропроводном слое, и технологического картриджа и электрофотографического устройства, включающих такой электрофотографический фоточувствительный элемент.

Решение проблемы

В соответствии с одним аспектом данного изобретения, предоставляется электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий: основу; электропроводный слой, сформированный на основе; и фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое, в котором: электропроводный слой содержит частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фосфором, частицы оксида олова, легированного фосфором, и связующий материал; и когда общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фосфором, в электропроводном слое представлен как V_1P, и общий объем частиц оксида олова, легированного фосфором, в электропроводном слое представлен как V_2P, величины V_T, V_1P и V_2P удовлетворяют приведенным ниже выражениям (1) и (2).

2≤{(V_2P/V_T)/(V_1P/V_T)}×100≤25 (1)

15≤{(V_1P/V_T)+(V_2P/V_T)}×100≤45 (2)

В соответствии с другим аспектом данного изобретения, предоставляется электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий: основу; электропроводный слой, сформированный на основе; и фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое, в котором: электропроводный слой содержит частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным вольфрамом, частицы оксида олова, легированного вольфрамом, и связующий материал; и когда общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным вольфрамом, в электропроводном слое представлен как V_1W, и общий объем частиц оксида олова, легированного вольфрамом, в электропроводном слое представлен как V_2W, величины V_T, V_1W и V_2W удовлетворяют приведенным ниже выражениям (6) и (7).

2≤{(V_2W/V_T)/(V_1W/V_T)}×100≤25 (6)

15≤{(V_1W/V_T)+(V_2W/V_T)}×100≤45 (7)

В соответствии с еще одним аспектом данного изобретения, предоставляется электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий: основу; электропроводный слой, сформированный на основе; и фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое, в котором: электропроводный слой содержит частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фтором, частицы оксида олова, легированного фтором, и связующий материал; и когда общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фтором, в электропроводном слое представлен как V_1F, и общий объем частиц оксида олова, легированного фтором, в электропроводном слое представлен как V_2F, величины V_T, V_1F и V_2F удовлетворяют приведенным ниже выражениям (11) и (12).

2≤{(V_2F/V_T)/(V_1F/V_T)}×100≤25 (11)

15≤{(V_1F/V_T)+(V_2F/V_T)}×100≤45 (12)

В соответствии с еще одним аспектом данного изобретения, предоставляется электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий: основу; электропроводный слой, сформированный на основе; и фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое, в котором: электропроводный слой содержит частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным ниобием, частицы оксида олова, легированного ниобием, и связующий материал; и когда общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным ниобием, в электропроводном слое представлен как V_1Nb, и общий объем частиц оксида олова, легированного ниобием, в электропроводном слое представлен как V_2Nb, величины V_T, V_1Nb и V_2Nb удовлетворяют приведенным ниже выражениям (16) и (17).

2≤{(V_2Nb/V_T)/(V_1Nb/VT)}×100≤25 (16)

15≤{(V_1Nb/V_T)+(V_2Nb/VT)}×100≤45 (17)

В соответствии с еще одним аспектом данного изобретения, предоставляется электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий: основу; электропроводный слой, сформированный на основе; и фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое, в котором: электропроводный слой содержит частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным танталом, частицы оксида олова, легированного танталом, и связующий материал; и когда общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным танталом, в электропроводном слое представлен как V_1Ta, и общий объем частиц оксида олова, легированного танталом, в электропроводном слое представлен как V_2Ta, величины V_T, V_1Ta и V_2Ta удовлетворяют приведенным ниже выражениям (21) и (22).

2≤{(V_2Ta/V_T)/(V_1Ta/V_T)}×100≤25 (21)

15≤{(V_1Ta/V_T)+(V_2Ta/V_T)}×100≤45 (22)

В соответствии с еще одним аспектом данного изобретения, предоставляется технологический картридж, присоединяемый с возможностью снятия к основному корпусу электрофотографического устройства, при этом технологический картридж интегрированным образом поддерживает: вышеописанный электрофотографический фоточувствительный элемент; и по меньшей мере один узел, выбранный из группы, состоящей из узла для зарядки, узла для проявления, узла для переноса и узла для очистки.

В соответствии с еще одним аспектом данного изобретения, предоставляется электрофотографическое устройство, содержащее: вышеописанный электрофотографический фоточувствительный элемент; узел для зарядки; узел для экспонирования; узел для проявления; и узел для переноса.

Преимущества данного изобретения

В соответствии с данным изобретением, предоставлен электрофотографический фоточувствительный элемент, в котором остаточный потенциал практически не увеличивается во время формирования изображения, эффект памяти рисунка практически не происходит, и практически не происходит возникновение трещин в электропроводном слое, и технологический картридж и электрофотографическое устройство, включающие такой электрофотографический фоточувствительный элемент.

Другие особенности данного изобретения станут очевидными из представленного ниже описания типичных вариантов осуществления со ссылками на приложенные чертежи.

Краткое описание чертежей

Фиг. 1 представляет собой вид, иллюстрирующий пример схематической конструкции электрофотографического устройства, включающего технологический картридж, имеющий электрофотографический фоточувствительный элемент по данному изобретению.

Фиг. 2 представляет собой вид (вид сверху) для иллюстрирования метода измерения объемного удельного сопротивления электропроводного слоя.

Фиг. 3 представляет собой вид (вид поперечного сечения) для иллюстрирования метода измерения объемного удельного сопротивления электропроводного слоя.

Фиг. 4 представляет собой вид (пример изображения) для иллюстрирования эффекта памяти рисунка.

Фиг. 5 представляет собой вид, иллюстрирующий изображение с одноточечным рисунком с шахматным расположением.

Описание вариантов осуществления

Электрофотографический фоточувствительный элемент по данному изобретению представляет собой электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий основу, проводящий слой, сформированный на основе, и фоточувствительный слой, сформированный на проводящем слое.

Фоточувствительный слой может быть однослойным фоточувствительным слоем, полученным включением вещества, генерирующего заряды, и вещества, переносящего заряды, в единственный слой, или может быть многослойным фоточувствительным слоем, полученным наслаиванием слоя для генерации зарядов, содержащего вещество, генерирующее заряды, и слоя для переноса зарядов, содержащего вещество, переносящее заряды. Кроме того, в случае необходимости, промежуточный слой может быть предоставлен между электропроводным слоем и фоточувствительным слоем, сформированными на основе.

Основа, обладающая электропроводностью, (электропроводная основа) является предпочтительной в качестве основы, и, например, может быть использована металлическая основа, сформированная из металла, такого как алюминий, алюминиевый сплав или нержавеющая сталь. В случае применения алюминия или алюминиевого сплава, может быть использована алюминиевая труба, изготовленная способом производства, включающим процесс с экструзией и процесс с волочением, или алюминиевая труба, изготовленная способом производства, включающим процесс экструзии и процесс вытяжки с утонением. Такая алюминиевая труба предоставляет хорошую точность размеров и хорошую чистоту поверхности без резки ее поверхности и является выгодной также с точки зрения затрат. Однако на необработанной поверхности алюминиевой трубы возможны выступающие дефекты в виде задиров. Соответственно, является особенно эффективным предоставление электропроводного слоя.

В электрофотографическом фоточувствительном элементе по данному изобретению любую из представленных ниже комбинаций частиц оксида металла, а также связующий материал используют в электропроводном слое, подлежащем формированию на основе:

(p) частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фосфором, и частицы оксида олова, легированного фосфором;

(w) частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным вольфрамом, и частицы оксида олова, легированного вольфрамом;

(f) частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фтором, и частицы оксида олова, легированного фтором;

(nb) частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным ниобием, и частицы оксида олова, легированного ниобием, и

(ta) частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным танталом, и частицы оксида олова, легированного танталом.

Один из признаков заключается в том, что в каждой из комбинаций (p), (w), (f), (nb) и (ta) частиц оксида металла, фосфор (P), вольфрам (W), фтор (F), ниобий (Nb) или тантал (Ta) является общим с элементом, которым легирован оксид олова. Следует заметить, что частицы оксида титана являются частицами оксида титана (TiO₂), и частицы оксида олова являются частицами оксида олова (SnO₂).

Далее в данном документе, частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фосфором, также называются как «частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова», и частицы оксида олова, легированного фосфором также называются как «частицы P-легированного оксида олова». Кроме того, частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным вольфрамом, также называются как «частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова», и частицы оксида олова, легированного вольфрамом также называются как «частицы W-легированного оксида олова». Кроме того, частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фтором, также называются как «частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова», и частицы оксида олова, легированного фтором также называются как «частицы F-легированного оксида олова». Кроме того, частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным ниобием, также называются как «частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова», и частицы оксида олова, легированного ниобием, также называются как «частицы Nb-легированного оксида олова». Кроме того, частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным танталом, также называются как «частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова», и частицы оксида олова, легированного танталом также называются как «частицы Ta-легированного оксида олова».

Кроме того, в электрофотографическом фоточувствительном элементе по данному изобретению, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (p), когда общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, объем частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, в электропроводном слое представлен как V_1P, и объем частиц P-легированного оксида олова в электропроводном слое представлен как V_2P, величины V_T, V_1P, и V_2P удовлетворяют приведенным ниже выражениям (1) и (2).

2≤{(V_2P/V_T)/(V_1P/V_T)}×100≤25 (1)

15≤{(V_1P/V_T)+(V_2P/V_T)}×100≤45 (2)

Кроме того, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (w), когда общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, объем частиц оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, в электропроводном слое представлен как V_1W, и объем частиц W-легированного оксида олова в электропроводном слое представлен как V_2W, величины V_T, V_1W, и V_2W удовлетворяют приведенным ниже выражениям (6) и (7).

2≤{(V_2W/V_T)/(V_1W/V_T)}×100≤25 (6)

15≤{(V_1W/V_T)+(V_2W/V_T)}×100≤45 (7)

Кроме того, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (f), когда общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, объем частиц оксида титана, покрытых F-легированным оксидом олова, в электропроводном слое представлен как V_1F, и объем частиц F-легированного оксида олова в электропроводном слое представлен как V_2F, величины V_T, V_1F, и V_2F удовлетворяют приведенным ниже выражениям (11) и (12).

2≤{(V_2F/V_T)/(V_1F/V_T)}×100≤25 (11)

15≤{(V_1F/V_T)+(V_2F/V_T)}×100≤45 (12)

Кроме того, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (nb), когда общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, объем частиц оксида титана, покрытых Nb-легированным оксидом олова, в электропроводном слое представлен как V_1Nb, и объем частиц Nb-легированного оксида олова в электропроводном слое представлен как V_2Nb, величины V_T, V_1Nb, и V_2Nb удовлетворяют приведенным ниже выражениям (16) и (17).

2≤{(V_2Nb/V_T)/(V_1Nb/VT)}×100≤25 (16)

15≤{(V_1Nb/V_T)+(V_2Nb/VT)}×100≤45 (17)

Кроме того, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (ta), когда общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, объем частиц оксида титана, покрытых Ta-легированным оксидом олова, в электропроводном слое представлен как V_1Ta, и объем частиц Ta-легированного оксида олова в электропроводном слое представлен как V_2Ta, величины V_T, V_1Ta, и V_2Ta удовлетворяют приведенным ниже выражениям (21) и (22).

2≤{(V_2Ta/V_T)/(V_1Ta/V_T)}×100≤25 (21)

15≤{(V_1Ta/V_T)+(V_2Ta/V_T)}×100≤45 (22)

Далее в данном документе, V_1P, V_1W, V_1F, V_1Nb, и V_1Ta в собирательном значении также представлены как «V₁», и V_2P, V_2W, V_2F, V_2Nb, и V_2Ta в собирательном значении также представлены как «V₂». Кроме того, частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, и частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова в собирательном значении также представлены как «первые частицы оксида металла», и частицы P-легированного оксида олова, частицы W-легированного оксида олова, частицы F-легированного оксида олова, частицы Nb-легированного оксида олова и частицы Ta-легированного оксида олова в собирательном значении также представлены как «вторые частицы оксида металла».

Авторы данного изобретения провели интенсивные исследования в отношении предотвращения возникновения памяти рисунка. В результате, авторы данного изобретения нашли, что эффект памяти рисунка подавляется посредством формирования в электропроводном слое хорошо проводящего пути на протяжении широкого интервала, иными словами, посредством равномерного перемещения зарядов в электропроводном слое. Это, вероятно, обусловлено тем, что локальное задерживание или удерживание зарядов в электропроводном слое практически не происходит. Однако задерживание или удерживание зарядов может не коррелировать в значительной степени с объемным удельным сопротивлением или электрическим сопротивлением электропроводного слоя, поскольку задерживание или удерживание является локальным эффектом. Формирование хорошо проводящего пути в электропроводном слое для подавления эффекта памяти рисунка требует формирования проводящего пути, который проходит как через первые частицы оксида металла, так и через вторые частицы оксида металла. С этой целью, следующая потребность может возникать для подавления эффекта памяти рисунка: вместо формирования электропроводного слоя, содержащего лишь первые частицы оксида металла, или электропроводного слоя, содержащего лишь вторые частицы оксида металла, первые частицы оксида металла и вторые частицы оксида металла включают в электропроводный слой при определенном соотношении, и в таком случае образуется проводящий путь, который проходит как через первые частицы оксида металла, так и через вторые частицы оксида металла. А именно, может потребоваться удовлетворение выражению (1), (6), (11), (16) или (21). Когда величина для {(V₂/V_T)/(V₁/V_T)}×100 составляет менее чем 2, отношение количества вторых частиц оксида металла к количеству первых частиц оксида металла становится недостаточным. Соответственно, полагают, что ситуация становится близкой к той, что имеет место в случае электропроводного слоя, содержащего лишь первые частицы оксида металла, и поэтому проводящий путь, пригодный для подавления возникновения памяти рисунка, не может быть сформирован. С другой стороны, когда величина для {(V₂/V_T)/(V₁/V_T)}×100 составляет более чем 25, отношение количества вторых частиц оксида металла к количеству первых частиц оксида металла становится чрезмерным. Соответственно, полагают, что ситуация становится близкой к той, что имеет место в случае электропроводного слоя, содержащего лишь вторые частицы оксида металла, и поэтому проводящий путь, пригодный для подавления возникновения памяти рисунка, не может быть сформирован. Когда удовлетворяется приведенное ниже выражение (3), (8), (13), (18) или (23), становится дополнительно существенным подавление эффекта возникновения памяти рисунка, поскольку соотношение между первыми частицами оксида металла и вторыми частицами оксида металла становится соотношением, при котором может быть сформирован проводящий путь, дополнительно пригодный для подавления возникновения памяти рисунка.

5≤{(V_2P/V_T)/(V_1P/V_T)}×100≤20 (3)

5≤{(V_2W/V_T)/(V_1W/V_T)}×100≤20 (8)

5≤{(V_2F/V_T)/(V_1F/V_T)}×100≤20 (13)

5≤{(V_2Nb/V_T)/(V_1Nb/V_T)}×100≤20 (18)

5≤{(V_2Ta/V_T)/(V_1Ta/V_T)}×100≤20 (23)

Кроме того, формирование проводящего пути, который проходит через первые частицы оксида металла и вторые частицы оксида металла, в электропроводном слое может требовать, чтобы сумма величин содержания первых частиц оксида металла и вторых частиц оксида металла в электропроводном слое находилась в определенном интервале. А именно, может потребоваться удовлетворение выражению (2), (7), (12), (17) или (22). Когда величина для {(V₁+V₂)/V_T}×100 составляет менее чем 15, склонно происходить задерживание или удерживание зарядов в электропроводном слое, и, следовательно, увеличение остаточного потенциала склонно быть большим в случае повторяющегося применения электрофотографического фоточувствительного элемента. Величина для {(V₁+V₂)/V_T}×100 составляет более предпочтительно 20 или более. С другой стороны, когда величина для {(V₁+V₂)/V_T}×100 составляет более чем 45, количество связующего материала становится слишком малым, и, следовательно, возникновение трещин склонно происходить в электропроводном слое. Величина для {(V₁+V₂)/V_T}×100 составляет более предпочтительно 40 или менее. А именно, более предпочтительно удовлетворяется приведенное ниже выражение (4), (9), (14), (19) или (24).

20≤{(V_1P/V_T)+(V_2P/V_T)}×100≤40 (4)

20≤{(V_1W/V_T)+(V_2W/V_T)}×100≤40 (9)

20≤{(V_1F/V_T)+(V_2F/V_T)}×100≤40 (14)

20≤{(V_1Nb/V_T)+(V_2Nb/V_T)}×100≤40 (19)

20≤{(V_1Ta/V_T)+(V_2Ta/V_T)}×100≤40 (24)

Как описано выше, необходимо удовлетворение выражениям (1) и (2) одновременно, удовлетворение выражениям (6) и (7) одновременно, удовлетворение выражениям (11) и (12) одновременно, удовлетворение выражениям (16) и (17) одновременно или удовлетворение выражениям (21) и (22) одновременно для получения электрофотографического фоточувствительного элемента, в котором остаточный потенциал практически не увеличивается во время формирования изображения, эффект памяти рисунка практически не происходит, и образование трещин в электропроводном слое практически не происходит.

Что касается данного изобретения, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включенная в электропроводный слой, является, например, комбинацией частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным сурьмой, и частиц оксида олова, легированного сурьмой, или комбинацией частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, обедненным кислородом, и частиц оксида олова, обедненного кислородом, подавление эффекта возникновения памяти рисунка ухудшается по сравнению с тем случаем, когда комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, представляет собой комбинацию (p), (w), (f), (nb) или (ta).

Кроме того, даже когда компонентом (легирующей примесью), включаемым для легирования оксида олова, является фосфор, вольфрам, фтор, ниобий или тантал, в случае, в котором компонент, включаемый для легирования оксида олова первых частиц оксида металла, и компонент, включаемый для легирования оксида олова вторых частиц оксида металла, отличаются один от другого, например, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фосфором, и частиц оксида олова, легированного вольфрамом, подавление эффекта возникновения памяти рисунка аналогичным образом ухудшается по сравнению со случаем комбинации (p), (w), (f), (nb) или (ta), в которой легирующие компоненты идентичны один другому. Это, вероятно, обусловлено, следующей причиной: когда компоненты, включаемые для легирования оксида олова первых частиц оксида металла, и компоненты, включаемые для легирования оксида олова вторых частиц оксида металла, идентичны один другому, электрические свойства, поверхностные свойства и рабочие функции первых частиц оксида металла и вторых частиц оксида металла становятся по физическим свойствам, близкими в полном объеме друг к другу, и, следовательно, облегчается перемещение зарядов равномерным образом в электропроводном слое.

В дополнение к этому, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (p), когда отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, представлено как R_1P [ат.%], и отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах P-легированного оксида олова представлено как R_2P [ат.%], предпочтительно удовлетворяется приведенное ниже выражение (5).

0,9≤R_2P/R_1P≤1,1 (5)

В дополнение к этому, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (w), когда отношение содержания вольфрама к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, представлено как R_1W [ат.%], и отношение содержания вольфрама к оксиду олова в частицах W-легированного оксида олова представлено как R_2W [ат.%], предпочтительно удовлетворяется приведенное ниже выражение (10).

0,9≤R_2W/R_1W≤1,1 (10)

В дополнение к этому, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (f), когда отношение содержания фтора к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых F-легированным оксидом олова, представлено как R_1F [ат.%], и отношение содержания фтора к оксиду олова в частицах F-легированного оксида олова представлено как R_2F [ат.%], предпочтительно удовлетворяется приведенное ниже выражение (15).

0,9≤R_2F/R_1F≤1,1 (15)

Кроме того, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (nb), когда отношение содержания ниобия к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых Nb-легированным оксидом олова, представлено как R_1Nb [ат.%], и отношение содержания ниобия к оксиду олова в частицах Nb-легированного оксида олова представлено как R_2Nb [ат.%], предпочтительно удовлетворяется приведенное ниже выражение (20).

0,9≤R_2Nb/R_1Nb≤1,1 (20)

В дополнение к этому, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (ta), когда отношение содержания тантала к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых Ta-легированным оксидом олова, представлено как R_1Ta [ат.%], и отношение содержания тантала к оксиду олова в частицах Ta-легированного оксида олова представлено как R_2Ta [ат.%], предпочтительно удовлетворяется приведенное ниже выражение (25).

0,9≤R_2Ta/R_1Ta≤1,1 (25)

Далее в данном документе, R_1P, R_1W, R_1F, R_1Nb и R_1Ta в собирательном значении также представлены как «R₁», и R_2P, R_2W, R_2F, R_2Nb и R_2Ta в собирательном значении также представлены как «R₂».

Как представлено выражением (5), (10), (15), (20) или (25), величины относительного содержания фосфора, вольфрама, фтора, ниобия или тантала в оксиде олова первых частиц оксида металла и в оксиде олова вторых частиц оксида металла являются предпочтительно как можно более близкими одна к другой. Иными словами, отношение R₂/R₁ является предпочтительно как можно более близким к 1.0, и конкретно, отношение составляет предпочтительно от 0,9 или более до 1,1 или менее. Когда отношение R₂/R₁ составляет от 0,9 или более до 1,1 или менее, образуется проводящий путь, дополнительно пригодный для подавления возникновения памяти рисунка, и, следовательно, подавление эффекта возникновения памяти рисунка становится более значительным.

Измерение R₁ и R₂ может быть выполнено посредством сканирующей просвечивающей электронной микроскопии с энергодисперсионным рентгеноспектральным микроанализом (STEM-EDX) после отбора образца электропроводного слоя электрофотографического фоточувствительного элемента в соответствии с методом с применением фокусированного ионного пучка (FIB). Кроме того, измерение V₁ и V₂ может быть выполнено методом Slice & View с применением сканирующей электронной микроскопии со сфокусированным ионным пучком (FIB-SEM) после отбора образца электропроводного слоя электрофотографического фоточувствительного элемента в соответствии с методом с применением фокусированного ионного пучка (FIB).

Вначале описывается измерение R₁ и R₂.

Отбор образцов для анализа сканирующей просвечивающей электронной микроскопией с энергодисперсионным рентгеноспектральным микроанализом (STEM-EDX) выполняли, как описано ниже.

Отбор образцов выполняют с помощью поддерживающего основания, изготовленного из меди (Cu) в соответствии с методом отбора образцов FIB-µ. Прибором, использованным авторами данного изобретения, является FB-2000A µ-Sampling System (торговое наименование) производства компании Hitachi High-Technologies Corporation. Отбор образцов выполняли таким образом, что горизонтальные и продольные размеры образца становились такими размерами, что интервал измерения мог быть обеспечен, и толщина образца становилась 150 нм.

Анализ сканирующей просвечивающей электронной микроскопией с энергодисперсионным рентгеноспектральным микроанализом (STEM-EDX) выполняли, как описано ниже.

Авторы данного изобретения выполняли анализ с помощью автоэмиссионного электронного микроскопа высокого разрешения (HRTEM) (торговое наименование: JEM2100F) производства компании JEOL Ltd. и JED-2300T (торговое наименование) (имеющего разрешение 133 эВ или менее) (энергорассеивающего рентгеновского спектроскопа) производства компании JEOL Ltd. в качестве части для энергодисперсионного рентгеноспектрального микроанализа (EDX).

Условия анализа устанавливали, как описано ниже.

Система: Станция проведения анализа (Analysis Station)

Получение изображений: Цифровой микрограф (Digital Micrograph)

Условия измерения: Ускоряющее напряжение: 200 кВ, диаметр пучка (диаметр): 1,0 нм, время измерения: 50 секунд (в точечном анализе) и 40 минут (в анализе методом площадей)

Интервал измерения: длина 3,6 мкм × ширина 3,4 мкм × толщина 150 нм.

Отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах P-легированного оксида олова, отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, отношение содержания вольфрама к оксиду олова в частицах W-легированного оксида олова, отношение содержания вольфрама к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, отношение содержания фтора к оксиду олова в частицах F-легированного оксида олова, отношение содержания фтора к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых F-легированным оксидом олова, отношение содержания ниобия к оксиду олова в частицах Nb-легированного оксида олова, отношение содержания ниобия к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых Nb-легированным оксидом олова, отношение содержания тантала к оксиду олова в частицах Ta-легированного оксида олова, или отношение содержания тантала к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых Ta-легированным оксидом олова может быть определено из атомного отношения, поскольку идентификация элемента может быть выполнена посредством сканирующей просвечивающей электронной микроскопии с энергодисперсионным рентгеноспектральным микроанализом (STEM-EDX).

Отбор образцов выполняли подобным образом десять раз, чтобы предоставить десять образцов с последующим их измерением. Среднее значение для суммарных десяти R₁ и среднее значение для суммарных десяти R₂ определяли каждое как величину для R₁ или R₂ в электропроводном слое электрофотографического фоточувствительного элемента в качестве объекта измерения.

Далее описано измерение отношений (V₁/V_T) и (V₂/V_T).

Объем частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, и объем частиц P-легированного оксида олова, и их соотношения, в электропроводном слое могут быть определены посредством идентификации оксида олова, легированного фосфором, и оксида титана на основании их разницы в контрасте в методе Slice & View с применением сканирующей электронной микроскопии со сфокусированным ионным пучком (FIB-SEM). Когда компонентом, включаемым для легирования в оксид олова, является элемент, иной, чем фосфор, такой как вольфрам, фтор, ниобий или тантал, объемы и соотношения в электропроводном слое могут быть определены аналогичным образом.

Условия для выполнения метода Slice & View в данном изобретении были установлены такие, как описано ниже.

Отбор образцов для анализа: метод с применением фокусированного ионного пучка (FIB)

Прибор для обработки и обследования: NVision 40 производства компании SII-Zeiss

Интервал между срезами: 10 нм

Условия обследования:

Ускоряющее напряжение: 1,0 кВ

Наклон образца: 54°

WD: 5 мм

Детектор: детектор BSE

Апертура: 60 мкм, высокий ток

Автоматическое регулирование яркости (ABC): ВКЛ

Разрешение изображения: 1,25 нм/пиксель

Анализ выполняют в области измерения 2 мкм шириной и 2 мкм длиной, информацию для каждого поперечного сечения интегрируют, и определяют объемы V₁ и V₂ для пространства измерения шириной 2 мкм, длиной 2 мкм и толщиной 2 мкм (V_T=8 мкм³). Кроме того, измерение выполняют в окружающей среде с температурой 23°C и давлением 1×10^-4 Па. Следует заметить, что Strata 400S (наклон образца: 52°) производства FEI Company может также быть использован в качестве прибора для обработки и обследования.

Отбор образцов выполняли подобным образом десять раз, чтобы предоставить десять образцов с последующим их измерением. Величину, полученную делением среднего значения для суммарных десяти объемов V₁ для 8 мкм³ на V_T (8 мкм³), определяли как отношение (V₁/V_T) в электропроводном слое электрофотографического фоточувствительного элемента в качестве объекта измерения. Кроме того, величину, полученную делением среднего значения для суммарных десяти объемов V₂ для 8 мкм³ на V_T (8 мкм³), определяли как величину отношения (V₂/V_T) в электропроводном слое электрофотографического фоточувствительного элемента в качестве объекта измерения.

Следует заметить, что площади идентифицированных оксида олова, легированного фосфором, и оксида титана получали из информации на каждом поперечном сечении посредством анализа изображения. Анализ изображения выполняли с помощью указанного ниже программного обеспечения для обработки изображения.

Программное обеспечение для обработки изображения: Image-Pro Plus производства компании Media Cybernetics

Из частиц оксида металла, используемых в данном изобретении, первые частицы оксида металла имеют покровный слой, образованный оксидом олова, легированным фосфором, вольфрамом, фтором, ниобием или танталом, и сердцевину частицы, образованную оксидом титана. Кроме того, первые частицы оксида металла имеют такую структуру, что сердцевина частицы покрыта покровным слоем.

Доля (доля покровного слоя) оксида олова (SnO₂) в первых частицах оксида металла, используемых в данном изобретении, составляет предпочтительно от 10 до 60% по массе. Исходный материал для олова, необходимый для получения оксида олова (SnO₂), требуется смешивать во время изготовления первых частиц оксида металла для регулирования доли покровного слоя оксида олова (SnO₂). Например, когда хлорид олова (SnCl₄) используют в качестве исходного материала для олова, смешивание требуется выполнять, принимая во внимание количество оксида олова (SnO₂), получаемого из хлорида олова (SnCl₄). Хотя оксид олова (SnO₂), образующий покровный слой каждой из первых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении, легируют фосфором (P), вольфрамом (W), фтором (F), ниобием (Nb) или танталом (Ta), доля покровного слоя является величиной, вычисленной из массы оксида олова (SnO₂) по отношению к общей массе оксида олова (SnO₂) и оксида титана (TiO₂) без учета массы фосфора (P), вольфрама (W), фтора (F), ниобия (Nb) или тантала (Ta), которым легируют оксид олова (SnO₂).

Кроме того, предпочтительно, чтобы оксид олова (SnO₂) в первых частицах оксида металла или вторых частицы оксида металла был легирован фосфором (P), вольфрамом (W), фтором (F), ниобием (Nb) или танталом (Ta) в количестве (при степени легирования) от 0,1 до 10 масс.% по отношению к оксиду олова (SnO₂) (в расчете на массу оксида олова, не содержащего фосфор (P), вольфрам (W), фтор (F), ниобий (Nb) и тантал (Ta)).

Следует заметить, что способ изготовления первых частиц оксида металла (частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, частиц оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, частиц оксида титана, покрытых F-легированным оксидом олова, частиц оксида титана, покрытых Nb-легированным оксидом олова, или частиц оксида титана, покрытых Ta-легированным оксидом олова) также описан в выложенной заявке на патент Японии № H06-207118 и выложенной заявке на патент Японии № 2004-349167.

Кроме того, способ изготовления вторых частиц оксида металла (частиц P-легированного оксида олова, частиц W-легированного оксида олова, частиц F-легированного оксида олова, частиц Nb-легированного оксида олова или частиц Ta-легированного оксида олова) также описан в патенте Японии № 3365821, выложенной заявке на патент Японии № H02-197014, выложенной заявке на патент Японии № H09-278445 и выложенной заявке на патент Японии № H10-53417.

Корпускулярная форма, сферическая форма, игольчатая форма, волокнистая форма, столбчатая форма, стержневая форма, веретенообразная форма, пластинчатая форма и другие аналогичные формы могут быть использованы как форма частицы оксида титана (TiO₂) в качестве сердцевины частицы в каждой из первых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении. Из них, сферическая форма является предпочтительной с той точки зрения, что дефекты изображения, такие как черные пятна, практически не возникают.

Кроме того, любая из кристаллических форм, таких как рутил, анатаз, брукит, и аморфных форм может быть использована в качестве кристаллической формы частицы оксида титана (TiO₂) в качестве сердцевины частицы в каждой из первых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении. Кроме того, любой способ изготовления, такой как способ с применением серной кислоты и способ с применением хлористоводородной кислоты, может быть применен в качестве способа изготовления.

Первая причина, почему в данном изобретении используют первые частицы оксида металла, имеющие сердцевины (частицы оксида титана (TiO₂)), описана ниже. Оксид олова (SnO₂), образующий покровный слой каждой из первых частиц оксида металла, имеет более высокую удельную электропроводность, чем оксид титана (TiO₂), образующий каждую сердцевину частицы, и заряд, воспринятый вторыми частицами оксида металла, содержащими оксид олова (SnO₂), распространяется в основном через покровный слой, содержащий оксид олова (SnO₂), в каждой из первых частиц оксида металла, т.е. перенос заряда в основном выполняется между оксидом олова (SnO₂), и, следовательно, перенос заряда между первыми частицами оксида металла и вторыми частицами оксида металла становится плавным, и заряд перемещается равномерным образом в электропроводном слое.

Вторая причина, почему используют первые частицы оксида металла, имеющие сердцевины (частицы оксида титана (TiO₂)), заключается в том, что достигается улучшение дисперсности вторых частиц оксида металла в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя. Когда вторые частицы оксида металла используют без применения первых частиц оксида металла, склонно происходить агрегирование вторых частиц оксида металла в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя, что увеличивает средний диаметр этих частиц, и, следовательно, выступающие дефекты в виде сыпи возникают на поверхности формируемого электропроводного слоя, или стабильность раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя уменьшается в некоторых случаях. Кроме того, подавление эффекта памяти рисунка не достигается достаточным образом.

Третья причина, почему используют первые частицы оксида металла, имеющие сердцевины (частицы оксида титана (TiO₂)), заключается в том, что частицы оксида титана(TiO₂), используемые в качестве сердцевин первых частиц оксида металла, имеют каждая низкую прозрачность в качестве частицы, и, следовательно, легко покрывают дефекты на поверхности основы. В противоположность этому, например, когда частицы сульфата бария используют в качестве сердцевин частиц, каждая из частиц имеет высокую прозрачность в качестве частицы, и, следовательно, может требоваться отдельный материал для покрывания дефектов на поверхности основы.

Диаметр каждой из частиц оксида титана (TiO₂) в качестве сердцевины первых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении, составляет предпочтительно от 0,05 мкм или более до 0,40 мкм или менее с точки зрения регулирования среднего диаметра первых частиц оксида металла до предпочтительного интервала, описанного далее.

Удельное сопротивление порошка первых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении, составляет предпочтительно от 1,0×10¹ Ом·см или более до 1,0×10⁶ Ом·см или менее, более предпочтительно от 1,0×10² Ом·см или более до 1,0×10⁵ Ом·см или менее.

Удельное сопротивление порошка вторых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении, составляет предпочтительно от 1,0×10⁰ Ом·см или более до 1,0×10⁵ Ом·см или менее, более предпочтительно от 1,0×10¹ Ом·см или более до 1,0×10⁴ Ом·см или менее.

Удельное сопротивление порошка первых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении, предпочтительно меньше, чем удельное сопротивление порошка частиц оксида титана (TiO₂) используемых в качестве сердцевин первых частиц оксида металла.

Метод измерения удельного сопротивления порошка частиц оксида металла, таких как первые частицы оксида металла или вторые частицы оксида металла, используемых в данном изобретении, описан ниже.

Удельное сопротивление порошка частиц оксида металла, таких как первые частицы оксида металла или вторые частицы оксида металла, используемые в данном изобретении, или сердцевин составных частиц, таких как первые частицы оксида металла, используемые в данном изобретении, измеряют в окружающей среде с нормальной температурой и нормальной влажностью (23°C, 50% относительной влажности (RH)). В данном изобретении, прибор для измерения сопротивления производства компании Mitsubishi Chemical Corporation (торговое наименование: Loresta GP (Hiresta UP, когда удельное сопротивление порошка превышало 1,0×10⁷ Ом·см)) использовали в качестве измерительного прибора. Частицы оксида металла в качестве объектов измерения спрессовывали в образец в виде таблетки для измерения при давлении 500 кг/см². Прикладывали напряжение 100 В. Частицы, используемые в качестве сердцевин, подвергали измерению перед формированием покровного слоя.

Электропроводный слой может быть сформирован посредством нанесения раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя, содержащего растворитель, связующий материал, и первые частицы оксида металла и вторые частицы оксида металла на основу, и сушки и/или отверждения результирующей покровной пленки.

Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя может быть приготовлен посредством диспергирования первых частиц оксида металла и вторых частиц оксида металла вместе со связующим материалом в растворителе. В качестве метода диспергирования, используют, например, методы с применением вибромиксера для краски, песчаной мельницы, шаровой мельницы и высокоскоростного диспергатора со столкновением с жидкостью.

Примеры связующего материала, используемого в электропроводном слое, включают смолы, такие как фенольная смола, полиуретан, полиамид, полиимид, полиамид-имид, поливиниацеталь, эпоксидная смола, акриловая смола, меламиновая смола и полиэфирная смола. Эти смолы могут быть использованы в отдельности или в комбинации двух или более их видов. Кроме того, из таких смол, с точки зрения, например, подавления миграции (растворения) в другой слой, способности прилипания к основе, диспергируемости и стабильности дисперсии частиц по данному изобретению и устойчивости к растворителям после формирования слоя, предпочтительной является отверждаемая смола, и более предпочтительной является термоотверждающаяся смола. Кроме того, из термоотверждающихся смол термоотверждающаяся фенольная смола и термоотверждающийся полиуретан являются предпочтительными. В случае применения отверждаемой смолы в качестве связующего материала в электропроводном слое, связующий материал, содержащийся в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя, является мономером и/или олигомером отверждаемой смолы.

Примеры растворителя, используемого в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя, включают, спирты, такие как метанол, этанол и изопропанол, кетоны, такие как ацетон, метилэтилкетон и циклогексанон, эфиры, такие как тетрагидрофуран, диоксан, монометиловый эфир этиленгликоля и монометиловый эфир пропиленгликоля, сложные эфиры, такие как метилацетат и этилацетат, и ароматические углеводороды, такие как толуол и ксилол.

Кроме того, огрубляющий материал для придания шероховатости поверхности электропроводного слоя может быть включен в раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя для того, чтобы предотвратить образование интерференционных полос на выводимом изображении вследствие интерференции света, отраженного на поверхности электропроводного слоя. Частицы смолы, имеющие средний диаметр от 1 мкм или более до 5 мкм или менее являются предпочтительными в качестве материала для придания шероховатости поверхности. Примеры частиц смолы включают частицы отверждаемых смол, таких как отверждаемый каучук, полиуретан, эпоксидная смола, алкидная смола, фенольная смола, сложный полиэфир, кремнийорганическая смола и акрилмеламиновая смола. Из них, частицы кремнийорганической смолы, которые практически не агрегируют, являются предпочтительными. Плотность (от 0,5 до 2 г/см³) частиц смолы является малой по сравнению с плотностями (от 4 до 8 г/см³) первых частиц оксида металла и вторых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении, и, следовательно, поверхности электропроводного слоя может быть эффективным образом придана шероховатость во время формирования электропроводного слоя. При этом, однако, когда содержание материала для придания шероховатости поверхности в электропроводном слое увеличивается, объемное удельное сопротивление электропроводного слоя имеет тенденцию к увеличению в некоторых случаях. Соответственно, содержание материала для придания шероховатости поверхности в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя составляет предпочтительно от 1 до 80% по массе по отношению к связующему материалу в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя для регулирования объемного удельного сопротивления электропроводного слоя до 2,0×10¹³ Ом·см или менее. В данном изобретении, плотности [г/см³] первых частиц оксида металла, вторых частиц оксида металла, связующего материала (при условии, что, когда связующий материал являлся жидкостью, его отвержденный продукт был подвергнут измерению), частиц кремнийорганической смолы, и т.п. определяли с помощью автоматического денсиметра сухого типа, как описано ниже. Продувку газообразным гелием выполняли десять раз в качестве предварительной обработки для частиц в качестве объектов измерения при температуре 23°C и максимальном давлении 19,5 фунтов на кв. дюйм изб. давления (134 кПа) с помощью автоматического денсиметра сухого типа производства компании Shimadzu Corporation (торговое наименование: Accupyc 1330) и сосуда, имеющего объем 10 см³. После этого, колебание в давлении в камере для образца 0,0050 фунта на кв. дюйм изб. давления/мин (34,47 Па/мин) использовали в качестве показателя величины, определяющей равновесное состояние давления, который указывает, достигло ли давление внутри сосуда равновесия. Когда колебание было равно указанной величине или менее, давление определяли как находящееся в равновесном состоянии, и затем инициировали измерение, чтобы измерять любую такую плотность [г/см³] автоматически.

Кроме того, выравнивающий агент для улучшения поверхностных свойств электропроводного слоя может быть включен в раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя. Кроме того, частицы пигмента могут быть включены в раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя для дополнительного улучшения покрытия электропроводного слоя.

Кроме того, средний диаметр частиц первых частиц оксида металла (частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, частиц оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, частиц оксида титана, покрытых F-легированным оксидом олова, частиц оксида титана, покрытых Nb-легированным оксидом олова, или частиц оксида титана, покрытых Ta-легированным оксидом олова) в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя составляет предпочтительно от 0,10 мкм или более до 0,45 мкм или менее, более предпочтительно от 0,15 мкм или более до 0,40 мкм или менее. Когда средний диаметр частиц составляет менее чем 0,10 мкм, склонно происходить повторное агрегирование первых частиц оксида металла после приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя, и, следовательно, стабильность раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя может уменьшаться. Когда средний диаметр частиц составляет более чем 0,45 мкм, поверхность электропроводного слоя огрубляется, что промотирует возникновение локальной инжекции электрических зарядов в фоточувствительный слой, и, следовательно, черные пятна на белом фоне выводимого изображения могут становиться заметными.

Кроме того, средний диаметр частиц вторых частиц оксида металла (частиц P-легированного оксида олова, частиц W-легированного оксида олова, частиц F-легированного оксида олова, частиц Nb-легированного оксида олова или Ta-легированного оксида олова) в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя составляет предпочтительно от 0,01 мкм или более до 0,45 мкм или менее, более предпочтительно от 0,01 мкм или более до 0,10 мкм или менее.

Средний диаметр частиц оксида металла, таких как первые частицы оксида металла и вторые частицы оксида металла, в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя может быть определен посредством представленного ниже метода жидкофазного осаждения или обследованием изображений поперечного сечения, полученных сканирующей электронной микроскопией (SEM).

Вначале раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя разбавляют растворителем, используемым для его приготовления, таким образом, что его прозрачность может находиться в интервале от 0,8 до 1,0. Затем создают гистограмму среднего диаметра частиц (объемного среднего диаметра частиц) и распределения по размеру частиц оксида металла с помощью ультрацентробежного автоматического анализатора распределения частиц по размеру. В данном изобретении, измерение выполняли с помощью ультрацентробежного автоматического анализатора распределения частиц по размеру (торговое наименование: CAPA 700) производства компании HORIBA, Ltd. в качестве ультрацентробежного автоматического анализатора распределения частиц по размеру при скорости вращения 3000 об/мин.

С точки зрения покрывания дефектов поверхности основы, толщина электропроводного слоя составляет предпочтительно от 10 мкм или более до 40 мкм или менее, более предпочтительно от 15 мкм или более до 35 мкм или менее.

Следует заметить, что, в данном изобретении, в качестве прибора для измерения толщины каждого слоя электрофотографического фоточувствительного элемента, включающего электропроводный слой, был использован FISHERSCOPE mms производства компании Fisher Instruments K.K.

Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя составляет предпочтительно от 1,0×10⁸ Ом·см или более до 2,0×10¹³ Ом·см или менее. Когда слой, имеющий объемное удельное сопротивление 2,0×10¹³ Ом·см или менее, предоставлен на основе в качестве слоя для покрывания дефектов на поверхности основы, поток зарядов практически не прерывается во время формирования изображения, и, следовательно, остаточный потенциал практически не увеличивается. В то же время, когда объемное удельное сопротивление электропроводного слоя составляет 1,0×10⁸ Ом·см или более, количество зарядов, протекающих в электропроводном слое во время зарядки электрофотографического фоточувствительного элемента, не становится чрезмерно большим, и, следовательно, вуалирование вследствие увеличения истощения темной области электрофотографического фоточувствительного элемента практически не происходит.

Метод измерения объемного удельного сопротивления проводящего слоя электрофотографического фоточувствительного элемента описан при ссылках на Фиг. 2 и 3. Фиг. 2 представляет собой вид сверху для иллюстрирования метода измерения объемного удельного сопротивления электропроводного слоя, и Фиг. 3 представляет собой вид в поперечном разрезе для иллюстрирования метода измерения объемного удельного сопротивления электропроводного слоя.

Объемное удельное сопротивление проводящего слоя измеряют в окружающей среде с нормальной температурой и нормальной влажностью (23°C, 50% относительной влажности (RH)). Медную ленту 203 (производства компании Sumitomo 3M Limited, тип №1181) прикрепляют к поверхности электропроводного слоя 202 и используют в качестве электрода на стороне передней поверхности электропроводного слоя 202. Кроме того, основу 201 используют в качестве электрода на тыльной стороне электропроводного слоя 202. Источник питания 206 для приложения электрического напряжения между медной лентой 203 и основой 201 и токоизмерительный прибор 207 для измерения тока, протекающего между медной лентой 203 и основой 201, размещают соответствующим образом. Кроме того, медную проволоку 204 размещают на медной ленте 203 для приложения напряжения к медной ленте 203 и затем медную проволоку 204 закрепляют на медной ленте 203 посредством присоединения медной ленты 205 аналогичным образом к медной ленте 203 поверх медной проволоки 204 таким образом, что медная проволока 204 не выступает от медной ленты 203. Напряжение прикладывают к медной ленте 203 посредством медной проволоки 204.

Когда величину фонового тока в случае, в котором напряжение не приложено между медной лентой 203 и основой 201, обозначают как I₀ [A], величину тока в случае, в котором прикладывают напряжение -1 В, образованное лишь напряжением постоянного тока (компонентом постоянного тока), обозначают как I [А], толщину электропроводного слоя 202 обозначают как d [см], и площадь электрода (медной ленты 203) на стороне передней поверхности электропроводного слоя 202 обозначают как S [см²], величину, представленную приведенным ниже выражением (26), определяют как объемное удельное сопротивление ρ [Ом·см] электропроводного слоя 202.

ρ=1/(I-I₀)×S/d [Ом·см] (26)

Это измерение предпочтительно выполняют с помощью прибора, способного к измерению очень малой величины тока в качестве прибора 207 для измерения тока, поскольку очень малый ток, абсолютная величина которого составляет 1×10^-6 A или менее, измеряют в данном измерении. Примеры такого прибора включают измеритель пА (торговое наименование: 4140B) производства компании Yokogawa Hewlett-Packard и измеритель высокого сопротивления (торговое наименование: 4339B) производства компании Agilent Technologies.

Следует заметить, что объемное удельное сопротивление электропроводного слоя, измеренное в состоянии, в котором лишь электропроводный слой сформирован на основе, и измерении в состоянии, в котором лишь электропроводный слой оставлен на основе посредством удаления каждого слоя (такого как фоточувствительный слой) на электропроводном слое с электрофотографического фоточувствительного элемента, показывает такую же величину.

Для того, чтобы предотвратить инжекцию зарядов из электропроводного слоя в фоточувствительный слой, промежуточный слой (барьерный слой), обладающий свойствами электрического барьера, может быть предоставлен между электропроводным слоем и фоточувствительным слоем.

Промежуточный слой может быть сформирован посредством нанесения на электропроводный слой покрытия из раствора материала покрытия для формирования промежуточного слоя, содержащего смолу (связующий материал), и сушки результирующей покровной пленки.

Примеры смолы (связующего материала), используемой в промежуточном слое, включают поливиниловый спирт, поливинилметилэфир, полиакриловые кислоты, метилцеллюлозу, этилцеллюлозу, полиглутаминовую кислоту, казеин, крахмал, и другие водорастворимые смолы, полиамид, полиимид, полиамидимид, полиамидокислоту, меламиновую смолу, эпоксидную смолу, полиуретан и полиглутамат. Из них термопластичные смолы являются предпочтительными, чтобы эффективным образом проявлять свойства электрического барьера промежуточного слоя. Из термопластичных смол предпочтительной является термопластичная полиамидная смола. Полиамид предпочтительно является сополимеризованным нейлоном.

Толщина промежуточного слоя составляет предпочтительно от 0,1 мкм или более до 2,0 мкм или менее.

Кроме того, вещество для переноса электронов (электроноакцепторное вещество, такое как акцептор) может быть включено в промежуточный слой, чтобы предотвращать прерывание потока зарядов в промежуточном слое.

Примеры вещества для переноса электронов включают электроноакцепторные вещества, такие как 2,4,7-тринитрофлуоренон, 2,4,5,7-тетранитрофлуоренон, хлоранил и тетрацианохинодиметан, и полимеры таких электроноакцепторных веществ.

Фоточувствительный слой формируют на электропроводном слое (промежуточном слое).

Примеры вещества, генерирующего заряды, используемого в фоточувствительном слое, включают: азопигменты, такие как моноазопигменты, диазопигменты и триазопигменты; фталоцианиновые пигменты, такие как фталоцианин металла и неметаллический фталоцианинный комплекс; индиговые пигменты, такие как индиго и тиоиндиго; периленовые пигменты, такие как ангидрид периленовой кислоты и имид периленовой кислоты; полициклические хиноновые пигменты, такие антрахинон и пиренхинон; скварилиевые красители; пирилиевые соли и тиапирилиевые соли; трифенилметановые красители; хинакридоновые пигменты; пигменты на основе солей азуления; цианиновые красители; ксантеновые красители; хинониминовые красители; и стириловые красители. Из них предпочтительными являются фталоцианины металлов, такие как фталоцианин оксититана, фталоцианин гидроксигаллия и фталоцианин хлоргаллия.

Когда фоточувствительный слой является ламинированным фоточувствительным слоем, слой для генерации зарядов может быть сформирован посредством нанесения раствора материала покрытия для формирования слоя для генерации зарядов, который приготавливают диспергированием вещества, генерирующего заряды, в растворителе вместе со связующим материалом и последующей сушкой полученной покровной пленки. В качестве метода диспергирования, используют, например, методы с применением гомогенизатора, ультразвуковой волны, шаровой мельницы, песочной мельницы, аттритора и валковой мельницы.

Примеры связующего материала, используемого в слое для генерации зарядов, включают поликарбонат, сложный полиэфир, полиарилат, бутиральную смолу, полистирол, поливинилацеталь, диаллилфталатную смолу, акриловую смолу, метакриловую смолу, винилацетатную смолу, фенольную смолу, кремнийорганическую смолу, полисульфон, стирол-бутадиеновый сополимер, алкидную смолу, эпоксидную смолу, полимочевину и сополимер винилхлорида-винилацетата. Эти связующие материалы могут быть использованы в отдельности или в виде смеси или сополимера двух или более их видов.

Отношение вещества, генерирующего заряды, к связующему материалу (вещество, генерирующее заряды : связующий материал) находится в пределах интервала предпочтительно от 10:1 до 1:10 (массовое отношение), более предпочтительно от 5:1 до 1:1 (массовое отношение).

Примеры растворителя, используемого в растворе материала покрытия для формирования слоя для генерации зарядов, включают спирт, сульфоксид, кетон, простой эфир, сложный эфир, алифатический галогенированный углеводород и ароматическое соединение.

Толщина слоя для генерации зарядов составляет предпочтительно 5 мкм или менее, более предпочтительно от 0,1 мкм или более до 2 мкм или менее.

Кроме того, любой из различных сенсибилизаторов, антиоксидантов, УФ абсорберов, пластификаторов и т.п. может быть добавлен к слою для генерации зарядов, в случае необходимости. Кроме того, вещество для переноса электронов (электроноакцепторное вещество, такое как акцептор) может быть включено в слой для генерации зарядов, чтобы предотвращать прерывание потока зарядов в слое для генерации зарядов.

Примеры вещества, переносящего заряды, используемого в фоточувствительном слое включают триариламиновое соединение, гидразоновое соединение, стириловое соединение, стильбеновое соединение, пиразолиновое соединение, оксазоловое соединение, тиазоловое соединение и триарилметановое соединение.

Когда фоточувствительный слой является ламинированным фоточувствительным слоем, слой для переноса зарядов может быть сформирован посредством нанесения раствора материала покрытия для формирования слоя для переноса зарядов, который приготавливают растворением вещества, переносящего заряды, и связующего материала в растворителе и последующей сушкой полученной покровной пленки.

Примеры связующего материала, используемого в слое для переноса зарядов, включают акриловую смолу, стирольную смолу, сложный полиэфир, поликарбонат, полиарилат, полисульфон, полифениленоксид, эпоксидную смолу, полиуретан, алкидную смолу и ненасыщенную смолу. Эти связующие материалы могут быть использованы в отдельности или в виде смеси или сополимера двух или более их видов.

Отношение вещества, переносящего заряды, к связующему материалу (вещество, переносящее заряды : связующий материал) предпочтительно находится в пределах интервала от 2:1 до 1:2 (массовое отношение).

Примеры растворителя, используемого в растворе материала покрытия для формирования слоя для переноса зарядов, включают: кетоны, такие как ацетон и метилэтилкетон, сложные эфиры, такие как метилацетат и этилацетат, эфиры, такие как диметоксиметан и диметоксиэтан, ароматические углеводороды, такие как толуол и ксилол, и углеводороды, замещенные атомом галогена, такие как хлорбензол, хлороформ и четыреххлористый углерод.

Толщина слоя для переноса зарядов составляет предпочтительно от 3 мкм или более до 40 мкм или менее, более предпочтительно от 4 мкм или более до 30 мкм или менее с точки зрения равномерности зарядки и воспроизводимости изображения.

Кроме того, антиоксидант, УФ абсорбер или пластификатор могут быть добавлены к слою для переноса зарядов, в случае необходимости.

Когда фоточувствительный слой является однослойным фоточувствительным слоем, однослойный фоточувствительный слой может быть сформирован нанесением раствора материала покрытия для формирования однослойного фоточувствительного слоя, содержащего вещество, генерирующее заряды, вещество, переносящее заряды, связующий материал и растворитель, и последующей сушкой результирующей покровной пленки. В качестве вещества, генерирующего заряды, вещества, переносящего заряды, связующего материала и растворителя могут быть использованы, например, те материалы, различные виды которых были описаны выше.

Кроме того, защитный слой может быть сформирован на фоточувствительном слое, чтобы защитить фоточувствительный слой. Защитный слой может быть образован посредством нанесения раствора материала покрытия для формирования защитного слоя, содержащего смолу (связующий материал), и последующей сушки и/или отверждения результирующей покровной пленки.

Толщина защитного слоя составляет предпочтительно от 0,5 мкм или более до 10 мкм или менее, более предпочтительно от 1 мкм или более до 8 мкм или менее.

При нанесении каждого из растворов материала покрытия для формирования соответствующих слоев, могут быть использованы такие методы нанесения покрытия, как нанесение покрытия погружением, нанесение покрытия распылением, нанесение покрытия центрифугированием, валковое нанесение покрытия, нанесение покрытия стержнем Мейера и ракельное нанесения покрытия.

Фиг. 1 иллюстрирует в схематическом виде пример конструкции электрофотографического устройства, включающего технологический картридж, имеющий электрофотографический фоточувствительный элемент.

На Фиг. 1 электрофотографический фоточувствительный элемент 1, имеющий форму барабана (цилиндрическую форму), приводится во вращение вокруг оси 2 в направлении, указанном стрелкой, при заданной окружной скорости.

Периферическая поверхность электрофотографического фоточувствительного элемента 1, приводимого во вращение, равномерно заряжается положительным или отрицательным заданным потенциалом посредством узла 3 для зарядки (такого как первичный узел для зарядки или зарядный ролик) и затем принимает экспонирующий свет (свет, передающий изображение) 4, эмитируемым из узла для экспонирования (не показан), такого как узел для щелевого экспонирования или экспонирования сканированием лазерным лучом. Таким образом, электростатические скрытые изображения, соответствующие целевым изображениям, формируются на периферической поверхности электрофотографического фоточувствительного элемента 1. Напряжение, прикладываемое к узлу 3 для зарядки, может быть лишь напряжением постоянного тока или может быть напряжением постоянного тока с наложением электрического напряжения переменного тока.

Электростатические скрытые изображения, сформированные на периферической поверхности электрофотографического фоточувствительного элемента 1, преобразуются в изображения из тонера посредством проявления тонером узла 5 для проявления. После этого изображения из тонера, сформированные на периферической поверхности электрофотографического фоточувствительного элемента 1, переносятся на передающий материал (например, бумагу) P посредством смещения для переноса от узла 6 для переноса (такого как передаточный валик). Передающий материал P подается из узла для подачи материала для переноса (не показан) к участку (участку прилегания) между электрофотографическим фоточувствительным элементом 1 и узлом 6 для переноса синхронно с вращением электрофотографического светочувствительного элемента 1.

Передающий материал P, который принял передачу тонерных изображений, отделяется от периферической поверхности электрофотографического фоточувствительного элемента 1, вводится в фиксирующий узел 8, подвергается фиксированию изображения и затем выводится в качестве продукта со сформированным изображением (отпечатка или копии) из устройства.

Периферическая поверхность электрофотографического фоточувствительного элемента 1 после переноса тонерных изображений подвергается удалению тонера, оставшегося после переноса, узлом 7 для очистки (таким как очистной ракельный нож). Кроме того, периферическая поверхность электрофотографического фоточувствительного элемента 1 подвергается процессу нейтрализации с помощью предэкспозиционного света 11 от узла для предварительного экспонирования (не показан), и после этого повторно используется для формирования изображения. Следует заметить, что, когда узел для зарядки является узлом для контактной зарядки, таким как зарядный ролик, предварительное экспонирование не всегда требуется. Также следует заметить, что, когда электрофотографическое устройство является системой без очистителя, узел для очистки не всегда требуется.

Электрофотографический фоточувствительный элемент 1 и по меньшей мере один конструктивный элемент, выбранный из узла 3 для зарядки, узла 5 для проявления, узла 6 для переноса, узла 7 для очистки и т.п., могут быть размещены в кассете и затем поддерживаться объединенным образом в качестве технологического картриджа. Кроме того, технологический картридж может быть присоединен с возможностью снятия к основному корпусу электрофотографического устройства. На Фиг. 1, электрофотографический фоточувствительный элемент 1 и узел 3 для зарядки, узел 5 для проявления и узел 7 для очистки поддерживаются объединенным образом в качестве картриджа, образуя тем самым технологический картридж 9, который присоединен с возможностью снятия к основному корпусу электрофотографического устройства посредством применения направляющего узла 10, такого как полозки основного корпуса электрофотографического устройства. Кроме того, электрофотографическое устройство может иметь конструкцию, включающую электрофотографический фоточувствительный элемент 1, и узел 3 для зарядки, узел для экспонирования, узел 5 для проявления и узел 6 для переноса.

Пример

Далее в данном документе, данное изобретение описано более подробно посредством конкретных примеров, однако данное изобретение не ограничивается ими. Следует заметить, что термин «часть(и)» в каждом из Примеров и Сравнительных примеров означает «часть(и) по массе», термин «средний диаметр частиц» означает «средний диаметр первичных частиц», единица измерения «%» доли покровного слоя в каждой таблице означает «% по массе», и единица измерения «%» степени легирования (доли легирующего элемента) означает «% по массе». В дополнение к этому, каждая из плотностей в Примерах и таблицах является величиной, определенной представленным выше методом, и каждая из них представлена при единице измерения «г/см³».

<Примеры приготовления растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя>

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-1)

112,00 частей частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, (средний диаметр первичных частиц: 230 нм, удельное сопротивление порошка: 5000 Ом·см, количество (степень легирования) фосфора, легирующего оксид олова: 4,50% по массе, доля покровного слоя: 45% по массе, плотность: 5,1 г/см³) в качестве первых частиц оксида металла, 3,00 части частиц P-легированного оксида олова (средний диаметр первичных частиц: 20 нм, удельное сопротивление порошка: 300 Ом·см, количество (степень легирования) фосфора, легирующего оксид олова: 3,60% по массе, плотность: 6,8 г/см³) в качестве вторых частиц оксида металла, 266,67 части фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 120 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением 465 частей стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,8 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: скорость вращения диска 2000 об/мин, продолжительность диспергирующей обработки 4,5 часа и установленная температура охлаждающей воды 18°C.

Стеклянные шарики удаляли из жидкой дисперсии с помощью сетки. После этого, 5,00 частей частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности и 0,30 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали в течение 30 минут, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-1.

(Примеры приготовления растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-2 по CP-93, с CP-141 по CP-233, с CP-281 по CP-373, с CP-421 по CP-513 и с CP-561 по CP-653)

Растворы материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-2 по CP-93, с CP-141 по CP-233, с CP-281 по CP-373, с CP-421 по CP-513 и с CP-561 по CP-653 приготавливали посредством тех же самых процедур, что и в случае примера приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-1, за исключением того, что вид (включая долю покровного слоя, степень легирования и плотность, то же самое относится к последующему) и количество первых частиц оксида металла, вид (включая степень легирования и плотность, то же самое относится к последующему) и количество вторых частиц оксида металла, и количество связующего материала изменяли таким образом, как показано в Таблицах с 1 по 3, с 8 по 10, с 15 по 17, с 44 по 46 и с 49 по 51.

Следует заметить, что частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-2 по CP-93, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-2, CP-8, CP-14, CP-20, CP-25, CP-30, CP-36, CP-41, CP-46, CP-51, CP-56, CP-62, CP-67, CP-72, CP-78, CP-84 и CP-90, имели удельное сопротивление порошка 250 Ом·см. Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-3, CP-6, CP-9, CP-12, CP-15, CP-18, CP-21, CP-26, CP-31, CP-34, CP-37, CP-42, CP-47, CP-52, CP-57, CP-60, CP-63, CP-68, CP-73, CP-76, CP-79, CP-82, CP-85, CP-88 и CP-91, имели удельное сопротивление порошка 200 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-141 по CP-233, имели удельное сопротивление порошка 3000 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-141, CP-147, CP-153, CP-159, CP-164, CP-169, CP-175, CP-180, CP-185, CP-190, CP-195, CP-201, CP-206, CP-211, CP-217, CP-223 и CP-229, имели удельное сопротивление порошка 180 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-142, CP-148, CP-154, CP-160, CP-165, CP-170, CP-176, CP-181, CP-186, CP-191, CP-196, CP-202, CP-207, CP-212, CP-218, CP-224 и CP-230, имели удельное сопротивление порошка 140 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-143, CP-146, CP-149, CP-152, CP-155, CP-158, CP-161, CP-166, CP-171, CP-174, CP-177, CP-182, CP-187, CP-192, CP-197, CP-200, CP-203, CP-208, CP-213, CP-216, CP-219, CP-222, CP-225, CP-228 и CP-231, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-144, CP-150, CP-156, CP-162, CP-167, CP-172, CP-178, CP-183, CP-188, CP-193, CP-198, CP-204, CP-209, CP-214, CP-220, CP-226 и CP-232, имели удельное сопротивление порошка 70 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-145, CP-151, CP-157, CP-163, CP-168, CP-173, CP-179, CP-184, CP-189, CP-194, CP-199, CP-205, CP-210, CP-215, CP-221, CP-227 и CP-233, имели удельное сопротивление порошка 30 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-281 по CP-373, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-281, CP-287, CP-293, CP-299, CP-304, CP-309, CP-315, CP-320, CP-325, CP-330, CP-335, CP-341, CP-346, CP-351, CP-357, CP-363 и CP-369, имели удельное сопротивление порошка 300 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-282, CP-288, CP-294, CP-300, CP-305, CP-310, CP-316, CP-321, CP-326, CP-331, CP-336, CP-342, CP-347, CP-352, CP-358, CP-364 и CP-370, имели удельное сопротивление порошка 270 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-283, CP-286, CP-289, CP-292, CP-295, CP-298, CP-301, CP-306, CP-311, CP-314, CP-317, CP-322, CP-327, CP-332, CP-337, CP-340, CP-343, CP-348, CP-353, CP-356, CP-359, CP-362, CP-365, CP-368 и CP-371, имели удельное сопротивление порошка 220 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-284, CP-290, CP-296, CP-302, CP-307, CP-312, CP-318, CP-323, CP-328, CP-333, CP-338, CP-344, CP-349, CP-354, CP-360, CP-366 и CP-372, имели удельное сопротивление порошка 170 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-285, CP-291, CP-297, CP-303, CP-308, CP-313, CP-319, CP-324, CP-329, CP-334, CP-339, CP-345, CP-350, CP-355, CP-361, CP-367 и CP-373, имели удельное сопротивление порошка 130 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-421 по CP-513, имели удельное сопротивление порошка 6500 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-421, CP-427, CP-433, CP-439, CP-444, CP-449, CP-455, CP-460, CP-465, CP-470, CP-475, CP-481, CP-486, CP-491, CP-497, CP-503 и CP-509, имели удельное сопротивление порошка 400 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-422, CP-428, CP-434, CP-440, CP-445, CP-450, CP-456, CP-461, CP-466, CP-471, CP-476, CP-482, CP-487, CP-492, CP-498, CP-504 и CP-510, имели удельное сопротивление порошка 360 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-423, CP-426, CP-429, CP-432, CP-435, CP-438, CP-441, CP-446, CP-451, CP-454, CP-457, CP-462, CP-467, CP-472, CP-477, CP-480, CP-483, CP-488, CP-493, CP-496, CP-499, CP-502, CP-505, CP-508 и CP-511, имели удельное сопротивление порошка 330 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-424, CP-430, CP-436, CP-442, CP-447, CP-452, CP-458, CP-463, CP-468, CP-473, CP-478, CP-484, CP-489, CP-494, CP-500, CP-506 и CP-512, имели удельное сопротивление порошка 300 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-425, CP-431, CP-437, CP-443, CP-448, CP-453, CP-459, CP-464, CP-469, CP-474, CP-479, CP-485, CP-490, CP-495, CP-501, CP-507 и CP-513, имели удельное сопротивление порошка 270 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-561 по CP-653, имели удельное сопротивление порошка 4500 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-561, CP-567, CP-573, CP-579, CP-584, CP-589, CP-595, CP-600, CP-605, CP-610, CP-615, CP-621, CP-626, CP-631, CP-637, CP-643 и CP-649, имели удельное сопротивление порошка 270 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-562, CP-568, CP-574, CP-580, CP-585, CP-590, CP-596, CP-601, CP-606, CP-611, CP-616, CP-622, CP-627, CP-632, CP-638, CP-644 и CP-650, имели удельное сопротивление порошка 200 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-563, CP-566, CP-569, CP-572, CP-575, CP-578, CP-581, CP-586, CP-591, CP-594, CP-597, CP-602, CP-607, CP-612, CP-617, CP-620, CP-623, CP-628, CP-633, CP-636, CP-639, CP-642, CP-645, CP-648 и CP-651, имели удельное сопротивление порошка 160 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-564, CP-570, CP-576, CP-582, CP-587, CP-592, CP-598, CP-603, CP-608, CP-613, CP-618, CP-624, CP-629, CP-634, CP-640, CP-646 и CP-652, имели удельное сопротивление порошка 110 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-565, CP-571, CP-577, CP-583, CP-588, CP-593, CP-599, CP-604, CP-609, CP-614, CP-619, CP-625, CP-630, CP-635, CP-641, CP-647 и CP-653, имели удельное сопротивление порошка 65 Ом·см.

(Примеры приготовления растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-94 по CP-140, с CP-234 по CP-280, с CP-374 по CP-420, с CP-514 по CP-560 и с CP-654 по CP-700)

Растворы материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-94 по CP-140, с CP-234 по CP-280, с CP-374 по CP-420, с CP-514 по CP-560 и с CP-654 по CP-700 приготавливали посредством тех же самых процедур, что и в случае примера приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-1, за исключением того, что вид и количество первых частиц оксида металла, вид и количество вторых частиц оксида металла, количество связующего материала и количество частиц кремнийорганической смолы изменяли таким образом, как показано в Таблицах 3, 4, 11, 12, 18, 19, 46, 47, 52 и 53; и процедуру для диспергирующей обработки выполняли посредством добавления 30,00 частей непокрытых частиц оксида титана (удельное сопротивление порошка: 5,0×10⁷ Ом·см, средний диаметр частиц: 210 нм, плотность: 4,2 г/см³) во время процедуры для диспергирующей обработки. Следует заметить, что когда приготавливали растворы материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-139, CP-279, CP-419, CP-559 и CP-699, скорость вращения диска и продолжительность диспергирующей обработки в условиях диспергирующей обработки изменяли до 2500 об/мин и 10 часов, соответственно. Кроме того, когда приготавливали растворы материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-140, CP-280, CP-420, CP-560 и CP-700, скорость вращения диска и продолжительность диспергирующей обработки в условиях диспергирующей обработки изменяли до 2500 об/мин и 30 часов, соответственно.

Следует заметить, что частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-94 по CP-140, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-234 по CP-280, имели удельное сопротивление порошка 3000 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-234, CP-239, CP-244, CP-249, CP-254, CP-259, CP-264, CP-269 и CP-274, имели удельное сопротивление порошка 180 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-235, CP-240, CP-245, CP-250, CP-255, CP-260, CP-265, CP-270 и CP-275, имели удельное сопротивление порошка 140 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-236, CP-241, CP-246, CP-251, CP-256, CP-261, CP-266, CP-271, CP-276, CP-279 и CP-280, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-237, CP-242, CP-247, CP-252, CP-257, CP-262, CP-267, CP-272 и CP-277, имели удельное сопротивление порошка 70 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-238, CP-243, CP-248, CP-253, CP-258, CP-263, CP-268, CP-273 и CP-278, имели удельное сопротивление порошка 30 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-374 по CP-420, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-374, CP-379, CP-384, CP-389, CP-394, CP-399, CP-404, CP-409 и CP-414, имели удельное сопротивление порошка 300 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-375, CP-380, CP-385, CP-390, CP-395, CP-400, CP-405, CP-410 и CP-415, имели удельное сопротивление порошка 270 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-376, CP-381, CP-386, CP-391, CP-396, CP-401, CP-406, CP-411, CP-416, CP-419 и CP-420, имели удельное сопротивление порошка 220 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-377, CP-382, CP-387, CP-392, CP-397, CP-402, CP-407, CP-412 и CP-417, имели удельное сопротивление порошка 170 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-378, CP-383, CP-388, CP-393, CP-398, CP-403, CP-408, CP-413 и CP-418, имели удельное сопротивление порошка 130 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-514 по CP-560, имели удельное сопротивление порошка 6500 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-514, CP-519, CP-524, CP-529, CP-534, CP-539, CP-544, CP-549 и CP-554, имели удельное сопротивление порошка 400 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-515, CP-520, CP-525, CP-530, CP-535, CP-540, CP-545, CP-550 и CP-555, имели удельное сопротивление порошка 360 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-516, CP-521, CP-526, CP-531, CP-536, CP-541, CP-546, CP-551, CP-556, CP-559 и CP-560, имели удельное сопротивление порошка 330 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-517, CP-522, CP-527, CP-532, CP-537, CP-542, CP-547, CP-552 и CP-557, имели удельное сопротивление порошка 300 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-518, CP-523, CP-528, CP-533, CP-538, CP-543, CP-548, CP-553 и CP-558, имели удельное сопротивление порошка 270 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-654 по CP-700, имели удельное сопротивление порошка 4500 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-654, CP-659, CP-664, CP-669, CP-674, CP-679, CP-684, CP-689 и CP-694, имели удельное сопротивление порошка 270 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-655, CP-660, CP-665, CP-670, CP-675, CP-680, CP-685, CP-690 и CP-695, имели удельное сопротивление порошка 200 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-656, CP-661, CP-666, CP-671, CP-676, CP-681, CP-686, CP-691, CP-696, CP-699 и CP-700, имели удельное сопротивление порошка 160 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-657, CP-662, CP-667, CP-672, CP-677, CP-682, CP-687, CP-692 и CP-697, имели удельное сопротивление порошка 110 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-658, CP-663, CP-668, CP-673, CP-678, CP-683, CP-688, CP-693 и CP-698, имели удельное сопротивление порошка 65 Ом·см.

(Примеры приготовления растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C1 по CP-C22, с CP-C42 по CP-C63, с CP-C76 по CP-C97, с CP-C107 по CP-C128 и с CP-C129 по CP-C150)

Растворы материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C1 по CP-C22, с CP-C42 по CP-C63, с CP-C76 по CP-C97, с CP-C107 по CP-C128 и с CP-C129 по CP-C150 приготавливали посредством тех же самых процедур, что и в случае примера приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-1, за исключением того, что вид и количество первых частиц оксида металла, вид и количество вторых частиц оксида металла и количество связующего материала изменяли (включая изменение в отношении того, были ли использованы первые частицы оксида металла или вторые частицы оксида металла или нет, то же самое относится к последующему), как представлено в Таблицах 5, 13, 20, 48 и 54.

Следует заметить, что частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C1 по CP-C9 и с CP-C13 по CP-C22, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C42 по CP-C50 и с CP-C54 по CP-C63, имели удельное сопротивление порошка 3000 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C45 по CP-C63, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C76 по CP-C84 и с CP-C88 по CP-C97, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C79 по CP-C97, имели удельное сопротивление порошка 220 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C107 по CP-C115 и с CP-C119 по CP-C128, имели удельное сопротивление порошка 6500 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C110 по CP-C128, имели удельное сопротивление порошка 330 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C129 по CP-C137 и с CP-C141 по CP-C150, имели удельное сопротивление порошка 4500 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C132 по CP-C150, имели удельное сопротивление порошка 160 Ом·см.

(Примеры приготовления растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C23 по CP-C35, с CP-C64 по CP-C71, с CP-C98 по CP-C105, с CP-C151 по CP-C178 и CP-C179)

Растворы материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C23 по CP-C35, с CP-C64 по CP-C71, с CP-C98 по CP-C105 и с CP-C151 по CP-C179 приготавливали посредством тех же самых процедур, что и в случае примера приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-1, за исключением того, что вид и количество первых частиц оксида металла, вид и количество вторых частиц оксида металла и количество связующего материала изменяли таким образом, как показано в Таблицах 6, 7, 14, 21 и с 55 по 58. Следует заметить, что в таблицах, например, частицы оксида титана, которые покрыты оксидом олова, обедненным кислородом, (частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом) не соответствуют первым частицам оксида металла в соответствии с данным изобретением, и частицы оксида олова, обедненного кислородом, не соответствуют вторым частицам оксида металла в соответствии с данным изобретением, однако данные частицы были показаны в соответствующих колонках для удобства использования в качестве примеров, сравниваемых с данным изобретением. То же самое относится к последующему.

Следует заметить, что частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C26 по CP-C28, с CP-C31 по CP-C32, CP-C153 и CP-C154, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы сульфата бария, покрытые P-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C35, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C23 по CP-C25, CP-C29, CP-C30, CP-C35, CP-151 и CP-152, имели удельное сопротивление порошка 200 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C67 по CP-C69, CP-C104, CP-C157 и CP-C158, имели удельное сопротивление порошка 3000 Ом·см.

Кроме того, частицы сульфата бария, покрытые W-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C71, имели удельное сопротивление порошка 3000 Ом·см.

Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C31, с CP-C64 по CP-C66, CP-C70, CP-C71, CP-C155 и CP-C156, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C30, CP-C70, с CP-C101 по CP-C103, CP-C161 и CP-C162, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы сульфата бария, покрытые F-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C105, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C32, CP-C159 и CP-C160, имели удельное сопротивление порошка 220 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C151, CP-C155, CP-C159, с CP-C166 по CP-C168 и CP-C170, имели удельное сопротивление порошка 6500 Ом·см.

Кроме того, частицы сульфата бария, покрытые Nb-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C171, имели удельное сопротивление порошка 6500 Ом·см.

Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C153, CP-C157, CP-C161, с CP-C163 по CP-C165, CP-C169 и CP-C171, имели удельное сопротивление порошка 330 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C152, CP-C156, CP-C160, CP-C169 и с CP-C175 по CP-C177, имели удельное сопротивление порошка 4500 Ом·см.

Кроме того, частицы сульфата бария, покрытые Ta-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C178, имели удельное сопротивление порошка 4500 Ом·см.

Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C154, CP-C158, CP-C162, CP-C170, с CP-C172 по CP-C174 и CP-C178, имели удельное сопротивление порошка 160 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C23, CP-C64, CP-C98, CP-C163 и CP-C172, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C24, CP-C33, CP-C65, CP-C99, CP-C164, CP-C173 и CP-C179, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Sb-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C25, CP-C34, CP-C66, CP-C100, CP-C165 и CP-C174, имели удельное сопротивление порошка 3000 Ом·см.

Кроме того, частиц оксида олова, обедненного кислородом, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C26, CP-C33, CP-C67, CP-C101, CP-C166, CP-C175 и CP-C179, имели удельное сопротивление порошка 200 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида индия-олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C27, CP-C68, CP-C102, CP-C167 и CP-C176, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.

Кроме того, частицы оксида олова, легированного Sb, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C28, CP-C34, CP-C69, CP-C103, CP-C168 и CP-C177, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C36)

Жидкий материал покрытия для формирования промежуточного слоя Примера 1, описанного в Патентном документе 4, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C36.

А именно, 20 частей частиц сульфата бария, покрытых оксидом олова, обедненным кислородом, (доля покровного слоя: 50% по массе, средний диаметр первичных частиц: 600 нм, удельный вес: 5,1 (плотность=5,1 г/см³)), 100 частей частиц оксида олова, легированного сурьмой, (торговое наименование: T-1, производства компании Mitsubishi Materials Corporation, средний диаметр первичных частиц: 20 нм, удельное сопротивление порошка: 5 Ом·см, удельный вес: 6,6 (плотность=6,6 г/см³)), 70 частей фенольной смолы резольного типа (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60%) в качестве связующего материала, и 100 частей 2-метокси-1-пропанола загружали в шаровую мельницу и затем подвергали диспергирующей обработке в течение 20 часов, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C36.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C37)

Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C37 приготавливали посредством тех же самых процедур, что и в случае примера приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C36, за исключением того, что частицы оксида олова, легированного сурьмой, заменяли на частицы оксида олова, легированного танталом (средний диаметр первичных частиц: 20 нм, удельный вес: 6,1 (плотность=6,1 г/см³)).

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C38)

Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя L-7, описанный в Патентном документе 2, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C38.

А именно, 46 частей частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, (средний диаметр первичных частиц: 220 нм, удельное сопротивление порошка: 100 Ом·см, количество (степень легирования) фосфора, легирующего оксид олова: 7% по массе, доля покровного слоя: 15%), 36,5 части фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 50 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,5 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: скорость вращения диска 2500 об/мин и продолжительность диспергирующей обработки 3,5 часа.

3,9 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности и 0,001 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C38.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C39)

Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя L-21, описанный в Патентном документе 2, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C39.

А именно, 44 части частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, (средний диаметр первичных частиц: 40 нм, удельное сопротивление порошка: 500 Ом·см, количество (степень легирования) фосфора, легирующего оксид олова: 8% по массе, доля покровного слоя: 20%), 36,5 части фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 50 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,5 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: скорость вращения диска 2500 об/мин и продолжительность диспергирующей обработки 3,5 часа.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C40)

Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя 1, описанный в Патентном документе 1, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C40.

А именно, 204 части частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, (удельное сопротивление порошка: 40 Ом·см, доля покровного слоя: 35% по массе, количество (степень легирования) фосфора, легирующего оксид олова: 3% по массе), 148 частей фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 98 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением 450 частей стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,8 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: число оборотов вращения 2000 об/мин, продолжительность диспергирующей обработки 4 часа и установленная температура охлаждающей воды 18°C.

Стеклянные шарики удаляли из жидкой дисперсии с помощью сетки. После этого, 13,8 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности, 0,014 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента, 6 частей метанола и 6 частей 1-метокси-2-пропанола добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C40.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C41)

Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя 4, описанный в Патентном документе 1, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C41.

А именно, 204 части частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, (удельное сопротивление порошка: 500 Ом·см, доля покровного слоя: 35% по массе, количество (степень легирования) фосфора (P), легирующего оксид олова (SnO₂): 0,05% по массе), 148 частей фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 98 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением 450 частей стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,8 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: число оборотов вращения 2000 об/мин, продолжительность диспергирующей обработки 4 часа и установленная температура охлаждающей воды 18°C.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C72)

Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя L-10, описанный в Патентном документе 2, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C72.

А именно, 53 части частиц оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, (средний диаметр первичных частиц: 220 нм, удельное сопротивление порошка: 150 Ом·см, количество (степень легирования) вольфрама, легирующего оксид олова: 7% по массе, доля покровного слоя: 15%), 36,5 части фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 50 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,5 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: скорость вращения диска 2500 об/мин и продолжительность диспергирующей обработки 3,5 часа.

Стеклянные шарики удаляли из жидкой дисперсии с помощью сетки. После этого, 3,9 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности и 0,001 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали в течение 30 минут, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C72.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C73)

Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя L-22, описанный в Патентном документе 2, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C73.

А именно, 46 частей частиц оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, (средний диаметр первичных частиц: 40 нм, удельное сопротивление порошка: 550 Ом·см, количество (степень легирования) вольфрама, легирующего оксид олова: 8% по массе, доля покровного слоя: 20%), 36,5 части фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 50 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,5 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: скорость вращения диска 2500 об/мин и продолжительность диспергирующей обработки 3,5 часа.

3,9 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности и 0,001 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали, чтобы приготовить жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя L-22, описанный в Патентном документе 2.

Данный раствор материала покрытия определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C73.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C74)

Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя 10, описанный в Патентном документе 1, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C74.

А именно, 204 части частиц оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, (удельное сопротивление порошка: 25 Ом·см, доля покровного слоя: 33% по массе, количество (степень легирования) вольфрама, легирующего оксид олова: 3% по массе), 148 частей фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 98 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением 450 частей стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,8 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: число оборотов вращения 2000 об/мин, продолжительность диспергирующей обработки 4 часа и установленная температура охлаждающей воды 18°C.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C75)

Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя 13, описанный в Патентном документе 1, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C75.

А именно, 204 части частиц оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, (удельное сопротивление порошка: 69 Ом·см, доля покровного слоя: 33% по массе, количество (степень легирования) вольфрама, легирующего оксид олова: 0,1% по массе), 148 частей фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 98 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением 450 частей стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,8 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: число оборотов вращения 2000 об/мин, продолжительность диспергирующей обработки 4 часа и установленная температура охлаждающей воды 18°C.

(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C106)

Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя L-30, описанный в Патентном документе 2, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C106.

А именно, 60 частей частиц оксида титана, покрытых F-легированным оксидом олова, (средний диаметр первичных частиц: 75 нм, удельное сопротивление порошка: 300 Ом·см, количество (степень легирования) фтора, легирующего оксид олова: 7% по массе, доля покровного слоя: 15%), 36,5 части фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 50 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,5 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: скорость вращения диска 2500 об/мин и продолжительность диспергирующей обработки 3,5 часа.

Таблица 1Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части]
(содержание сухого остатка
смолы составляет 60% по
массе от количества,
указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-1Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,1112,00Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)3,606,83,001,3266,671,35,00НетCP-2454,505,1112,004,056,72,951,3266,751,35,00CP-3454,505,1112,004,506,72,951,3266,751,35,00CP-4454,505,1112,004,956,72,951,3266,751,35,00CP-5454,505,1112,005,406,72,951,3266,751,35,00CP-6454,505,1108,504,506,77,151,3265,581,35,00CP-7454,505,199,803,606,817,301,3263,171,35,00CP-8454,505,199,904,056,717,061,3263,401,35,00CP-9454,505,199,904,506,717,061,3263,401,35,00CP-10454,505,199,904,956,717,061,3263,401,35,00CP-11454,505,199,905,406,717,061,3263,401,35,00CP-12454,505,193,504,506,724,601,3261,501,35,00CP-13 454,505,189,30 3,606,829,801,3259,831,35,00 CP-14454,505,189,404,056,729,401,3260,331,35,00CP-15454,505,189,404,506,729,401,3260,331,35,00CP-16454,505,189,404,956,729,401,3260,331,35,00CP-17454,505,189,405,406,729,401,3260,331,35,00CP-18454,505,1135,504,506,73,601,3226,501,35,00CP-19454,505,1131,003,606,88,751,3225,421,35,00CP-20454,505,1131,104,056,78,651,3225,421,35,00CP-21454,505,1131,104,506,78,651,3225,421,35,00CP-22454,505,1131,104,956,78,651,3225,421,35,00CP-23454,505,1131,105,406,78,651,3225,421,35,00CP-24454,505,1120,503,606,820,901,3222,671,35,00CP-25454,505,1120,604,056,720,601,3223,001,35,00CP-26454,505,1120,604,506,720,601,3223,001,35,00CP-27454,505,1120,604,956,720,601,3223,001,35,00CP-28454,505,1120,605,406,720,601,3223,001,35,00CP-29454,505,1112,503,606,830,001,3220,831,35,00CP-30454,505,1112,604,056,729,601,3221,331,35,00CP-31454,505,1112,604,506,729,601,3221,331,35,00CP-32454,505,1112,604,956,729,601,3221,331,35,00CP-33454,505,1112,605,406,729,601,3221,331,35,00CP-34454,505,1107,604,506,735,351,3220,081,35,00CP-35454,505,1171,503,606,84,601,3164,831,35,00CP-36454,505,1171,504,056,74,501,3165,001,35,00CP-37454,505,1171,504,506,74,501,3165,001,35,00CP-38454,505,1171,504,956,74,501,3165,001,35,00CP-39454,505,1171,505,406,74,501,3165,001,35,00CP-40454,505,1165,603,606,811,051,3163,921,35,00

Таблица 2Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-41Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,1165,70Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)4,056,710,901,3164,001,35,00НетCP-42454,505,1165,704,506,710,901,3164,001,35,00CP-43454,505,1165,704,956,710,901,3164,001,35,00CP-44454,505,1165,705,406,710,901,3164,001,35,00CP-45454,505,1151,803,606,826,351,3161,421,35,00CP-46454,505,1151,954,056,725,951,3161,831,35,00CP-47454,505,1151,954,506,725,951,3161,831,35,00CP-48454,505,1151,954,956,725,951,3161,831,35,00CP-49454,505,1151,955,406,725,951,3161,831,35,00CP-50454,505,1141,403,606,837,701,3159,831,35,00CP-51454,505,1141,704,056,737,251,3160,081,35,00CP-52 454,505,1141,70 4,506,737,251,3160,081,35,00 CP-53454,505,1141,704,956,737,251,3160,081,35,00CP-54454,505,1141,705,406,737,251,3160,081,35,00CP-55454,505,1134,803,606,845,001,3158,671,35,00CP-56454,505,1135,154,056,744,401,3159,081,35,00CP-57454,505,1135,154,506,744,401,3159,081,35,00CP-58454,505,1135,154,956,744,401,3159,081,35,00CP-59454,505,1135,155,406,744,401,3159,081,35,00CP-60454,505,1197,704,506,75,201,3120,171,35,00CP-61454,505,1190,703,606,812,751,3119,251,35,00CP-62454,505,1190,854,056,712,551,3119,331,35,00CP-63454,505,1190,854,506,712,551,3119,331,35,00CP-64454,505,1190,854,956,712,551,3119,331,35,00CP-65454,505,1190,855,406,712,551,3119,331,35,00CP-66454,505,1174,403,606,830,301,3117,171,35,00СР-67454,505,1174,704,056,729,901,3117,331,35,00СР-68454,505,1174,704,506,729,901,3117,331,35,00СР-69454,505,1174,704,956,729,901,3117,331,35,00СР-70454,505,1174,705,406,729,901,3117,331,35,00СР-71454,505,1162,303,606,843,301,3115,671,35,00СР-72454,505,1162,704,056,742,751,3115,921,35,00СР-73454,505,1162,704,506,742,751,3115,921,35,00СР-74454,505,1162,704,956,742,751,3115,921,35,00СР-75454,505,1162,705,406,742,751,3115,921,35,00СР-76454,505,1155,054,506,750,951,3115,001,35,00СР-77454,505,1208,303,606,85,601,3101,831,35,00СР-78454,505,1208,254,056,75,561,3101,981,35,00СР-79454,505,1208,254,506,75,561,3101,981,35,00СР-80454,505,1208,254,956,75,561,3101,981,35,00

Таблица 3Раствор материала
покрытия для
формирования
электропроводного
слоя(1) Первые частицы
оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической молы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного
слоя [%]Степень легирования
[%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования
[%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-81Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,1208,25Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)5,406,75,561,3101,981,35,00НетCP-82454,505,1201,104,506,713,201,3101,171,35,00 CP-83454,505,1183,553,606,831,901,399,251,35,00 CP-84454,505,1183,904,056,731,401,399,501,35,00 CP-85454,505,1183,904,506,731,401,399,501,35,00 CP-86454,505,1183,904,956,731,401,399,501,35,00 CP-87454,505,1183,905,406,731,401,399,501,35,00 CP-88454,505,1171,104,506,745,001,398,171,35,00 CP-89454,505,1162,503,606,854,201,397,171,35,00 CP-90454,505,1163,004,056,753,551,397,421,35,00 CP-91 454,505,1163,00 4,506,753,551,397,421,35,00 CP-92454,505,1163,004,956,753,551,397,421,35,00 CP-93454,505,1163,005,406,753,551,397,421,35,00 CP-94454,505,1135,403,606,89,051,3159,251,340,00Непокрытые частицы оксида титана
(средний диаметр частиц: 210 нм)4,230,00CP-95454,505,1135,404,056,78,901,3159,501,340,004,230,00CP-96454,505,1135,404,506,78,901,3159,501,340,004,230,00CP-97454,505,1135,404,956,78,901,3159,501,340,004,230,00CP-98454,505,1135,405,406,78,901,3159,501,340,004,230,00CP-99454,505,1124,503,606,821,601,3156,501,340,004,230,00CP-100454,505,1124,504,056,721,301,3157,001,340,004,230,00CP-101454,505,1124,504,506,721,301,3157,001,340,004,230,00CP-102454,505,1124,504,956,721,301,3157,001,340,004,230,00CP-103454,505,1124,505,406,721,301,3157,001,340,004,230,00CP-104454,505,1116,203,606,831,001,3154,671,340,004,230,00CP-105454,505,1116,404,056,730,601,3155,001,340,004,230,00CP-106454,505,1116,404,506,730,601,3155,001,340,004,230,00CP-107454,505,1116,404,956,730,601,3155,001,340,004,230,00CP-108454,505,1116,405,406,730,601,3155,001,340,004,230,00CP-109454,505,1171,103,606,811,401,395,831,340,004,230,00CP-110454,505,1171,204,056,711,251,395,921,340,004,230,00CP-111454,505,1171,204,506,711,251,395,921,340,004,230,00CP-112454,505,1171,204,956,711,251,395,921,340,004,230,00CP-113454,505,1171,205,406,711,251,395,921,340,004,230,00CP-114454,505,1156,803,606,827,201,393,331,340,004,230,00CP-115454,505,1157,004,056,726,851,393,581,340,004,230,00CP-116454,505,1157,004,506,726,851,393,581,340,004,230,00CP-117454,505,1157,004,956,726,851,393,581,340,004,230,00CP-118454,505,1157,005,406,726,851,393,581,340,004,230,00CP-119454,505,1146,103,606,839,001,391,501,340,004,230,00CP-120454,505,1146,404,056,738,501,391,831,340,004,230,00

Таблица 4Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий
материал (фенольная
смола)(4) Частицы
кремнийорганической смолы(5) Частицы
помимо частиц с
(1) по (4) ВидДоля покровного
слоя [%]Степень легирования
[%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования
[%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-121Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,1146,40Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)4,506,738,501,391,831,340,00Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц: 210 нм)4,230,00CP-122454,505,1146,404,956,738,501,391,831,340,004,230,00CP-123454,505,1146,405,406,738,501,391,831,340,004,230,00CP-124454,505,1197,053,606,813,151,349,671,340,004,230,00CP-125454,505,1197,204,056,713,001,349,671,340,004,230,00CP-126454,505,1197,204,506,713,001,349,671,340,004,230,00CP-127454,505,1197,204,956,713,001,349,671,340,004,230,00CP-128454,505,1197,205,406,713,001,349,671,340,004,230,00CP-129454,505,1180,203,606,831,301,347,501,340,004,230,00CP-130454,505,1180,504,056,730,851,347,751,340,004,230,00CP-131454,505,1180,504,506,730,851,347,751,340,004,230,00CP-132454,505,1180,504,956,730,851,347,751,340,004,230,00CP-133 454,505,1180,50 5,406,730,851,347,751,340,00 4,230,00CP-134454,505,1167,653,606,844,751,346,001,340,004,230,00CP-135454,505,1168,054,056,744,161,346,321,340,004,230,00CP-136454,505,1168,054,506,744,161,346,321,340,004,230,00CP-137454,505,1168,054,956,744,161,346,321,340,004,230,00CP-138454,505,1168,055,406,744,161,346,321,340,004,230,00CP-139454,505,1157,004,506,726,851,393,581,340,004,230,00CP-140454,505,1161,004,506,722,851,393,581,340,004,230,00

Таблица 5Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-C1Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)454,505,1114,60Нет1,3267,331,35,00НетCP-C2 454,505,1175,60 1,3165,671,35,00 CP-C3 454,505,1213,50 1,3102,501,35,00 CP-C4 454,505,1113,25Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)4,506,71,491,3267,101,35,00 CP-C5 454,505,1173,50 4,506,72,271,3165,381,35,00 CP-C6 454,505,1210,90 4,506,72,801,3102,171,35,00 CP-C7 454,505,185,60 4,506,733,751,3259,421,35,00 CP-C8 454,505,1129,20 4,506,750,951,3158,081,35,00 CP-C9 454,505,1155,65 4,506,761,351,396,671,35,00 CP-C10Нет 4,506,7133,401,3236,001,35,00 CP-C11 4,506,7192,801,3137,001,35,00 CP-C12 4,506,7226,401,381,001,35,00 CP-C13Частицы оксида титана, покрытые
P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)454,505,183,20 4,506,72,201,3316,001,35,00 CP-C14 454,505,180,60 4,506,75,301,3315,171,35,00 CP-C15 454,505,174,50 4,506,712,751,3312,921,35,00 CP-C16 454,505,169,75 4,506,718,351,3311,501,35,00 CP-C17 454,505,166,70 4,506,721,921,3310,631,35,00 CP-C18 454,505,1217,70 4,506,75,751,385,921,35,00 CP-C19 454,505,1210,05 4,506,713,801,385,251,35,00 CP-C20 454,505,1191,95 4,506,732,801,383,751,35,00 CP-C21 454,505,1178,50 4,506,746,951,382,581,35,00 CP-C22 454,505,1169,98 4,506,755,851,381,951,35,00

Таблица 6Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-C23Частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц:
230 нм)45-5,1152,00Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)4,506,726,001,3161,671,35,00НетCP-C24Частицы сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц:
230 нм)45-5,1152,00 4,506,726,001,3161,671,35,00 CP-C25Частицы оксида титана, покрытые Sb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)454,505,1152,00 4,506,726,001,3161,671,35,00СР-С26Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,1152,20Частицы оксида олова, обедненного кислородом, (средний диаметр частиц: 20 нм)-6,625,601,3162,001,35,00 СР-С27Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)454,505,1151,10Частицы оксида индия-олова (средний диаметр частиц:
20 нм)4,507,127,351,3160,921,35,00 СР-С28 454,505,1152,20Частицы Sb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)4,506,625,601,3162,001,35,00СР-С29Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)454,505,2153,30Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)4,506,725,701,3160,001,35,00

Таблица 7Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-C30Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)454,505,0150,60Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)4,506,726,251,3163,581,35,00Нет

CP-C31Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,1150,20Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)4,507,528,801,3160,001,35,00 CP-C32 454,505,1152,20Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)4,506,625,601,3162,001,35,00CP-C33Частицы сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц:
230 нм)45-5,1152,20Частицы оксида олова, обедненного кислородом, (средний диаметр частиц: 20 нм)-6,625,601,3162,001,35,00

СР-С34Частицы оксида титана, покрытые Sb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)454,505,1152,20Частицы Sb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)4,506,625,601,3162,001,35,00 СР-С35Частицы сульфата бария, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)454,505,1151,90Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)4,506,726,001,3161,831,35,00

Таблица 8Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-141Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,2113,20Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)3,607,43,221,3264,301,35,00НетCP-142454,505,2113,204,057,53,261,3264,231,35,00CP-143454,505,2113,204,507,53,261,3264,231,35,00CP-144454,505,2113,204,957,63,311,3264,151,35,00CP-145454,505,2113,205,407,63,311,3264,151,35,00CP-146454,505,2109,404,507,57,901,3262,831,35,00CP-147454,505,2100,503,607,418,601,3259,831,35,00CP-148454,505,2100,504,057,518,851,3259,421,35,00CP-149454,505,2100,504,507,518,851,3259,421,35,00CP-150454,505,2100,404,957,619,101,3259,171,35,00CP-151454,505,2100,405,407,619,101,3259,171,35,00

CP-152 454,505,293,70 4,507,527,051,3257,081,35,00 CP-153454,505,289,553,607,431,861,3255,981,35,00CP-154454,505,289,484,057,532,261,3255,431,35,00CP-155454,505,289,484,507,532,261,3255,431,35,00CP-156454,505,289,304,957,632,651,3255,081,35,00CP-157454,505,289,305,407,632,651,3255,081,35,00CP-158454,505,2136,654,507,53,971,3223,971,35,00CP-159454,505,2132,003,607,49,401,3222,671,35,00CP-160454,505,2132,004,057,59,551,3222,421,35,00CP-161454,505,2132,004,507,59,551,3222,421,35,00CP-162454,505,2131,904,957,69,651,3222,421,35,00CP-163454,505,2131,905,407,69,651,3222,421,35,00CP-164454,505,2121,003,607,422,401,3219,331,35,00СР-165454,505,2120,854,057,522,671,3219,131,35,00СР-166454,505,2120,854,507,522,671,3219,131,35,00СР-167454,505,2120,704,957,622,951,3218,921,35,00СР-168454,505,2120,705,407,622,951,3218,921,35,00СР-169454,505,2112,753,607,432,101,3216,921,35,00СР-170454,505,2112,554,057,532,501,3216,581,35,00СР-171454,505,2112,554,507,532,501,3216,581,35,00СР-172454,505,2112,404,957,632,851,3216,251,35,00СР-173454,505,2112,405,407,632,851,3216,251,35,00СР-174454,505,2107,304,507,538,701,3215,001,35,00СР-175454,505,2172,503,607,44,901,3162,671,35,00СР-176454,505,2172,404,057,55,001,3162,671,35,00СР-177454,505,2172,404,507,55,001,3162,671,35,00СР-178454,505,2172,404,957,65,051,3162,581,35,00СР-179454,505,2172,405,407,65,051,3162,581,35,00СР-180454,505,2166,303,607,411,851,3161,421,35,00

Таблица 9Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-181Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,2166,20Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)4,057,512,001,3161,331,35,00НетCP-182454,505,2166,204,507,512,001,3161,331,35,00CP-183454,505,2166,104,957,612,151,3161,251,35,00CP-184454,505,2166,105,407,612,151,3161,251,35,00CP-185454,505,2151,803,607,428,151,3158,421,35,00CP-186454,505,2151,604,057,528,451,3158,251,35,00CP-187454,505,2151,604,507,528,451,3158,251,35,00CP-188454,505,2151,454,957,628,801,3157,921,35,00CP-189454,505,2151,455,407,628,801,3157,921,35,00CP-190454,505,2141,103,607,440,201,3156,171,35,00

CP-191 454,505,2140,85 4,057,540,651,3155,831,35,00 CP-192454,505,2140,854,507,540,651,3155,831,35,00CP-193454,505,2140,554,957,641,101,3155,581,35,00CP-194454,505,2140,555,407,641,101,3155,581,35,00CP-195454,505,2134,303,607,447,801,3154,831,35,00CP-196454,505,2134,054,057,548,351,3154,331,35,00CP-197454,505,2134,054,507,548,351,3154,331,35,00CP-198454,505,2133,704,957,648,901,3154,001,35,00CP-199454,505,2133,705,407,648,901,3154,001,35,00CP-200454,505,2198,404,507,55,751,3118,081,35,00CP-201454,505,2191,153,607,413,601,3117,081,35,00CP-202454,505,2191,004,057,513,801,3117,001,35,00CP-203454,505,2191,004,507,513,801,3117,001,35,00CP-204454,505,2190,904,957,613,951,3116,921,35,00СР-205454,505,2190,905,407,613,951,3116,921,35,00СР-206454,505,2174,103,607,432,201,3114,501,35,00СР-207454,505,2173,764,057,532,601,3114,401,35,00СР-208454,505,2173,764,507,532,601,3114,401,35,00СР-209454,505,2173,504,957,633,001,3114,171,35,00СР-210454,505,2173,505,407,633,001,3114,171,35,00СР-211454,505,2161,453,607,445,951,3112,671,35,00СР-212454,505,2161,054,057,546,501,3112,421,35,00СР-213454,505,2161,054,507,546,501,3112,421,35,00СР-214454,505,2160,704,957,647,001,3112,171,35,00СР-215454,505,2160,705,407,647,001,3112,171,35,00СР-216454,505,2153,104,507,555,201,3111,171,35,00СР-217454,505,2208,903,607,46,001,3100,171,35,00СР-218454,505,2208,854,057,56,071,3100,131,35,00СР-219454,505,2208,854,507,56,071,3100,131,35,00СР-220454,505,2208,854,957,66,101,3100,081,35,00

Таблица 10Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы
оксида металла(2) Вторые частицы
оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической
смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-221Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,2208,85Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)5,407,66,101,3100,081,35,00НетCP-222454,505,2201,004,507,514,501,399,171,35,00 CP-223454,505,2183,003,607,433,851,396,921,35,00 CP-224454,505,2182,654,057,534,301,396,751,35,00 CP-225454,505,2182,654,507,534,301,396,751,35,00 CP-226454,505,2182,354,957,634,701,396,581,35,00 CP-227454,505,2182,355,407,634,701,396,581,35,00 CP-228454,505,2169,204,507,548,801,395,001,35,00 CP-229454,505,2161,103,607,457,351,394,251,35,00 CP-230454,505,2160,674,057,557,951,393,971,35,00 CP-231454,505,2160,674,507,557,951,393,971,35,00 CP-232454,505,2160,254,957,658,551,393,671,35,00 CP-233454,505,2160,255,407,658,551,393,671,35,00

Таблица 11Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы
оксида металла(2) Вторые частицы
оксида металла(3) Связующий материал
(фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы
Помимо
частиц с (1)
по (4) ВидДоля покровного
слоя [%]Степень легирования
[%]ПлотностьКоличество
[части]ВидСтепень легирования
[%]ПлотностьКоличество
[части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-234Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,2136,40Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)3,607,49,721,3156,471,340,00Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц: 210 нм)4,230,00CP-235454,505,2136,404,057,59,851,3156,251,340,004,230,00CP-236454,505,2136,404,507,59,851,3156,251,340,004,230,00CP-237454,505,2136,304,957,69,981,3156,201,340,004,230,00CP-238454,505,2136,305,407,69,981,3156,201,340,004,230,00CP-239454,505,2125,003,607,423,151,3153,081,340,004,230,00CP-240454,505,2124,904,057,523,441,3152,771,340,004,230,00CP-241454,505,2124,904,507,523,441,3152,771,340,004,230,00CP-242454,505,2124,704,957,623,701,3152,671,340,004,230,00CP-243454,505,2124,705,407,623,701,3152,671,340,004,230,00

CP-244 454,505,2116,50 3,607,433,151,3150,581,340,00 4,230,00CP-245454,505,2116,304,057,533,551,3150,251,340,004,230,00CP-246454,505,2116,304,507,533,551,3150,251,340,004,230,00CP-247454,505,2116,104,957,633,951,3149,921,340,004,230,00CP-248454,505,2116,105,407,633,951,3149,921,340,004,230,00CP-249454,505,2171,803,607,412,251,393,251,340,004,230,00CP-250454,505,2171,704,057,512,401,393,171,340,004,230,00CP-251454,505,2171,704,507,512,401,393,171,340,004,230,00CP-252454,505,2171,654,957,612,551,393,001,340,004,230,00CP-253454,505,2171,655,407,612,551,393,001,340,004,230,00CP-254454,505,2156,853,607,429,051,390,171,340,004,230,00CP-255454,505,2156,654,057,529,401,389,921,340,004,230,00CP-256454,505,2156,654,507,529,401,389,921,340,004,230,00CP-257454,505,2156,454,957,629,751,389,671,340,004,230,00СР-258454,505,2156,455,407,629,751,389,671,340,004,230,00СР-259454,505,2145,803,607,441,501,387,831,340,004,230,00СР-260454,505,2145,504,057,542,001,387,501,340,004,230,00СР-261454,505,2145,504,507,542,001,387,501,340,004,230,00СР-262454,505,2145,204,957,642,451,387,251,340,004,230,00СР-263454,505,2145,205,407,642,451,387,251,340,004,230,00СР-264454,505,2197,503,607,414,101,347,331,340,004,230,00СР-265454,505,2197,354,057,514,251,347,331,340,004,230,00СР-266454,505,2197,354,507,514,251,347,331,340,004,230,00СР-267454,505,2197,204,957,614,451,347,251,340,004,230,00СР-268454,505,2197,205,407,614,451,347,251,340,004,230,00СР-269454,505,2179,803,607,433,301,344,831,340,004,230,00СР-270454,505,2179,554,057,533,701,344,581,340,004,230,00

Таблица 12Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-271Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, 454,505,2179,55Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр 4,507,533,701,344,581,340,00Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц: 210 нм)4,230,00

(средний диаметр частиц: 230 нм) частиц: 20 нм) CP-272 454,505,2179,30 4,957,634,101,344,331,340,00 4,230,00CP-273454,505,2179,30 5,407,634,101,344,331,340,004,230,00CP-274454,505,2166,75 3,607,447,501,342,921,340,004,230,00CP-275454,505,2166,40 4,057,548,001,342,671,340,004,230,00CP-276454,505,2166,40 4,507,548,001,342,671,340,004,230,00CP-277454,505,2166,05 4,957,648,551,342,331,340,004,230,00CP-278454,505,2166,05 5,407,648,551,342,331,340,004,230,00CP-279454,505,2156,65 4,507,529,401,389,921,340,004,230,00CP-280454,505,2160,55 4,507,525,501,389,921,340,004,230,00

Таблица 13Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-C42Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:454,505,2115,85Нет1,3265,251,35,00Нет

230 нм) CP-C43 454,505,2176,85 1,3163,581,35,00 CP-C44 454,505,2214,46 1,3100,901,35,00 CP-C45 454,505,2114,50Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)4,507,51,651,3264,751,35,00 CP-C46 454,505,2174,624,507,52,511,3163,121,35,00 CP-C47 454,505,2211,634,507,53,051,3100,531,35,00 CP-C48 454,505,285,504,507,537,001,3254,171,35,00 CP-C49 454,505,2127,804,507,555,301,3153,171,35,00 CP-C50 454,505,2153,014,507,566,211,392,971,35,00 CP-C51Нет4,507,5141,251,3222,921,35,00 CP-C52 4,507,5199,361,3126,071,35,00 CP-C53 4,507,5231,051,373,251,35,00 CP-C54Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,284,254,507,52,431,3313,871,35,00 CP-C55 454,505,281,504,507,55,881,3312,701,35,00 CP-C56 454,505,275,054,507,514,071,3309,801,35,00 CP-C57 454,505,270,204,507,520,251,3307,581,35,00 CP-C58 454,505,267,104,507,524,191,3306,181,35,00 CP-C59 454,505,2218,084,507,56,301,384,371,35,00 CP-C60 454,505,2209,804,507,515,121,383,471,35,00 CP-C61 454,505,2190,474,507,535,721,381,351,35,00 CP-C62 454,505,2176,274,507,550,851,379,801,35,00 CP-C63 454,505,2167,354,507,560,351,378,831,35,00

Таблица 14Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-C64Частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм)45-5,1150,26Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)4,507,528,731,3160,021,35,00Нет

CP-C65Частицы сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм)45-5,1150,26 4,507,528,731,3160,021,35,00 CP-C66Частицы оксида титана, покрытые Sb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,2151,61 4,507,528,431,3158,271,35,00

СР-С67Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,2153,50Частицы оксида олова, обедненного кислородом, (средний диаметр частиц: 20 нм)-6,625,321,3160,301,35,00 СР-С68Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,2152,45Частицы оксида индия-олова (средний диаметр частиц: 20 нм)4,507,127,051,3159,171,35,00 СР-С69Частицы оксида титана, покрытые W-легированным454,505,2153,50Частицы Sb-легированного оксида олова (средний диаметр 4,506,625,321,3160,301,35,00

оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) частиц: 20 нм) СР-С70Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,0148,90Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)4,507,529,031,3161,781,35,00

СР-С71Частицы сульфата бария, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,2151,61 4,507,528,431,3158,271,35,00

Таблица 15Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорга-нической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]Плот-ностьКоличество [части]ПлотностьКоли-чество [части] (содер-жание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части] CP-281Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,0110,70Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)3,606,72,971,3268,881,35,00НетCP-282454,505,0110,704,056,72,971,3268,881,35,00CP-283454,505,0110,704,506,62,931,3268,951,35,00CP-284454,505,0110,704,956,62,931,3268,951,35,00CP-285454,505,0110,705,406,62,931,3268,951,35,00CP-286454,505,0107,154,506,67,081,3267,951,35,00CP-287454,505,098,703,606,717,201,3265,171,35,00CP-288454,505,098,704,056,717,201,3265,171,35,00CP-289454,505,098,704,506,616,951,3265,581,35,00CP-290454,505,098,704,956,616,951,3265,581,35,00CP-291454,505,098,705,406,616,951,3265,581,35,00CP-292454,505,092,404,506,624,401,3263,671,35,00CP-293454,505,088,203,606,729,551,3262,081,35,00CP-294454,505,088,204,056,729,551,3262,081,35,00CP-295454,505,088,304,506,629,151,3262,581,35,00CP-296454,505,088,304,956,629,151,3262,581,35,00CP-297454,505,088,305,406,629,151,3262,581,35,00

CP-298 454,505,0134,20 4,506,63,551,3228,751,35,00 CP-299454,505,0129,703,606,78,701,3227,671,35,00CP-300454,505,0129,704,056,78,701,3227,671,35,00CP-301454,505,0129,734,506,68,571,3227,831,35,00CP-302454,505,0129,734,956,68,571,3227,831,35,00CP-303454,505,0129,735,406,68,571,3227,831,35,00CP-304454,505,0119,203,606,720,801,3225,001,35,00CP-305454,505,0119,204,056,720,801,3225,001,35,00СР-306454,505,0119,304,506,620,501,3225,331,35,00СР-307454,505,0119,304,956,620,501,3225,331,35,00СР-308454,505,0119,305,406,620,501,3225,331,35,00СР-309454,505,0111,403,606,729,851,3222,921,35,00СР-310454,505,0111,404,056,729,851,3222,921,35,00СР-311454,505,0111,454,506,629,451,3223,501,35,00СР-312454,505,0111,454,956,629,451,3223,501,35,00СР-313454,505,0111,455,406,629,451,3223,501,35,00СР-314454,505,0106,504,506,635,151,3222,251,35,00СР-315454,505,0170,203,606,74,571,3167,051,35,00СР-316454,505,0170,204,056,74,571,3167,051,35,00СР-317454,505,0170,204,506,64,501,3167,171,35,00СР-318454,505,0170,204,956,64,501,3167,171,35,00СР-319454,505,0170,205,406,64,501,3167,171,35,00СР-320454,505,0164,303,606,711,051,3166,081,35,00

Таблица 16Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-321Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)454,505,0164,30Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)4,056,711,051,3166,081,35,00НетCP-322454,505,0164,454,506,610,861,3166,151,35,00CP-323454,505,0164,454,956,610,861,3166,151,35,00CP-324454,505,0164,455,406,610,861,3166,151,35,00CP-325454,505,0150,603,606,726,251,3163,581,35,00CP-326454,505,0150,604,056,726,251,3163,581,35,00CP-327454,505,0150,804,506,625,901,3163,831,35,00CP-328454,505,0150,804,956,625,901,3163,831,35,00CP-329454,505,0150,805,406,625,901,3163,831,35,00CP-330454,505,0140,303,606,737,601,3161,831,35,00

CP-331 454,505,0140,30 4,056,737,601,3161,831,35,00 CP-332454,505,0140,554,506,637,151,3162,171,35,00CP-333454,505,0140,554,956,637,151,3162,171,35,00CP-334454,505,0140,555,406,637,151,3162,171,35,00CP-335454,505,0133,803,606,744,821,3160,631,35,00CP-336454,505,0133,804,056,744,821,3160,631,35,00CP-337454,505,0134,104,506,644,251,3161,081,35,00CP-338454,505,0134,104,956,644,251,3161,081,35,00CP-339454,505,0134,105,406,644,251,3161,081,35,00CP-340454,505,0196,604,506,65,191,3122,021,35,00CP-341454,505,0189,703,606,712,741,3120,931,35,00CP-342454,505,0189,704,056,712,741,3120,931,35,00CP-343454,505,0189,754,506,612,551,3121,171,35,00CP-344454,505,0189,754,956,612,551,3121,171,35,00CP-345454,505,0189,755,406,612,551,3121,171,35,00CP-346454,505,0173,403,606,730,201,3119,001,35,00CP-347454,505,0173,404,056,730,201,3119,001,35,00CP-348454,505,0173,704,506,629,801,3119,171,35,00CP-349454,505,0173,704,956,629,801,3119,171,35,00СР-350454,505,0173,705,406,629,801,3119,171,35,00СР-351454,505,0161,303,606,743,251,3117,421,35,00СР-352454,505,0161,304,056,743,251,3117,421,35,00СР-353454,505,0161,704,506,642,701,3117,671,35,00СР-354454,505,0161,704,956,642,701,3117,671,35,00СР-355454,505,0161,705,406,642,701,3117,671,35,00СР-356454,505,0154,104,506,650,851,3116,751,35,00СР-357454,505,0207,303,606,75,561,3103,571,35,00СР-358454,505,0207,304,056,75,561,3103,571,35,00СР-359454,505,0207,354,506,65,481,3103,621,35,00СР-360454,505,0207,354,956,65,481,3103,621,35,00

Таблица 17Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-361Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,0207,35Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)5,406,65,481,3103,621,35,00НетCP-362454,505,0200,074,506,613,211,3102,871,35,00 CP-363454,505,0182,623,606,731,821,3100,931,35,00 CP-364454,505,0182,624,056,731,821,3100,931,35,00 CP-365454,505,0182,954,506,631,401,3101,081,35,00 CP-366454,505,0182,954,956,631,401,3101,081,35,00 CP-367454,505,0182,955,406,631,401,3101,081,35,00 CP-368454,505,0170,154,506,644,951,399,831,35,00 CP-369454,505,0161,653,606,754,181,398,621,35,00 CP-370454,505,0161,654,056,754,181,398,621,35,00 CP-371454,505,0162,104,506,653,501,399,001,35,00

CP-372 454,505,0162,10 4,956,653,501,399,001,35,00 CP-373454,505,0162,105,406,653,501,399,001,35,00

Таблица 18Раствор материала покрытия для формирования электропро-водного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-374Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 454,505,0134,00Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)3,606,79,001,3161,671,340,00Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц: 210 нм)4,230,00

230 нм) CP-375 454,505,0134,00 4,056,79,001,3161,671,340,00 4,230,00CP-376 454,505,0134,10 4,506,68,851,3161,751,340,004,230,00CP-377 454,505,0134,10 4,956,68,851,3161,751,340,004,230,00CP-378 454,505,0134,10 5,406,68,851,3161,751,340,004,230,00CP-379 454,505,0123,15 3,606,721,451,3159,001,340,004,230,00CP-380 454,505,0123,15 4,056,721,451,3159,001,340,004,230,00CP-381 454,505,0123,25 4,506,621,151,3159,331,340,004,230,00CP-382 454,505,0123,25 4,956,621,151,3159,331,340,004,230,00CP-383 454,505,0123,25 5,406,621,151,3159,331,340,004,230,00CP-384 454,505,0115,00 3,606,730,851,3156,921,340,004,230,00CP-385 454,505,0115,00 4,056,730,851,3156,921,340,004,230,00CP-386 454,505,0115,20 4,506,630,451,3157,251,340,004,230,00CP-387 454,505,0115,20 4,956,630,451,3157,251,340,004,230,00CP-388 454,505,0115,20 5,406,630,451,3157,251,340,004,230,00CP-389 454,505,0169,80 3,606,711,401,398,001,340,004,230,00CP-390 454,505,0169,80 4,056,711,401,398,001,340,004,230,00CP-391 454,505,0169,85 4,506,611,251,398,171,340,004,230,00CP-392 454,505,0169,85 4,956,611,251,398,171,340,004,230,00CP-393 454,505,0169,85 5,406,611,251,398,171,340,004,230,00CP-394 454,505,0155,60 3,606,727,101,395,501,340,004,230,00CP-395 454,505,0155,60 4,056,727,101,395,501,340,004,230,00CP-396 454,505,0155,75 4,506,626,751,395,831,340,004,230,00CP-397 454,505,0155,75 4,956,626,751,395,831,340,004,230,00CP-398 454,505,0155,75 5,406,626,751,395,831,340,004,230,00CP-399 454,505,0144,95 3,606,738,851,393,671,340,004,230,00CP-400 454,505,0144,95 4,056,738,851,393,671,340,004,230,00CP-401 454,505,0145,20 4,506,638,351,394,081,340,004,230,00

CP-402 454,505,0145,20 4,956,638,351,394,081,340,00 4,230,00CP-403 454,505,0145,20 5,406,638,351,394,081,340,004,230,00CP-404 454,505,0195,90 3,606,713,151,351,581,340,004,230,00

Таблица 19Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-405Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,0195,90Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)4,056,713,151,351,581,340,00Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц: 210 нм)4,230,00CP-406454,505,0196,10 4,506,612,951,351,581,340,004,230,00CP-407454,505,0196,10 4,956,612,951,351,581,340,004,230,00

CP-408 454,505,0196,10 5,406,612,951,351,581,340,00 4,230,00CP-409454,505,0179,15 3,606,731,201,349,421,340,004,230,00CP-410454,505,0179,15 4,056,731,201,349,421,340,004,230,00CP-411454,505,0179,45 4,506,630,801,349,581,340,004,230,00CP-412454,505,0179,45 4,956,630,801,349,581,340,004,230,00CP-413454,505,0179,45 5,406,630,801,349,581,340,004,230,00CP-414454,505,0166,60 3,606,744,701,347,831,340,004,230,00CP-415454,505,0166,60 4,056,744,701,347,831,340,004,230,00CP-416454,505,0167,05 4,506,644,101,348,081,340,004,230,00CP-417454,505,0167,05 4,956,644,101,348,081,340,004,230,00CP-418454,505,0167,05 5,406,644,101,348,081,340,004,230,00CP-419454,505,0155,75 4,506,626,751,395,831,340,004,230,00CP-420454,505,0159,00 4,506,623,201,396,331,340,004,230,00

Таблица 20Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-C76Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,0113,20Нет1,3269,671,35,00НетCP-C77 454,505,0174,30 1,3167,831,35,00 CP-C78 454,505,0212,50 1,3104,171,35,00 CP-C79 454,505,0112,00Частицы F-легированного оксида олова (средний 4,506,61,481,3269,201,35,00

диаметр частиц:
20 нм) CP-C80 454,505,0172,20 4,506,62,291,3167,521,35,00 CP-C81 454,505,0209,90 4,506,62,781,3103,871,35,00 CP-C82 454,505,084,60 4,506,633,501,3261,501,35,00 CP-C83 454,505,0128,20 4,506,650,761,3160,071,35,00 CP-C84 454,505,0154,80 4,506,661,301,398,171,35,00 CP-C85Нет 4,506,6132,301,3237,831,35,00 CP-C86 4,506,6191,851,3138,581,35,00 CP-C87 4,506,6225,671,382,221,35,00 CP-C88Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)454,505,082,10 4,506,62,171,3317,881,35,00 CP-C89 454,505,079,50 4,506,65,251,3317,081,35,00 CP-C90 454,505,073,50 4,506,612,611,3314,821,35,00 CP-C91 454,505,068,80 4,506,618,181,3313,371,35,00 CP-C92 454,505,065,90 4,506,621,751,3312,251,35,00 CP-C93 454,505,0216,76 4,506,65,751,387,481,35,00 CP-C94 454,505,0209,10 4,506,613,811,386,821,35,00 CP-C95 454,505,0191,10 4,506,632,801,385,171,35,00 CP-C96 454,505,0177,65 4,506,646,951,384,001,35,00 CP-C97 454,505,0169,20 4,506,655,851,383,251,35,00

Таблица 21Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-C98Частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц:
230 нм)45-5,1152,20Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)4,506,625,601,3162,001,35,00НетCP-C99Частицы 45-5,1152,20 4,506,625,601,3162,001,35,00

сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц:
230 нм) CP-C100Частицы оксида титана, покрытые Sb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,2153,50 4,506,625,351,3160,251,35,00 СР-С101Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)454,505,0150,75Частицы оксида олова, обедненного кислородом, (средний диаметр частиц: 20 нм)-6,625,901,3163,921,35,00CP-C102 454,505,0149,72Частицы оксида индия олова (средний диаметр частиц: 20 нм)4,507,127,631,3162,501,35,00

CP-C103 454,505,0150,76Частицы Sb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)4,506,625,871,3163,951,35,00 CP-C104Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,2153,50Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)4,506,625,321,3160,301,35,00CP-C105Частицы сульфата бария, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,0150,75 4,506,625,901,3163,921,35,00

Таблица 44Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-421Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)454,505,1111,95Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)3,607,03,071,3266,631,35,00НетCP-422454,505,1111,954,057,03,071,3266,631,35,00CP-423454,505,1111,954,507,03,071,3266,631,35,00CP-424454,505,1111,954,957,03,071,3266,631,35,00CP-425454,505,1111,955,407,03,071,3266,631,35,00CP-426454,505,1108,304,507,07,431,3265,451,35,00CP-427454,505,199,603,607,017,771,3262,721,35,00CP-428454,505,199,604,057,017,771,3262,721,35,00CP-429454,505,199,604,507,017,771,3262,721,35,00CP-430454,505,199,604,957,017,771,3262,721,35,00CP-431454,505,199,605,407,017,771,3262,721,35,00

CP-432 454,505,193,10 4,507,025,561,3260,571,35,00 CP-433454,505,188,923,607,030,511,3259,281,35,00CP-434454,505,188,924,057,030,511,3259,281,35,00CP-435454,505,188,924,507,030,511,3259,281,35,00CP-436454,505,188,924,957,030,511,3259,281,35,00CP-437454,505,188,925,407,030,511,3259,281,35,00CP-438454,505,1135,454,507,03,721,3259,281,35,00CP-439454,505,1130,903,607,08,981,3225,201,35,00CP-440454,505,1130,904,057,08,981,3225,201,35,00CP-441454,505,1130,904,507,08,981,3225,201,35,00CP-442454,505,1130,904,957,08,981,3225,201,35,00CP-443454,505,1130,905,407,08,981,3225,201,35,00CP-444454,505,1120,153,607,021,441,3222,351,35,00CP-445454,505,1120,154,057,021,441,3222,351,35,00CP-446454,505,1120,154,507,021,441,3222,351,35,00СР-447454,505,1120,154,957,021,441,3222,351,35,00СР-448454,505,1120,155,407,021,441,3222,351,35,00СР-449454,505,1112,083,607,030,771,3220,251,35,00СР-450454,505,1112,084,057,030,771,3220,251,35,00СР-451454,505,1112,084,507,030,771,3220,251,35,00СР-452454,505,1112,084,957,030,771,3220,251,35,00СР-453454,505,1112,085,407,030,771,3220,251,35,00СР-454454,505,1106,954,507,036,701,3218,921,35,00СР-455454,505,1171,353,607,04,701,3164,921,35,00СР-456454,505,1171,354,057,04,701,3164,921,35,00СР-457454,505,1171,354,507,04,701,3164,921,35,00СР-458454,505,1171,354,957,04,701,3164,921,35,00СР-459454,505,1171,355,407,04,701,3164,921,35,00СР-460454,505,1165,373,607,011,351,3163,801,35,00

Таблица 45Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-461Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)454,505,1165,37Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)4,057,011,351,3163,801,35,00НетCP-462454,505,1165,374,507,011,351,3163,801,35,00CP-463454,505,1165,374,957,011,351,3163,801,35,00CP-464454,505,1165,375,407,011,351,3163,801,35,00CP-465454,505,1151,303,607,027,001,3161,171,35,00CP-466454,505,1151,304,057,027,001,3161,171,35,00CP-467454,505,1151,304,507,027,001,3161,171,35,00CP-468454,505,1151,304,957,027,001,3161,171,35,00CP-469454,505,1151,305,407,027,001,3161,171,35,00CP-470454,505,1140,843,607,038,661,3159,171,35,00CP-471454,505,1140,844,057,038,661,3159,171,35,00

CP-472 454,505,1140,84 4,507,038,661,3159,171,35,00 CP-473454,505,1140,844,957,038,661,3159,171,35,00CP-474454,505,1140,845,407,038,661,3159,171,35,00CP-475454,505,1134,203,607,046,051,3157,921,35,00CP-476454,505,1134,204,057,046,051,3157,921,35,00CP-477454,505,1134,204,507,046,051,3157,921,35,00CP-478454,505,1134,204,957,046,051,3157,921,35,00CP-479454,505,1134,205,407,046,051,3157,921,35,00CP-480454,505,1197,534,507,05,431,3120,071,35,00CP-481454,505,1190,453,607,013,081,3119,121,35,00CP-482454,505,1190,454,057,013,081,3119,121,35,00CP-483454,505,1190,454,507,013,081,3119,121,35,00CP-484454,505,1190,454,957,013,081,3119,121,35,00CP-485454,505,1190,455,407,013,081,3119,121,35,00CP-486454,505,1173,863,607,031,021,3116,871,35,00СР-487454,505,1173,864,057,031,021,3116,871,35,00СР-488454,505,1173,864,507,031,021,3116,871,35,00СР-489454,505,1173,864,957,031,021,3116,871,35,00СР-490454,505,1173,865,407,031,021,3116,871,35,00СР-491454,505,1161,543,607,044,351,3115,181,35,00СР-492454,505,1161,544,057,044,351,3115,181,35,00СР-493454,505,1161,544,507,044,351,3115,181,35,00СР-494454,505,1161,544,957,044,351,3115,181,35,00СР-495454,505,1161,545,407,044,351,3115,181,35,00СР-496454,505,1153,764,507,052,761,3114,131,35,00СР-497454,505,1208,143,607,05,721,3101,901,35,00СР-498454,505,1208,144,057,05,721,3101,901,35,00СР-499454,505,1208,144,507,05,721,3101,901,35,00СР-500454,505,1208,144,957,05,721,3101,901,35,00

Таблица 46Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-501Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)454,505,1208,14Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)5,407,05,721,3101,901,35,00НетCP-502454,505,1200,624,507,013,761,3101,031,35,00 CP-503454,505,1182,953,607,032,641,399,021,35,00 CP-504454,505,1182,954,057,032,641,399,021,35,00 CP-505454,505,1182,954,507,032,641,399,021,35,00 CP-506454,505,1182,954,957,032,641,399,021,35,00 CP-507454,505,1182,955,407,032,641,399,021,35,00 CP-508454,505,1169,874,507,046,621,397,521,35,00 CP-509454,505,1161,623,607,055,451,396,551,35,00 CP-510454,505,1161,624,057,055,451,396,551,35,00 CP-511454,505,1161,624,507,055,451,396,551,35,00

CP-512 454,505,1161,62 4,957,055,451,396,551,35,00 CP-513454,505,1161,625,407,055,451,396,551,35,00 CP-514454,505,1135,253,607,09,281,3159,121,340,00Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц: 210 нм)4,230,00CP-515454,505,1135,254,057,09,281,3159,121,340,004,230,00CP-516454,505,1135,254,507,09,281,3159,121,340,004,230,00CP-517454,505,1135,254,957,09,281,3159,121,340,004,230,00CP-518454,505,1135,255,407,09,281,3159,121,340,004,230,00CP-519454,505,1124,133,607,022,151,3156,201,340,004,230,00CP-520454,505,1124,134,057,022,151,3156,201,340,004,230,00CP-521454,505,1124,134,507,022,151,3156,201,340,004,230,00CP-522454,505,1124,134,957,022,151,3156,201,340,004,230,00CP-523454,505,1124,135,407,022,151,3156,201,340,004,230,00CP-524454,505,1115,803,607,031,791,3154,021,340,004,230,00CP-525454,505,1115,804,057,031,791,3154,021,340,004,230,00СР-526454,505,1115,804,507,031,791,3154,021,340,004,230,00СР-527454,505,1115,804,957,031,791,3154,021,340,004,230,00СР-528454,505,1115,805,407,031,791,3154,021,340,004,230,00СР-529454,505,1170,853,607,011,721,395,721,340,004,230,00СР-530454,505,1170,854,057,011,721,395,721,340,004,230,00СР-531454,505,1170,854,507,011,721,395,721,340,004,230,00СР-532454,505,1170,854,957,011,721,395,721,340,004,230,00СР-533454,505,1170,855,407,011,721,395,721,340,004,230,00СР-534454,505,1156,323,607,027,901,392,971,340,004,230,00СР-535454,505,1156,324,057,027,901,392,971,340,004,230,00СР-536454,505,1156,324,507,027,901,392,971,340,004,230,00СР-537454,505,1156,324,957,027,901,392,971,340,004,230,00СР-538454,505,1156,325,407,027,901,392,971,340,004,230,00СР-539454,505,1145,503,607,039,951,390,921,340,004,230,00СР-540454,505,1145,504,057,039,951,390,921,340,004,230,00

Таблица 47Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-541Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,1145,50Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)4,507,039,951,390,921,340,00Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц:
210 нм)4,230,00CP-542454,505,1145,50 4,957,039,951,390,921,340,004,230,00

CP-543 454,505,1145,50 5,407,039,951,390,921,340,00 4,230,00CP-544454,505,1196,78 3,607,013,501,349,531,340,004,230,00CP-545454,505,1196,78 4,057,013,501,349,531,340,004,230,00CP-546454,505,1196,78 4,507,013,501,349,531,340,004,230,00CP-547454,505,1196,78 4,957,013,501,349,531,340,004,230,00CP-548454,505,1196,78 5,407,013,501,349,531,340,004,230,00CP-549454,505,1179,62 3,607,032,051,347,221,340,004,230,00CP-550454,505,1179,62 4,057,032,051,347,221,340,004,230,00CP-551454,505,1179,62 4,507,032,051,347,221,340,004,230,00CP-552454,505,1179,62 4,957,032,051,347,221,340,004,230,00CP-553454,505,1179,62 5,407,032,051,347,221,340,004,230,00CP-554454,505,1166,90 3,607,045,821,345,471,340,004,230,00CP-555454,505,1166,90 4,057,045,821,345,471,340,004,230,00CP-556454,505,1166,90 4,507,045,821,345,471,340,004,230,00CP-557454,505,1166,90 4,957,045,821,345,471,340,004,230,00CP-558454,505,1166,90 5,407,045,821,345,471,340,004,230,00CP-559454,505,1156,32 4,507,027,901,392,971,340,004,230,00CP-560454,505,1159,70 4,507,024,151,393,581,340,004,230,00

Таблица 48Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-C107Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)454,505,1114,55Нет1,3267,421,35,00НетCP-C108 454,505,1175,58 1,3165,701,35,00 CP-C109 454,505,1213,48 1,3102,531,35,00 CP-C110 454,505,1113,25Частицы Nb-легированного 4,507,01,551,3267,001,35,00

оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм) CP-C111 454,505,1173,45 4,507,02,371,3165,301,35,00 CP-C112 454,505,1210,77 4,507,02,901,3102,221,35,00 CP-C113 454,505,185,10 4,507,035,041,3258,101,35,00 CP-C114 454,505,1128,15 4,507,052,761,3156,821,35,00 CP-C115 454,505,1154,12 4,507,063,461,395,701,35,00 CP-C116Нет 4,507,0136,401,3231,001,35,00 CP-C117 4,507,0195,351,3132,751,35,00 CP-C118 4,507,0228,201,378,001,35,00 CP-C119Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)454,505,183,15 4,507,02,281,3315,951,35,00 CP-C120 454,505,180,50 4,507,05,531,3314,951,35,00 CP-C121 454,505,174,24 4,507,013,251,3312,521,35,00 CP-C122 454,505,169,55 4,507,019,091,3310,601,35,00 CP-C123 454,505,166,50 4,507,022,821,3309,471,35,00 CP-C124 454,505,1217,47 4,507,05,981,385,921,35,00 CP-C125 454,505,1209,55 4,507,014,371,385,131,35,00 CP-C126 454,505,1190,95 4,507,034,061,383,321,35,00 CP-C127 454,505,1177,18 4,507,048,631,381,981,35,00 CP-C128 454,505,1168,49 4,507,057,821,381,151,35,00

Таблица 49Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-561Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,2113,20Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)3,607,33,181,3264,371,35,00НетCP-562454,505,2113,204,057,33,181,3264,371,35,00CP-563454,505,2113,204,507,43,221,3264,301,35,00CP-564454,505,2113,204,957,43,221,3264,301,35,00CP-565454,505,2113,205,407,53,261,3264,231,35,00CP-566454,505,2109,454,507,47,791,3262,931,35,00CP-567454,505,2100,603,607,318,361,3260,071,35,00CP-568454,505,2100,604,057,318,361,3260,071,35,00CP-569454,505,2100,504,507,418,591,3259,851,35,00CP-570454,505,2100,504,957,418,591,3259,851,35,00CP-571454,505,2100,435,407,518,831,3259,571,35,00CP-572454,505,293,804,507,426,701,3257,501,35,00

CP-573 454,505,289,70 3,607,331,481,3256,371,35,00 CP-574454,505,289,704,057,331,481,3256,371,35,00CP-575454,505,289,574,507,431,871,3255,931,35,00CP-576454,505,289,574,957,431,871,3255,931,35,00CP-577454,505,289,425,407,532,241,3255,571,35,00CP-578454,505,2136,704,507,43,901,3224,001,35,00CP-579454,505,2132,053,607,39,271,3222,801,35,00CP-580454,505,2132,054,057,39,271,3222,801,35,00CP-581454,505,2132,004,507,49,401,3222,671,35,00CP-582454,505,2132,004,957,49,401,3222,671,35,00CP-583454,505,2131,955,407,59,521,3222,551,35,00CP-584454,505,2121,103,607,322,101,3219,671,35,00CP-585454,505,2121,104,057,322,101,3219,671,35,00CP-586454,505,2120,954,507,422,381,3219,451,35,00СР-587454,505,2120,954,957,422,381,3219,451,35,00СР-588454,505,2120,825,407,522,661,3219,201,35,00СР-589454,505,2112,883,607,331,701,3217,371,35,00СР-590454,505,2112,884,057,331,701,3217,371,35,00СР-591454,505,2112,704,507,432,081,3217,031,35,00СР-592454,505,2112,70 4,957,432,081,3217,031,35,00СР-593454,505,2112,52 5,407,532,451,3216,721,35,00СР-594454,505,2107,45 4,507,438,221,3215,551,35,00СР-595454,505,2172,50 3,607,34,851,3162,751,35,00СР-596454,505,2172,50 4,057,34,851,3162,751,35,00СР-597454,505,2172,48 4,507,44,901,3162,701,35,00СР-598454,505,2172,48 4,957,44,901,3162,701,35,00СР-599454,505,2172,42 5,407,54,981,3162,671,35,00СР-600454,505,2166,40 3,607,311,681,3161,531,35,00

Таблица 50Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-601Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,2166,40Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)4,057,311,681,3161,531,35,00НетCP-602454,505,2166,304,507,411,831,3161,451,35,00CP-603454,505,2166,304,957,411,831,3161,451,35,00CP-604454,505,2166,225,407,511,991,3161,321,35,00CP-605454,505,2152,023,607,327,751,3158,721,35,00CP-606454,505,2152,024,057,327,751,3158,721,35,00CP-607454,505,2151,834,507,428,091,3158,471,35,00CP-608454,505,2151,834,957,428,091,3158,471,35,00CP-609454,505,2151,615,407,528,431,3158,271,35,00CP-610454,505,2141,373,607,339,691,3156,571,35,00CP-611454,505,2141,374,057,339,691,3156,571,35,00

CP-612 454,505,2141,10 4,507,440,151,3156,251,35,00 CP-613454,505,2141,104,957,440,151,3156,251,35,00CP-614454,505,2140,825,407,540,621,3155,931,35,00CP-615454,505,2134,603,607,347,241,3155,271,35,00CP-616454,505,2134,604,057,347,241,3155,271,35,00CP-617454,505,2134,304,507,447,781,3154,871,35,00CP-618454,505,2134,304,957,447,781,3154,871,35,00CP-619454,505,2133,985,407,548,311,3154,521,35,00CP-620454,505,2198,454,507,45,651,3118,171,35,00CP-621454,505,2191,273,607,313,431,3117,171,35,00CP-622454,505,2191,274,057,313,431,3117,171,35,00CP-623454,505,2191,154,507,413,601,3117,081,35,00CP-624454,505,2191,154,957,413,601,3117,081,35,00CP-625454,505,2191,005,407,513,781,3117,031,35,00CP-626454,505,2174,323,607,331,821,3114,771,35,00CP-627454,505,2174,324,057,331,821,3114,771,35,00CP-628454,505,2174,054,507,432,201,3114,581,35,00CP-629454,505,2174,054,957,432,201,3114,581,35,00CP-630454,505,2173,785,407,532,581,3114,401,35,00СР-631454,505,2161,773,607,345,421,3113,021,35,00СР-632454,505,2161,774,057,345,421,3113,021,35,00СР-633454,505,2161,424,507,445,951,3112,721,35,00СР-634454,505,2161,424,957,445,951,3112,721,35,00СР-635454,505,2161,075,407,546,461,3112,451,35,00СР-636454,505,2153,464,507,454,601,3111,571,35,00СР-637454,505,2209,003,607,35,871,3100,221,35,00СР-638454,505,2209,004,057,35,871,3100,221,35,00СР-639454,505,2208,924,507,45,961,3100,201,35,00СР-640454,505,2208,924,957,45,961,3100,201,35,00

Таблица 51Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-641Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,2208,87Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)5,407,56,031,3100,171,35,00НетCP-642454,505,2201,164,507,414,301,399,231,35,00 CP-643454,505,2183,273,607,333,451,397,131,35,00 CP-644454,505,2183,274,057,333,451,397,131,35,00 CP-645454,505,2182,974,507,433,851,396,971,35,00 CP-646454,505,2182,974,957,433,851,396,971,35,00 CP-647454,505,2182,675,407,534,251,396,801,35,00 CP-648454,505,2169,564,507,448,271,395,281,35,00 CP-649454,505,2161,583,607,356,711,394,521,35,00 CP-650454,505,2161,584,057,356,711,394,521,35,00 CP-651454,505,2161,134,507,457,321,394,251,35,00 CP-652454,505,2161,134,957,457,321,394,251,35,00 CP-653454,505,2160,685,407,557,941,393,971,35,00

Таблица 52Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-654Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)454,505,2136,45Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)3,607,39,581,3156,621,340,00Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц:
210 нм)4,230,00CP-655454,505,2136,454,057,39,581,3156,621,340,004,230,00CP-656454,505,2136,404,507,49,701,3156,501,340,004,230,00CP-657454,505,2136,404,957,49,701,3156,501,340,004,230,00CP-658454,505,2136,345,407,59,831,3156,381,340,004,230,00CP-659454,505,2125,103,607,322,831,3153,451,340,004,230,00CP-660454,505,2125,104,057,322,831,3153,451,340,004,230,00CP-661454,505,2124,954,507,423,121,3153,221,340,004,230,00CP-662454,505,2124,954,957,423,121,3153,221,340,004,230,00CP-663454,505,2124,825,407,523,401,3152,971,340,004,230,00CP-664454,505,2116,603,607,332,731,3151,121,340,004,230,00

CP-665 454,505,2116,60 4,057,332,731,3151,121,340,00 4,230,00CP-666454,505,2116,424,507,433,131,3150,751,340,004,230,00CP-667454,505,2116,424,957,433,131,3150,751,340,004,230,00CP-668454,505,2116,255,407,533,531,3150,371,340,004,230,00CP-669454,505,2"171,923,607,312,061,393,371,340,004,230,00CP-670454,505,2171,924,057,312,061,393,371,340,004,230,00CP-671454,505,2171,824,507,412,231,393,251,340,004,230,00CP-672454,505,2171,824,957,412,231,393,251,340,004,230,00CP-673454,505,2171,725,407,512,381,393,171,340,004,230,00CP-674454,505,2157,083,607,328,671,390,421,340,004,230,00CP-675454,505,2157,084,057,328,671,390,421,340,004,230,00CP-676454,505,2156,854,507,429,021,390,221,340,004,230,00CP-677454,505,2156,854,957,429,021,390,221,340,004,230,00CP-678454,505,2156,645,407,529,371,389,981,340,004,230,00СР-679454,505,2146,043,607,341,001,388,271,340,004,230,00СР-680454,505,2146,044,057,341,001,388,271,340,004,230,00СР-681454,505,2145,764,507,441,481,387,931,340,004,230,00СР-682454,505,2145,764,957,441,481,387,931,340,004,230,00СР-683454,505,2145,485,407,541,961,387,601,340,004,230,00СР-684454,505,2197,623,607,313,861,347,531,340,004,230,00СР-685454,505,2197,624,057,313,861,347,531,340,004,230,00СР-686454,505,2197,484,507,414,051,347,451,340,004,230,00СР-687454,505,2197,484,957,414,051,347,451,340,004,230,00СР-688454,505,2197,365,407,514,221,347,371,340,004,230,00СР-689454,505,2180,093,607,332,871,345,071,340,004,230,00СР-690454,505,2180,094,057,332,871,345,071,340,004,230,00

Таблица 53Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-691Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)454,505,2179,82Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)4,507,433,261,344,871,340,00Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц:
210 нм)4,230,00

CP-692 454,505,2179,82 4,957,433,261,344,871,340,00 4,230,00CP-693 454,505,2179,55 5,407,533,661,344,651,340,004,230,00CP-694 454,505,2167,15 3,607,346,921,343,221,340,004,230,00CP-695 454,505,2167,15 4,057,346,921,343,221,340,004,230,00CP-696 454,505,2166,77 4,507,447,461,342,951,340,004,230,00CP-697 454,505,2166,77 4,957,447,461,342,951,340,004,230,00CP-698 454,505,2166,40 5,407,548,001,342,671,340,004,230,00CP-699 454,505,2156,85 4,507,429,021,390,221,340,004,230,00CP-700 454,505,2160,36 4,507,425,101,390,901,340,004,230,00

Таблица 54Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-C129Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)454,505,2115,85Нет1,3265,251,35,00НетCP-C130 454,505,2176,85 1,3163,581,35,00 CP-C131 454,505,2214,46 1,3100,901,35,00 CP-C132 454,505,2114,50Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)4,507,41,631,3264,781,35,00

CP-C133 454,505,2174,63 4,507,42,481,3163,151,35,00 CP-C134 454,505,2211,67 4,507,43,001,3100,551,35,00 CP-C135 454,505,285,65 4,507,436,571,3254,631,35,00 CP-C136 454,505,2128,12 4,507,454,701,3153,631,35,00 CP-C137 454,505,2153,49 4,507,465,531,393,301,35,00 CP-C138Нет 4,507,4140,301,3224,501,35,00 CP-C139 4,507,4198,601,3127,331,35,00 CP-C140 4,507,4230,501,374,171,35,00 CP-C141Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)454,505,284,25 4,507,42,401,3313,921,35,00 CP-C142 454,505,281,56 4,507,45,801,3312,731,35,00

CP-C143 454,505,275,10 4,507,413,891,3310,021,35,00 CP-C144 454,505,270,28 4,507,420,001,3307,871,35,00 CP-C145 454,505,267,19 4,507,423,901,3306,571,35,00 CP-C146 454,505,2218,17 4,507,46,201,384,381,35,00 CP-C147 454,505,2209,94 4,507,414,951,383,521,35,00 CP-C148 454,505,2190,80 4,507,435,301,381,501,35,00 CP-C149 454,505,2176,69 4,507,450,301,380,021,35,00 CP-C150 454,505,2167,83 4,507,459,721,379,081,35,00

Таблица 55Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-C151Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,1151,95Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)4,506,725,951,3161,831,35,00НетCP-C152Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным 454,505,2153,28 4,506,725,681,3160,071,35,00

оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) CP-C153Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,1151,30Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)4,507,027,001,3161,171,35,00 CP-C154 454,505,1150,48Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)4,507,428,381,3160,231,35,00СР-С155Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,1150,28Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)4,507,528,731,3159,981,35,00СР-С156Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, 454,505,2151,634,507,528,431,3158,231,35,00

(средний диаметр частиц: 230 нм) СР-С157Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,2152,65Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)4,507,026,721,3159,381,35,00 СР-С158454,505,2151,83Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)4,507,428,081,3158,481,35,00

Таблица 56Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-C159Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,1152,15Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)4,506,625,601,3162,081,35,00НетCP-C160Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным 454,505,2153,50 4,506,625,321,3160,301,35,00

оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм) CP-C161Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,0149,93Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)4,507,027,291,3162,971,35,00 CP-C162 454,505,0149,10Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)4,507,428,681,3162,031,35,00СР-С163Частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, 45-5,1152,00Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)4,507,026,001,3161,671,35,00

обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм) СР-С164Частицы сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм)45-5,1152,00 4,507,026,001,3161,671,35,00 СР-С165Частицы оксида титана, покрытые Sb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,1152,004,507,026,001,3161,671,35,00

Таблица 57Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-C166Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)454,505,1152,20Частицы оксида олова, обедненного кислородом, (средний диаметр частиц:
20 нм)-6,625,601,3162,001,35,00Нет

CP-C167 454,505,1151,10Частицы оксида индия-олова (средний диаметр частиц:
20 нм)4,507,127,351,3160,921,35,00 CP-C168 454,505,1152,20Частицы Sb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)4,506,625,601,3162,001,35,00CP-C169Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)454,505,2153,30Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)4,507,025,701,3160,001,35,00

СР-С170Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)454,505,1150,60Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)4,507,426,251,3163,581,35,00 СР-С171Частицы сульфата бария, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
230 нм)454,505,1151,90Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:
20 нм)4,507,026,001,3161,831,35,00

Таблица 58Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя(1) Первые частицы оксида металла(2) Вторые частицы оксида металла(3) Связующий материал (фенольная смола)(4) Частицы кремнийорганической смолы(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4) ВидДоля покровного слоя [%]Степень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ВидСтепень легирования [%]ПлотностьКоличество [части]ПлотностьКоличество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)ПлотностьКоличество [части]ВидПлотностьКоличество [части]CP-C172Частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм)45-5,1152,00Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)4,507,426,001,3161,671,35,00Нет

CP-C173Частицы сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм)45-5,1152,00 4,507,426,001,3161,671,35,00 CP-C174Частицы оксида титана, покрытые Sb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,1152,00 4,507,426,001,3161,671,35,00СР-С175Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,2152,20Частицы оксида олова, обедненного кислородом, (средний диаметр частиц: 20 нм)-6,625,601,3162,001,35,00СР-С176 454,505,2151,10Частицы оксида индия-олова (средний диаметр частиц: 20 нм)4,507,127,351,3160,921,35,00

СР-С177 454,505,2152,20Частицы Sb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)4,506,625,601,3162,001,35,00 СР-С178Частицы сульфата бария, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)454,505,2151,90Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)4,507,026,001,3161,831,35,00СР-С179Частицы сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм)45-5,1152,20Частицы оксида олова, обедненного кислородом, (средний диаметр частиц: 20 нм)-6,625,601,3162,001,35,00

(Пример 1 (пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента 1))

Алюминиевый цилиндр (JIS-A3003, алюминиевый сплав), имеющий длину 251,5 мм, диаметр 24 мм и толщину 1,0 мм, который был изготовлен способом производства, включающим процесс экструзии и процесс вытягивания, использовали в качестве основы (цилиндрической основы).

Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-1 наносили на основу в окружающей среде при 22°C/относительной влажности (RH) 55% методом нанесения покрытия погружением, и затем полученную покровную пленку сушили и термически отверждали в течение 30 минут при 140°C, чтобы сформировать электропроводный слой, имеющий толщину 20 мкм.

Измеренное объемное удельное сопротивление электропроводного слоя составляло 2,2×10¹³ Ом·см.

Затем 4,5 части N-метоксиметилированного нейлона (торговое название: Toresin EF-30T; производства компании Teikoku Chemical Industry Co., Ltd.) и 1,5 части сополимеризованной нейлоновой смолы (торговое название: Amilan CM8000; производства компании Toray Industries, Inc.) растворяли в смешанном растворителе из 65 частей метанола и 30 частей н-бутанола, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования промежуточного слоя. Раствор материала покрытия для формирования промежуточного слоя наносили на электропроводный слой методом нанесения покрытия погружением, и затем полученную покровную пленку сушили в течение 6 минут при 70°C, чтобы сформировать промежуточный слой, имеющий толщину 0,85 мкм.

После этого, 10 частей кристаллического фталоцианина гидроксигаллия (вещества, генерирующего заряды) в кристаллической форме, имеющего интенсивные пики при брэгговских углах (2θ0,2°) при дифракции CuKα-характеристического рентгеновского излучения, равных 7,5°, 9,9°, 16,3°, 18,6°, 25,1° и 28,3°, 5 частей поливинилбутираля (торговое наименование: S-LEC BX-1, производства компании SEKISUI CHEMICAL, CO., LTD.) и 250 частей циклогексанона загружали в песчаную мельницу с применением стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 1 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при продолжительности диспергирующей обработки 3 часа. После диспергирующей обработки, 250 частей этилацетата добавляли к обработанному продукту, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования слоя для генерации зарядов. Раствор материала покрытия для формирования слоя для генерации зарядов наносили на промежуточный слой методом нанесения покрытия погружением, и затем полученную покровную пленку в течение 10 минут сушили при 100°C, чтобы сформировать слой для генерации зарядов, имеющий толщину 0,12 мкм.

Затем 56 частей аминового соединения (вещества, переносящего заряды), представленного приведенной ниже формулой (CT-1),

24 части аминового соединения (вещества, переносящего заряды), представленного приведенной ниже формулой (CT-2),

90 частей поликарбоната (торговое наименование: Z200, производства компании Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation), 10 частей поликарбоната, модифицированного силоксаном, имеющего повторяющееся структурное звено, представленное приведенной ниже формулой (B-1), и повторяющееся структурное звено, представленное приведенной ниже формулой (B-2), ((B-1):(B-2)=98:2 (молярное отношение)):

и 0,9 части поликарбоната, модифицированного силоксаном, имеющего повторяющееся структурное звено, представленне приведенной ниже формулой (B-3), и повторяющееся структурное звено, представленное приведенной ниже формулой (B-4), и имеющего концевое структурное звено, представленное приведенной ниже формулой (B-5), ((B-3):(B-4)=95:5 (молярное отношение)):

растворяли в смешанном растворителе из 300 частей о-ксилола, 250 частей диметоксиметана и 27 частей метилбензоата, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования слоя для переноса зарядов. Раствор материала покрытия для формирования слоя для переноса зарядов наносили на слой для генерации зарядов методом нанесения покрытия погружением, и затем полученную покровную пленку сушили в течение 30 минут при 120°C, чтобы сформировать слой для переноса зарядов, имеющий толщину 18,5 мкм. Таким образом, получали электрофотографический фоточувствительный элемент 1, включающий слой для переноса заряда в качестве поверхностного слоя.

Что касается электрофотографического фоточувствительного элемента 1, отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, и отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах P-легированного оксида олова определяли каждое из атомного отношения представленным выше методом.

Затем, объем частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, и объем частиц P-легированного оксида олова измеряли посредством идентификации частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, и частиц P-легированного оксида олова на основании их разницы в контрасте в методе Slice & View с применением сканирующей электронной микроскопии со сфокусированным ионным пучком (FIB-SEM) посредством применения представленного выше метода. То же самое относится к последующим примерам.

(Примеры с 2 по 700 и Сравнительные примеры с 1 по 179 (примеры изготовления электрофотографических фоточувствительных элементов с 2 по 700 и с C1 по C179))

Электрофотографические фоточувствительные элементы с 2 по 700 и с C1 по C179 изготавливали посредством тех же самых процедур, что и в случае Примера 1 (примера изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента 1), за исключением того, что раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя изменяли как представлено в Таблицах с 22 по 43 и Таблицах с 59 по 73.

(Оценка)

Оценку образования трещин выполняли посредством обследования поверхности электропроводного слоя на стадии формирования электропроводного слоя на основе с помощью оптического микроскопа и посредством обследования изображения, выведенного из электрофотографического устройства (лазерного принтера), оснащенного изготовленным электрофотографическим фоточувствительным элементом.

Обследование изображения выполняли, как описано ниже.

Изготовленный электрофотографический фоточувствительный элемент устанавливали в лазерный принтер производства компании Hewlett-Packard Company (торговое наименование: LaserJet P2055dn) в качестве устройства для выполнения оценки. Полученное устройство размещали в окружающей среде с нормальной температурой и нормальной влажностью (23°C, 50% относительной влажности (RH)) и затем выводили сплошное черное изображение, сплошное белое изображение и полутоновое изображение одноточечного рисунка с шахматным расположением с последующим обследованием выведенных изображений. Полутоновое изображение одноточечного рисунка с шахматным расположением является полутоновым изображением рисунка, проиллюстрированного на Фиг. 5.

Степени наличия трещин классифицировали с разделением на категории на основании обследования изображений и последующего электропроводного слоя обследования под микроскопом, как описано ниже.

Случай, когда обследование поверхности электропроводного слоя с помощью оптического микроскопа не могло подтвердить наличие каких-либо трещин, определяли как категорию 3. Кроме того, случай, когда обследование поверхности электропроводного слоя с помощью оптического микроскопа было в состоянии подтвердить наличие трещин, однако дефекты изображения вследствие наличия трещин не наблюдались на любом из сплошного черного изображения, сплошного белого изображения и полутонового изображения с одноточечным рисунком с шахматным расположением, определяли как категорию 2. Кроме того, случай, когда обследование поверхности электропроводного слоя с помощью оптического микроскопа было в состоянии подтвердить наличие трещин, и дефекты изображения, возможно вследствие наличия трещин, наблюдались на любом из сплошного черного изображения, сплошного белого изображения и полутонового изображения с одноточечным рисунком с шахматным расположением, определяли как категорию 1. Полутоновое изображение одноточечного рисунка с шахматным расположением является полутоновым изображением рисунка, проиллюстрированного на Фиг. 5.

Оценку для остаточного потенциала и оценку для памяти рисунка также выполняли с помощью лазерного принтера производства компании Hewlett-Packard Company (торговое наименование: LaserJet P2055dn) в качестве устройства для выполнения оценки.

Оценку для памяти рисунка выполняли описанным ниже образом.

Изготовленный электрофотографический фоточувствительный элемент устанавливали в лазерный принтер производства компании Hewlett-Packard Company. Полученное устройство размещали в окружающей среде с низкой температурой и низкой влажностью (15°C, 7% относительной влажности (RH)) и затем выполняли эксплуатационное испытание на долговечность, включающее непрерывное выведение 15000 изображений с рисунков в виде 3-точечных вертикальных линий со 100-точечным промежутком повторяющимся образом. Степень возникновения явления памяти рисунка классифицировали на шесть категорий, как показано в Таблице 74, таким образом, что вертикальные полосы, являющимися следствием гистерезиса вертикальных линий, обследовали на каждом из четырех видов полутоновых изображений и сплошном черном изображении, представленных в Таблице 74, выведенных после испытания. Номер категории становится больше, когда степень, до которой предотвращается память рисунка, улучшается. Следует заметить, что четыре вида полутоновых изображений являются полутоновым изображением с одноточечным рисунком с шахматным расположением, полутоновым изображением с поперечными одноточечными линиями с одноточечным промежутком, полутоновым изображением с поперечными двухточечными линиями с трехточечным промежутком, и полутоновым изображением с поперечными одноточечными линиями с двухточечным промежутком.

Оценку для остаточного потенциала выполняли описанным ниже образом.

Перед эксплуатационным испытанием на долговечность и после него, измеряли остаточные потенциалы после непрерывного вывода трех сплошных белых изображений и пяти сплошных черных изображений. Увеличение остаточного потенциала на 10 В или менее определяли как категорию 4. Кроме того, увеличение на более чем 10 В и 20 В или менее определяли как категорию 3. Кроме того, увеличение на более чем 20 В и 30 В или менее определяли как категорию 2. Кроме того, увеличение на более чем 30 В определяли как категорию 1.

Таблицы с 22 по 43 и Таблицы с 59 по 73 показывают результаты.

Таблица 22 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/(V₁/V_T)}×100{(V₁/V_T)+(V₂/V_T)}×100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление проводящего слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинПример 1CP-112150,82,2×10¹³433Пример 2CP-222150,92,2×10¹³533Пример 3CP-332151,02,2×10¹³533Пример 4CP-442151,12,2×10¹³533Пример 5CP-552151,22,2×10¹³433Пример 6CP-665151,02,1×10¹³633Пример 7CP-7713150,82,0×10¹³533Пример 8CP-8813150,92,0×10¹³633Пример 9CP-9913151,02,0×10¹³633Пример 10CP-101013151,12,0×10¹³633Пример 11CP-111113151,22,0×10¹³533Пример 12CP-121220151,01,9×10¹³633Пример 13CP-131325150,81,8×10¹³333Пример 14CP-141425150,91,8×10¹³433Пример 15CP-151525151,01,8×10¹³433Пример 16CP-161625151,11,8×10¹³433Пример 17CP-171725151,21,8×10¹³333

Пример 18CP-18182201,06,6×10¹²543Пример 19CP-19195200,86,3×10¹²543Пример 10CP-20205200,96,3×10¹²643Пример 21CP-21215201,06,3×10¹²643Пример 22CP-22225201,16,3×10¹²643Пример 23CP-23235201,26,3×10¹²543Пример 24CP-242413200,85,8×10¹²543Пример 25CP-252513200,95,8×10¹²643Пример 26CP-262613201,05,8×10¹²643Пример 27CP-272713201,15,8×10¹²643Пример 28CP-282813201,25,8×10¹²543Пример 29CP-292920200,85,4×10¹²543Пример 30CP-303020200,95,4×10¹²643Пример 31CP-313120201,05,5×10¹²643Пример 32CP-323220201,15,5×10¹²643Пример 33CP-333320201,25,5×10¹²543Пример 34CP-343425201,05,2×10¹²443Пример 35CP-35352300,83,6×10¹¹443Пример 36CP-36362300,93,6×10¹¹543Пример 37CP-37372301,03,6×10¹¹543Пример 38CP-38382301,13,6×10¹¹543Пример 39CP-39392301,23,6×10¹¹443Пример 40CP-40405300,83,4×10¹¹543

Таблица 23 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/(V₁/V_T)}×100{(V₁/V_T)+ (V₂/V_T)}×100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинПример 41CP-41415300,93,4×10¹¹643Пример 42CP-42425301,03,4×10¹¹643Пример 43CP-43435301,13,4×10¹¹643Пример 44CP-44445301,23,4×10¹¹543Пример 45CP-454513300,82,9×10¹¹543Пример 46CP-464613300,93,0×10¹¹643Пример 47CP-474713301,03,0×10¹¹643Пример 48CP-484813301,13,0×10¹¹643Пример 49CP-494913301,23,0×10¹¹543Пример 50CP-505020300,82,6×10¹¹543Пример 51CP-515120300,92,6×10¹¹643Пример 52CP-525220301,02,6×10¹¹643Пример 53CP-535320301,12,6×10¹¹643Пример 54CP-545420301,22,6×10¹¹543Пример 55CP-555525300,82,4×10¹¹343Пример 56CP-565625300,92,5×10¹¹443Пример 57CP-575725301,02,5×10¹¹443

Пример 58CP-585825301,12,5×10¹¹443Пример 59CP-595925301,22,5×0¹¹343Пример 60CP-60602401,07,7×10⁹543Пример 61CP-61615400,86,9×10⁹543Пример 62CP-62625400,97,0×10⁹643Пример 63CP-63635401,07,0×10⁹643Пример 64CP-64645401,17,0×10⁹643Пример 65CP-65655401,27,0×10⁹543Пример 66CP-666613400,85,4×10⁹543Пример 67CP-676713400,95,5×10⁹643Пример 68CP-686813401,05,5×10⁹643Пример 69CP-696913401,15,5×10⁹643Пример 70CP-707013401,25,5×10⁹543Пример 71CP-717120400,84,5×10⁹543Пример 72CP-727220400,94,6×10⁹643Пример 73CP-737320401,04,6×10⁹643Пример 74CP-747420401,14,6×10⁹643Пример 75CP-757520401,24,6×10⁹543Пример 76CP-767625401,04,1×10⁹443Пример 77CP-77772450,86,4×10⁸442Пример 78CP-78782450,96,6×10⁸542Пример 79CP-79792451,06,6×10⁸542Пример 80CP-80802451,16,6×10⁸542

Таблица 24 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/(V₁/V_T)}×100{(V₁/V_T)+ (V₂/V_T)}×100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинПример 81CP-81812451,26,6×10⁸442Пример 82CP-82825451,05,8×10⁸642Пример 83CP-838313450,84,2×10⁸542Пример 84CP-848413450,94,4×10⁸642Пример 85CP-858513451,04,4×10⁸642Пример 86CP-868613451,14,4×10⁸642Пример 87CP-878713451,24,4×10⁸542Пример 88CP-888820451,03,5×10⁸642Пример 89CP-898925450,83,0×10⁸342Пример 90CP-909025450,93,1×10⁸442Пример 91CP-919125451,03,1×10⁸442Пример 92CP-929225451,13,1×10⁸442Пример 93CP-939325451,23,1×10⁸342Пример 94CP-94945200,84,8×10¹²543Пример 95CP-95955200,94,8×10¹²643Пример 96CP-96965201,04,8×10¹²643Пример 97CP-97975201,14,8×10¹²643

Пример 98CP-98985201,24,8×10¹²543Пример 99CP-999913200,84,3×10¹²543Пример 100CP-10010013200,94,4×10¹²643Пример 101CP-10110113201,04,4×10¹²643Пример 102CP-10210213201,14,4×10¹²643Пример 103CP-10310313201,24,4×10¹²543Пример 104CP-10410420200,84,0×10¹²543Пример 105CP-10510520200,94,1×10¹²643Пример 106CP-10610620201,04,1×10¹²643Пример 107CP-10710720201,14,1×10¹²643Пример 108CP-10810820201,24,1×10¹²543Пример 109CP-1091095300,81,7×10¹¹543Пример 110CP-1101105300,91,8×10¹¹643Пример 111CP-1111115301,01,8×10¹¹643

Пример 112CP-1121125301,11,8×10¹¹643Пример 113CP-1131135301,21,8×10¹¹543Пример 114CP-11411413300,81,4×10¹¹543Пример 115CP-11511513300,91,5×10¹¹643Пример 116CP-11611613301,01,5×10¹¹643Пример 117CP-11711713301,11,5×10¹¹643Пример 118CP-11811813301,21,5×10¹¹543Пример 119CP-11911920300,81,3×10¹¹543Пример 120CP-12012020300,91,3×10¹¹643

Таблица 25 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/(V₁/V_T)}×100{(V₁/V_T)+
(V₂/V_T)}×100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя
[Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинПример 121CP-12112120301,01,3×10¹¹643Пример 122CP-12212220301,11,3×10¹¹643Пример 123CP-12312320301,21,3×10¹¹543Пример 124CP-1241245400,81,6×10⁹543Пример 125CP-1251255400,91,6×10⁹643Пример 126CP-1261265401,01,6×10⁹643Пример 127CP-1271275401,11,6×10⁹643Пример 128CP-1281285401,21,6×10⁹543Пример 129CP-12912913400,81,2×10⁹543Пример 130CP-13013013400,91,2×10⁹643Пример 131CP-13113113401,01,2×10⁹643Пример 132CP-13213213401,11,2×10⁹643Пример 133CP-13313313401,21,2×10⁹543Пример 134CP-13413420400,89,5×10⁸543Пример 135CP-13513520400,99,9×10⁸643Пример 136CP-13613620401,09,9×10⁸643Пример 137CP-13713720401,19,9×10⁸643Пример 138CP-13813820401,29,9×10⁸543Пример 139CP-13913913301,02,5×10¹¹643Пример 140CP-14014013301,05,5×10¹¹643

Таблица 26 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/
(V₁/V_T)}×100{(V₁/V_T)+
(V₂/V_T)}×100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинСравнительный пример 1CP-C1C1---2,2×10¹³133Сравнительный пример 2CP-C2C2---3,8×10¹¹143Сравнительный пример 3CP-C3C3---7,1×10⁸142Сравнительный пример 4CP-C4C41151,02,2×10¹³233Сравнительный пример 5CP-C5C51301,03,7×10¹¹243Сравнительный пример 6CP-C6C61451,06,8×10⁸242Сравнительный пример 7CP-C7C730151,01,8×10¹³233Сравнительный пример 8CP-C8C830301,02,3×10¹¹243Сравнительный пример 9CP-C9C930451,02,7×10⁸242

Сравнительный пример 10CP-C10C10---9,0×10¹²133Сравнительный пример 11CP-C11C11---4,3×10¹⁰143Сравнительный пример 12CP-C12C12---1,1×10⁷142Сравнительный пример 13CP-C13C132101,06,3×10¹³513Сравнительный пример 14CP-C14C145101,06,2×10¹³613Сравнительный пример 15CP-C15C1513101,05,9×10¹³613Сравнительный пример 16CP-C16C1620101,05,8×10¹³613Сравнительный пример 17CP-C17C1725101,05,7×10¹³413Сравнительный пример 18CP-C18C182501,03,4×10⁷541Сравнительный пример 19CP-C19C195501,03,0×10⁷641Сравнительный пример 20CP-C20C2013501,02,1×10⁷641Сравнительный пример 21CP-C21C2120501,01,6×10⁷641Сравнительный пример 22CP-C22C2225501,01,4×10⁷441

Таблица 27 Раствор материала покрытия для формирования электропро-водного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/
(V₁/V_T)}×100{(V₁/V_T)+ (V₂/V_T)}×100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинСравнительный пример 23CP-C23C23---2,9×10¹¹143Сравнительный пример 24CP-C24C24---2,9×10¹¹143Сравнительный пример 25CP-C25C25---2,9×10¹¹143Сравнительный пример 26CP-C26C26---3,0×10¹¹143Сравнительный пример 27CP-C27C27---2,8×10¹¹143Сравнительный пример 28CP-C28C28---3,0×10¹¹143Сравнительный пример 29CP-C29C29---2,6×10¹¹143

Таблица 28 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/
(V₁/V_T)}×100{(V₁/V_T)+ (V₂/V_T)}×100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинСравнительный пример 30CP-C30C30---3,3×10¹¹143Сравнительный пример 31CP-C31C31---2,6×10¹¹143Сравнительный пример 32CP-C32C32---3,0×10¹¹143Сравнительный пример 33CP-C33C33---3,0×10¹¹143Сравнительный пример 34CP-C34C34---3,0×10¹¹143Сравнительный пример 35CP-C35C35---3,0×10¹¹143

Таблица 29 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/
(V₁/V_T)}×100{(V₁/V_T)+ (V₂/V_T)}×100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинПример 141CP-1411412150,82,0×10¹³433Пример 142CP-1421422150,92,0×10¹³533Пример 143CP-1431432151,02,0×10¹³533Пример 144CP-1441442151,12,0×10¹³533Пример 145CP-1451452151,22,0×10¹³433Пример 146CP-1461465151,02,0×10¹³633Пример 147CP-14714713150,81,8×10¹³533Пример 148CP-14814813150,91,8×10¹³633Пример 149CP-14914913151,01,8×10¹³633Пример 150CP-15015013151,11,8×10¹³633Пример 151CP-15115113151,21,8×10¹³533Пример 152CP-15215220151,01,7×10¹³633Пример 153CP-15315325150,81,6×10¹³333Пример 154CP-15415425150,91,6×10¹³433Пример 155CP-15515525151,01,6×10¹³433Пример 156CP-15615625151,11,6×10¹³433Пример 157CP-15715725151,21,6×10¹³333

Пример 158CP-1581582201,06,0×10¹²543Пример 159CP-1591595200,85,8×10¹²543Пример 160CP-1601605200,95,7×10¹²643Пример 161CP-1611615201,05,7×1012643Пример 162CP-1621625201,15,7×10¹²643Пример 163CP-1631635201,25,7×10¹²543Пример 164CP-16416413200,85,1×10¹²543Пример 165CP-16516513200,95,1×10¹²643Пример 166CP-16616613201,05,1×10¹²643Пример 167CP-16716713201,15,0×10¹²643Пример 168CP-16816813201,25,0×10¹²543Пример 169CP-16916920200,84,7×10¹²543Пример 170CP-17017020200,94,6×10¹²643Пример 171CP-17117120201,04,6×10¹²643Пример 172CP-17217220201,14,5×10¹²643Пример 173CP-17317320201,24,5×10¹²543Пример 174CP-17417425201,04,3×10¹²443Пример 175CP-1751752300,83,1×10¹¹443Пример 176CP-1761762300,93,1×10¹¹543Пример 177CP-1771772301,03,1×10¹¹543Пример 178CP-1781782301,13,1×10¹¹543Пример 179CP-1791792301,23,1×10¹¹443Пример 180CP-1801805300,82,9×10¹¹543

Таблица 30 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/(V₁/V_T)}×100{(V₁/V_T)+ (V₂/V_T)}×100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинПример 181CP-1811815300,92,9×10¹¹643Пример 182CP-1821825301,02,9×10¹¹643Пример 183CP-1831835301,12,9×10¹¹643Пример 184CP-1841845301,22,9×10¹¹543Пример 185CP-18518513300,82,4×10¹¹543Пример 186CP-18618613300,92,3×10¹¹643Пример 187CP-18718713301,02,3×10¹¹643Пример 188CP-18818813301,12,3×10¹¹643Пример 189CP-18918913301,22,3×10¹¹543Пример 190CP-19019020300,82,0×10¹¹543Пример 191CP-19119120300,92,0×10¹¹643Пример 192CP-19219220301,02,0×10¹¹643Пример 193CP-19319320301,11,9×10¹¹643Пример 194CP-19419420301,21,9×10¹¹543Пример 195CP-19519525300,81,8×10¹¹343Пример 196CP-19619625300,91,8×10¹¹443Пример 197CP-19719725301,01,8×10¹¹443

Пример 198CP-19819825301,11,7×10¹¹443Пример 199CP-19919925301,21,7×10¹¹343Пример 200CP-2002002401,06,0×10⁹543Пример 201CP-2012015400,85,3×10⁹543Пример 202CP-2022025400,95,3×10⁹643Пример 203CP-2032035401,05,3×10⁹643Пример 204CP-2042045401,15,2×10⁹643Пример 205CP-2052055401,25,2×10⁹543Пример 206CP-20620613400,83,9×10⁹543Пример 207CP-20720713400,93,8×10⁹643Пример 208CP-20820813401,03,8×10⁹643Пример 209CP-20920913401,13,7×10⁹643Пример 210CP-21021013401,23,7×10⁹543Пример 211CP-21121120400,83,1×10⁹543Пример 212CP-21221220400,93,0×10⁹643Пример 213CP-21321320401,03,0×10⁹643Пример 214CP-21421420401,12,9×10⁹643Пример 215CP-21521520401,22,9×10⁹543Пример 216CP-21621625401,02,5×10⁹443Пример 217CP-2172172450,84,9×10⁸442Пример 218CP-2182182450,94,9×10⁸542Пример 219CP-2192192451,04,9×10⁸542Пример 220CP-2202202451,14,9×10⁸542

Таблица 31 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/
(V₁/V_T)}×100{(V₁/V_T)+ (V₂/V_T)}×100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинПример 221CP-2212212451,24,9×10⁸442Пример 222CP-2222225451,04,2×10⁸642Пример 223CP-22322313450,82,9×10⁸542Пример 224CP-22422413450,92,8×10⁸642Пример 225CP-22522513451,02,8×10⁸642Пример 226CP-22622613451,12,7×10⁸642Пример 227CP-22722713451,22,7×10⁸542Пример 228CP-22822820451,02,0×10⁸642Пример 229CP-22922925450,81,8×10⁸342Пример 230CP-23023025450,91,7×10⁸442Пример 231CP-23123125451,01,7×10⁸442Пример 232CP-23223225451,11,6×10⁸442Пример 233CP-23323325451,21,6×10⁸342

Таблица 32 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/(V₁/V_T)}×100{(V₁/V_T)+
(V₂/V_T)}×
100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинПример 234CP-2342345200,84,3×10¹²543Пример 235CP-2352355200,94,3×10¹²643Пример 236CP-2362365201,04,3×10¹²643Пример 237CP-2372375201,14,3×10¹²643Пример 238CP-2382385201,24,3×10¹²543Пример 239CP-23923913200,83,8×10¹²543Пример 240CP-24024013200,93,7×10¹²643Пример 241CP-24124113201,03,7×10¹²643Пример 242CP-24224213201,13,7×10¹²643Пример 243CP-24324313201,23,7×10¹²543Пример 244CP-24424420200,83,4×10¹²543Пример 245CP-24524520200,93,4×10¹²643Пример 246CP-24624620201,03,4×10¹²643Пример 247CP-24724720201,13,3×10¹²643Пример 248CP-24824820201,23,3×10¹²543Пример 249CP-2492495300,81,4×10¹¹543Пример 250CP-2502505300,91,4×10¹¹643

Пример 251CP-2512515301,01,4×10¹¹643Пример 252CP-2522525301,11,4×10¹¹643Пример 253CP-2532535301,21,4×10¹¹543Пример 254CP-25425413300,81,1×10¹¹543Пример 255CP-25525513300,91,1×10¹¹643Пример 256CP-25625613301,01,1×10¹¹643Пример 257CP-25725713301,11,1×10¹¹643Пример 258CP-25825813301,21,1×10¹¹543Пример 259CP-25925920300,89,5×10¹⁰543Пример 260CP-26026020300,99,2×10¹⁰643Пример 261CP-26126120301,09,2×10¹⁰643Пример 262CP-26226220301,19,0×10¹⁰643Пример 263CP-26326320301,29,0×10¹⁰543Пример 264CP-2642645400,81,2×10⁹543Пример 265CP-2652655400,91,2×10⁹643Пример 266CP-2662665401,01,2×10⁹643Пример 267CP-2672675401,11,1×10⁹643Пример 268CP-2682685401,21,1×10⁹543Пример 269CP-26926913400,87,9×10⁸543Пример 270CP-27027013400,97,6×10⁸643

Таблица 33 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/
(V₁/V_T)}
×100{(V₁/V_T)+
(V₂/V_T)}×
100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинПример 271CP-27127113401,07,6×10⁸643Пример 272CP-27227213401,17,3×10⁸643Пример 273CP-27327313401,27,3×10⁸543Пример 274CP-27427420400,85,9×10⁸543Пример 275CP-27527520400,95,6×10⁸643Пример 276CP-27627620401,05,6×10⁸643Пример 277CP-27727720401,15,3×10⁸643Пример 278CP-27827820401,25,3×10⁸543Пример 279CP-27927913301,02,1×10¹¹643Пример 280CP-28028013301,05,1×10¹¹643

Таблица 34 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/
(V₁/V_T)}×100{(V₁/V_T)+
(V₂/V_T)}×
100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинСравнительный пример 42CP-C42C42---2,1×10¹³133Сравнительный пример 43CP-C43C43---3,3×10¹¹143Сравнительный пример 44CP-C44C44---5,5×10⁸142Сравнительный пример 45CP-C45C451151,02,1×10¹³233Сравнительный пример 46CP-C46C461301,03,2×10¹¹243Сравнительный пример 47CP-C47C471451,05,2×10⁸242Сравнительный пример 48CP-C48C4830151,01,6×10¹³233Сравнительный пример 49CP-C49C4930301,01,6×10¹¹243Сравнительный пример 50CP-C50C5030451,01,4×10⁸242

Сравнительный пример 51CP-C51C51---5,8×10¹²133Сравнительный пример 52CP-C52C52---1,5×10¹⁰143Сравнительный пример 53CP-C53C53---1,5×10⁶142Сравнительный пример 54CP-C54C542101,06,0×10¹³513Сравнительный пример 55CP-C55C555101,05,9×10¹³613Сравнительный пример 56CP-C56C5613101,05,6×10¹³613Сравнительный пример 57CP-C57C5720101,05,4×10¹³613Сравнительный пример 58CP-C58C5825101,05,2×10¹³413Сравнительный пример 59CP-C59C592501,02,4×10⁷541Сравнительный пример 60CP-C60C605501,02,0×10⁷641Сравнительный пример 61CP-C61C6113501,01,2×10⁷641Сравнительный пример 62CP-C62C6220501,08,3×10⁶641Сравнительный пример 63CP-C63C6325501,06,5×10⁶441

Таблица 35 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/
(V₁/V_T)}×100{(V₁/V_T)+
(V₂/V_T)}×
100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинСравнительный пример 64CP-C64C64---2,6×10¹¹143Сравнительный пример 65CP-C65C65---2,6×10¹¹143Сравнительный пример 66CP-C66C66---2,3×10¹¹143Сравнительный пример 67CP-C67C67---2,7×10¹¹143Сравнительный пример 68CP-C68C68---2,5×10¹¹143Сравнительный пример 69CP-C69C69---2,7×10¹¹143Сравнительный пример 70CP-C70C70---3,0×10¹¹143Сравнительный пример 71CP-C71C71---2,3×10¹¹143

Таблица 36 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/
(V₁/V_T)}×100{(V₁/V_T)+ (V₂/V_T)}×100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинПример 281CP-2812812150,82,3×10¹³433Пример 282CP-2822822150,92,3×10¹³533Пример 283CP-2832832151,02,3×10¹³533Пример 284CP-2842842151,12,3×10¹³533Пример 285CP-2852852151,22,3×10¹³433Пример 286CP-2862865151,02,2×10¹³633Пример 287CP-28728713150,82,1×10¹³533Пример 288CP-28828813150,92,1×10¹³633Пример 289CP-28928913151,02,1×10¹³633Пример 290CP-29029013151,12,1×10¹³633Пример 291CP-29129113151,22,1×10¹³533Пример 292CP-29229220151,02,0×10¹³633Пример 293CP-29329325150,81,9×10¹³333Пример 294CP-29429425150,91,9×10¹³433Пример 295CP-29529525151,02,0×10¹³433Пример 296CP-29629625151,12,0×10¹³433Пример 297CP-29729725151,22,0×10¹³333

Пример 298CP-2982982201,07,1×10¹²543Пример 299CP-2992995200,86,9×10¹²543Пример 300CP-3003005200,96,9×10¹²643Пример 301CP-3013015201,06,9×10¹²643Пример 302CP-3023025201,16,9×10¹²643Пример 303CP-3033035201,26,9×10¹²543Пример 304CP-30430413200,86,3×10¹²543Пример 305CP-30530513200,96,3×10¹²643Пример 306CP-30630613201,06,3×10¹²643Пример 307CP-30730713201,16,3×10¹²643Пример 308CP-30830813201,26,3×10¹²543Пример 309CP-30930920200,85,8×10¹²543Пример 310CP-31031020200,95,8×10¹²643Пример 311CP-31131120201,05,9×10¹²643Пример 312CP-31231220201,15,9×10¹²643Пример 313CP-31331320201,25,9×10¹²543Пример 314CP-31431425201,05,7×10¹²443Пример 315CP-3153152300,84,1×10¹¹443Пример 316CP-3163162300,94,1×10¹¹543Пример 317CP-3173172301,04,2×10¹¹543Пример 318CP-3183182301,14,2×10¹¹543Пример 319CP-3193192301,24,2×10¹¹443Пример 320CP-3203205300,83,9×10¹¹543

Таблица 37 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/
(V₁/V_T)}×100{(V₁/V_T)+ (V₂/V_T)}
×100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинПример 321CP-3213215300,93,9×10¹¹643Пример 322CP-3223225301,03,9×10¹¹643Пример 323CP-3233235301,13,9×10¹¹643Пример 324CP-3243245301,23,9×10¹¹543Пример 325CP-32532513300,83,3×10¹¹543Пример 326CP-32632613300,93,3×10¹¹643Пример 327CP-32732713301,03,4×10¹¹643Пример 328CP-32832813301,13,4×10¹¹643Пример 329CP-32932913301,23,4×10¹¹543Пример 330CP-33033020300,83,0×10¹¹543Пример 331CP-33133120300,93,0×10¹¹643Пример 332CP-33233220301,03,0×10¹¹643Пример 333CP-33333320301,13,0×10¹¹643Пример 334CP-33433420301,23,0×10¹¹543Пример 335CP-33533525300,82,7×10¹¹343Пример 336CP-33633625300,92,7×10¹¹443Пример 337CP-33733725301,02,8×10¹¹443

Пример 338CP-33833825301,12,8×10¹¹443Пример 339CP-33933925301,22,8×10¹¹343Пример 340CP-3403402401,09,5×10⁹543Пример 341CP-3413415400,88,4×10⁹543Пример 342CP-3423425400,98,4×10⁹643Пример 343CP-3433435401,08,6×10⁹643Пример 344CP-3443445401,18,6×10⁹643Пример 345CP-3453455401,28,6×10⁹543Пример 346CP-34634613400,86,7×10⁹543Пример 347CP-34734713400,96,7×10⁹643Пример 348CP-34834813401,06,8×10⁹643Пример 349CP-34934913401,16,8×10⁹643Пример 350CP-35035013401,26,8×10⁹543Пример 351CP-35135120400,85,6×10⁹543Пример 352CP-35235220400,95,6×10⁹643Пример 353CP-35335320401,05,7×10⁹643Пример 354CP-35435420401,15,7×10⁹643Пример 355CP-35535520401,25,7×10⁹543Пример 356CP-35635625401,05,1×10⁹443Пример 357CP-3573572450,88,4×10⁸442Пример 358CP-3583582450,98,4×10⁸542Пример 359CP-3593592451,08,5×10⁸542Пример 360CP-3603602451,18,5×10⁸542

Таблица 38 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/
(V₁/V_T)}
×100{(V₁/V_T)+ (V₂/V_T)}×100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинПример 361CP-3613612451,28,5×10⁸442Пример 362CP-3623625451,07,6×10⁸642Пример 363CP-36336313450,85,6×10⁸542Пример 364CP-36436413450,95,6×10⁸642Пример 365CP-36536513451,05,7×10⁸642Пример 366CP-36636613451,15,7×10⁸642Пример 367CP-36736713451,25,7×10⁸542Пример 368CP-36836820451,04,7×10⁸642Пример 369CP-36936925450,83,8×10⁸342Пример 370CP-37037025450,93,8×10⁸442Пример 371CP-37137125451,04,1×10⁸442Пример 372CP-37237225451,14,1×10⁸442Пример 373CP-37337325451,24,1×10⁸342

Таблица 39 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/
(V₁/V_T)}
×100{(V₁/V_T)+
(V₂/V_T)}×
100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинПример 374CP-3743745200,85,2×10¹²543Пример 375CP-3753755200,95,2×10¹²643Пример 376CP-3763765201,05,2×10¹²643Пример 377CP-3773775201,15,2×10¹²643Пример 378CP-3783785201,25,2×10¹²543Пример 379CP-37937913200,84,7×10¹²543Пример 380CP-38038013200,94,7×10¹²643Пример 381CP-38138113201,04,8×10¹²643Пример 382CP-38238213201,14,8×10¹²643Пример 383CP-38338313201,24,8×10¹²543Пример 384CP-38438420200,84,4×10¹²543Пример 385CP-38538520200,94,4×10¹²643Пример 386CP-38638620201,04,4×10¹²643Пример 387CP-38738720201,14,4×10¹²643Пример 388CP-38838820201,24,4×10¹²543Пример 389CP-3893895300,82,0×10¹¹543Пример 390CP-3903905300,92,0×10¹¹643

Пример 391CP-3913915301,02,1×10¹¹643Пример 392CP-3923925301,12,1×10¹¹643Пример 393CP-3933935301,22,1×10¹¹543Пример 394CP-39439413300,81,7×10¹¹543Пример 395CP-39539513300,91,7×10¹¹643Пример 396CP-39639613301,01,7×10¹¹643Пример 397CP-39739713301,11,7×10¹¹643Пример 398CP-39839813301,21,7×10¹¹543Пример 399CP-39939920300,81,5×10¹¹543Пример 400CP-40040020300,91,5×10¹¹643Пример 401CP-40140120301,01,5×10¹¹643Пример 402CP-40240220301,11,5×10¹¹643Пример 403CP-40340320301,21,5×10¹¹543Пример 404CP-4044045400,82,1×10⁹543

Таблица 40 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/
(V₁/V_T)}×100{(V₁/V_T)+ (V₂/V_T)}×100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинПример 405CP-4054055400,92,1×10⁹643Пример 406CP-4064065401,02,1×10⁹643Пример 407CP-4074075401,12,1×10⁹643Пример 408CP-4084085401,22,1×10⁹543Пример 409CP-40940913400,81,6×10⁹543Пример 410CP-41041013400,91,6×10⁹643Пример 411CP-41141113401,01,6×10⁹643Пример 412CP-41241213401,11,6×10⁹643Пример 413CP-41341313401,21,6×10⁹543Пример 414CP-41441420400,81,2×10⁹543Пример 415CP-41541520400,91,2×10⁹643Пример 416CP-41641620401,01,3×10⁹643Пример 417CP-41741720401,11,3×10⁹643Пример 418CP-41841820401,21,3×10⁹543Пример 419CP-41941913301,02,7×10¹¹643Пример 420CP-42042013301,05,8×10¹¹643

Таблица 41 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/
(V₁/V_T)}×
100{(V₁/V_T)+ (V₂/V_T)}×
100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинСравнительный пример 76CP-C76C76---2,3×10¹³133Сравнительный пример 77CP-C77C77---4,4×10¹¹143Сравнительный пример 78CP-C78C78---9,2×10⁸142Сравнительный пример 79CP-C79C791151,02,3×10¹³233Сравнительный пример 80CP-C80C801301,04,3×10¹¹243Сравнительный пример 81CP-C81C811451,08,8×10⁸242Сравнительный пример 82CP-C82C8230151,01,9×10¹³233Сравнительный пример 83CP-C83C8330301,02,6×10¹¹243Сравнительный пример 84CP-C84C8430451,03,5×10⁸242

Сравнительный пример 85CP-C85C85---9,6×10¹²133Сравнительный пример 86CP-C86C86---5,0×10¹⁰143Сравнительный пример 87CP-C87C87---1,5×10⁷142Сравнительный пример 88CP-C88C882101,06,5×10¹³513Сравнительный пример 89CP-C89C895101,06,4×10¹³613Сравнительный пример 90CP-C90C9013101,06,1×10¹³613Сравнительный пример 91CP-C91C9120101,06,0×10¹³613Сравнительный пример 92CP-C92C9225101,05,8×10¹³413Сравнительный пример 93CP-C93C932501,04,8×10⁷541Сравнительный пример 94CP-C94C945501,04,1×10⁷641Сравнительный пример 95CP-C95C9513501,02,9×10⁷641Сравнительный пример 96CP-C96C9620501,02,2×10⁷641Сравнительный пример 97CP-C97C9725501,01,9×10⁷441

Таблица 42 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/
(V₁/V_T)}×
100{(V₁/V_T)+
(V₂/V_T)}×
100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропровод-ного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинСравнительный пример 98CP-C98C98---3,0×10¹¹143Сравнительный пример 99CP-C99C99---3,0×10¹¹143Сравнительный пример 100CP-C100C100---2,7×10¹¹143Сравнительный пример 101CP-C101C101---3,4×10¹¹143Сравнительный пример 102CP-C102C102---3,1×10¹¹143Сравнительный пример 103CP-C103C103---3,4×10¹¹143Сравнительный пример 104CP-C104C104---2,7×10¹¹143Сравнительный пример 105CP-C105C105---3,4×10¹¹143

Таблица 43 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/(V₁/V_T)}×100{(V₁/V_T)+
(V₂/V_T)}×
100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропро-водного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинСравнительный пример 36CP-C36C36---8,0×10⁶143Сравнительный пример 37CP-C37C37---1,0×10⁷143Сравнительный пример 38CP-C38C38---4,4×10¹⁰143Сравнительный пример 39CP-C39C39---2,0×10¹³143Сравнительный пример 40CP-C40C40---2,1×10⁹143Сравнительный пример 41CP-C41C41---3,1×10⁹143Сравнительный пример 72CP-C72C72---3,5×10¹⁰143Сравнительный пример 73CP-C73C73---2,0×10¹³143Сравнительный пример 74CP-C74C74---4,0×10⁹143Сравнительный пример 75CP-C75C75---5,8×10⁹143Сравнительный пример 106CP-C106C106---3,5×10¹⁰143

Таблица 59 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/(V₁/V_T)}×100{(V₁/V_T)+
(V₂/V_T)}×
100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинПример 421CP-4214212150,82,2×10¹³433Пример 422CP-4224222150,92,2×10¹³533Пример 423CP-4234232151,02,2×10¹³533Пример 424CP-4244242151,12,2×10¹³533Пример 425CP-4254252151,22,2×10¹³433Пример 426CP-4264265151,02,1×10¹³633Пример 427CP-42742713150,82,0×10¹³533Пример 428CP-42842813150,92,0×10¹³633Пример 429CP-42942913151,02,0×10¹³633Пример 430CP-43043013151,12,0×10¹³633Пример 431CP-43143113151,22,0×10¹³533Пример 432CP-43243220151,01,9×10¹³633Пример 433CP-43343325150,81,8×10¹³333Пример 434CP-43443425150,91,8×10¹³433Пример 435CP-43543525151,01,8×10¹³433Пример 436CP-43643625151,11,8×10¹³433Пример 437CP-43743725151,21,8×10¹³333

Пример 438CP-4384382201,06,6×10¹²543Пример 439CP-4394395200,86,3×10¹²543Пример 440CP-4404405200,96,3×10¹²643Пример 441CP-4414415201,06,3×10¹²643Пример 442CP-4424425201,16,3×10¹²643Пример 443CP-4434435201,26,3×10¹²543Пример 444CP-44444413200,85,7×10¹²543Пример 445CP-44544513200,95,7×10¹²643Пример 446CP-44644613201,05,7×10¹²643Пример 447CP-44744713201,15,7×10¹²643Пример 448CP-44844813201,25,7×10¹²543Пример 449CP-44944920200,85,3×10¹²543Пример 450CP-45045020200,95,3×10¹²643Пример 451CP-45145120201,05,3×10¹²643Пример 452CP-45245220201,15,3×10¹²643Пример 453CP-45345320201,25,3×10¹²543Пример 454CP-45445425201,05,0×10¹²443Пример 455CP-4554552300,83,6×10¹¹443Пример 456CP-4564562300,93,6×10¹¹543Пример 457CP-4574572301,03,6×10¹¹543Пример 458CP-4584582301,13,6×10¹¹543Пример 459CP-4594592301,23,6×10¹¹443Пример 460CP-4604605300,83,4×10¹¹543

Таблица 60 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/
(V₁/V_T)}×
100{(V₁/V_T)+
(V₂/V_T)}×
100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинПример 461CP-4614615300,93,4×10¹¹643Пример 462CP-4624625301,03,4×10¹¹643Пример 463CP-4634635301,13,4×10¹¹643Пример 464CP-4644645301,23,4×10¹¹543Пример 465CP-46546513300,82,8×10¹¹543Пример 466CP-46646613300,92,8×10¹¹643Пример 467CP-46746713301,02,8×10¹¹643Пример 468CP-46846813301,12,8×10¹¹643Пример 469CP-46946913301,22,8×10¹¹543Пример 470CP-47047020300,82,5×10¹¹543Пример 471CP-47147120300,92,5×10¹¹643Пример 472CP-47247220301,02,5×10¹¹643Пример 473CP-47347320301,12,5×10¹¹643Пример 474CP-47447420301,22,5×10¹¹543Пример 475CP-47547525300,82,3×10¹¹343Пример 476CP-47647625300,92,3×10¹¹443Пример 477CP-47747725301,02,3×10¹¹443Пример 478CP-47847825301,12,3×10¹¹443

Пример 479CP-47947925301,22,3×10¹¹343Пример 480CP-4804802401,07,6×10⁹543Пример 481CP-4814815400,86,8×10⁹543Пример 482CP-4824825400,96,8×10⁹643Пример 483CP-4834835401,06,8×10⁹643Пример 484CP-4844845401,16,8×10⁹643Пример 485CP-4854855401,26,8×10⁹543Пример 486CP-48648613400,85,2×10⁹543Пример 487CP-48748713400,95,2×10⁹643Пример 488CP-48848813401,05,2×10⁹643Пример 489CP-48948913401,15,2×10⁹643Пример 490CP-49049013401,25,2×10⁹543Пример 491CP-49149120400,84,2×10⁹543Пример 492CP-49249220400,94,2×10⁹643Пример 493CP-49349320401,04,2×10⁹643Пример 494CP-49449420401,14,2×10⁹643Пример 495CP-49549520401,24,2×10⁹543Пример 496CP-49649625401,03,7×10⁹443Пример 497CP-4974972450,86,5×10⁸442Пример 498CP-4984982450,96,5×10⁸542Пример 499CP-4994992451,06,5×10⁸542Пример 500CP-5005002451,16,5×10⁸542

Таблица 61 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/
(V₁/V_T)}×
100{(V₁/V_T)+
(V₂/V_T)}×
100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинПример 501CP-5015012451,26,5×10⁸442Пример 502CP-5025025451,05,7×10⁸642Пример 503CP-50350313450,84,1×10⁸542Пример 504CP-50450413450,94,1×10⁸642Пример 505CP-50550513451,04,1×10⁸642Пример 506CP-50650613451,14,1×10⁸642Пример 507CP-50750713451,24,1×10⁸542Пример 508CP-50850820451,03,2×10⁸642Пример 509CP-50950925450,82,7×10⁸342Пример 510CP-51051025450,92,7×10⁸442Пример 511CP-51151125451,02,7×10⁸442Пример 512CP-51251225451,12,7×10⁸442Пример 513CP-51351325451,22,7×10⁸342Пример 514CP-5145145200,84,8×10¹²543Пример 515CP-5155155200,94,8×10¹²643Пример 516CP-5165165201,04,8×10¹²643Пример 517CP-5175175201,14,8×10¹²643

Пример 518CP-5185185201,24,8×10¹²543Пример 519CP-51951913200,84,3×10¹²543Пример 520CP-52052013200,94,3×10¹²643Пример 521CP-52152113201,04,3×10¹²643Пример 522CP-52252213201,14,3×10¹²643Пример 523CP-52352313201,24,3×10¹²543Пример 524CP-52452420200,83,9×10¹²543Пример 525CP-52552520200,93,9×10¹²643Пример 526CP-52652620201,03,9×10¹²643Пример 527CP-52752720201,13,9×10¹²643Пример 528CP-52852820201,23,9×10¹²543Пример 529CP-5295295300,81,7×10¹¹543Пример 530CP-5305305300,91,7×10¹¹643Пример 531CP-5315315301,01,7×10¹¹643Пример 532CP-5325325301,11,7×10¹¹643Пример 533CP-5335335301,21,7×10¹¹543Пример 534CP-53453413300,81,4×10¹¹543Пример 535CP-53553513300,91,4×10¹¹643Пример 536CP-53653613301,01,4×10¹¹643Пример 537CP-53753713301,11,4×10¹¹643Пример 538CP-53853813301,21,4×10¹¹543Пример 539CP-53953920300,81,2×10¹¹543Пример 540CP-54054020300,91,2×10¹¹643

Таблица 62 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/
(V₁/V_T)}×100{(V₁/V_T)+ (V₂/V_T)}×100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинПример 541CP-54154120301,01,2×10¹¹643Пример 542CP-54254220301,11,2×10¹¹643Пример 543CP-54354320301,21,2×10¹¹543Пример 544CP-5445445400,81,6×10⁹543Пример 545CP-5455455400,91,6×10⁹643Пример 546CP-5465465401,01,6×10⁹643Пример 547CP-5475475401,11,6×10⁹643Пример 548CP-5485485401,21,6×10⁹543Пример 549CP-54954913400,81,1×10⁹543Пример 550CP-55055013400,91,1×10⁹643Пример 551CP-55155113401,01,1×10⁹643Пример 552CP-55255213401,11,1×10⁹643Пример 553CP-55355313401,21,1×10⁹543Пример 554CP-55455420400,88,7×10⁸543Пример 555CP-55555520400,98,7×10⁸643Пример 556CP-55655620401,08,7×10⁸643Пример 557CP-55755720401,18,7×10⁸643Пример 558CP-55855820401,28,7×10⁸543Пример 559CP-55955913301,01,4×10¹¹643Пример 560CP-56056011301,04,8×10¹¹643

Таблица 63 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/
(V₁/V_T)}
×100{(V₁/V_T)+ (V₂/V_T)}
×100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинСравнительный пример 107CP-C107C107---2,2×10¹³133Сравнительный пример 108CP-C108C108---3,8×10¹¹143Сравнительный пример 109CP-C109C109---7,2×10⁸142Сравнительный пример 110CP-C110C1101151,02,2×10¹³233Сравнительный пример 111CP-C111C1111301,03,7×10¹¹243Сравнительный пример 112CP-C112C1121451,06,8×10⁸242Сравнительный пример 113CP-C113C11330151,01,7×10¹³233Сравнительный пример 114CP-C114C11430301,02,1×10¹¹243Сравнительный пример 115CP-C115C11530451,02,3×10⁸242

Сравнительный пример 116CP-C116C116---7,7×10¹²133Сравнительный пример 117CP-C117C117---2,9×10¹⁰143Сравнительный пример 118CP-C118C118---5,3×10⁶142Сравнительный пример 119CP-C119C1192101,06,3×10¹³513Сравнительный пример 120CP-C120C1205101,06,1×10¹³613Сравнительный пример 121CP-C121C12113101,05,9×10¹³613Сравнительный пример 122CP-C122C12220101,05,7×10¹³613Сравнительный пример 123CP-C123C12325101,05,5×10¹³413Сравнительный пример 124CP-C124C1242501,03,4×10⁷541Сравнительный пример 125CP-C125C1255501,02,9×10⁷641Сравнительный пример 126CP-C126C12613501,01,9×10⁷641Сравнительный пример 127CP-C127C12720501,01,4×10⁷641Сравнительный пример 128CP-C128C12825501,01,2×10⁷441

Таблица 64 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/
(V₁/V_T)}
×100{(V₁/V_T)+ (V₂/V_T)}×100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинПример 561CP-5615612150,82,0×10¹³433Пример 562CP-5625622150,92,0×10¹³533Пример 563CP-5635632151,02,0×10¹³533Пример 564CP-5645642151,12,0×10¹³533Пример 565CP-5655652151,22,0×10¹³433Пример 566CP-5665665151,02,0×10¹³633Пример 567CP-56756713150,81,8×10¹³533Пример 568CP-56856813150,91,8×10¹³633Пример 569CP-56956913151,01,8×10¹³633Пример 570CP-57057013151,11,8×10¹³633Пример 571CP-57157113151,21,8×10¹³533Пример 572CP-57257220151,01,7×10¹³633Пример 573CP-57357325150,81,7×10¹³333Пример 574CP-57457425150,91,7×10¹³433Пример 575CP-57557525151,01,6×10¹³433Пример 576CP-57657625151,11,6×10¹³433Пример 577CP-57757725151,21,6×10¹³333

Пример 578CP-5785782201,06,0×10¹²543Пример 579CP-5795795200,85,8×10¹²543Пример 580CP-5805805200,95,8×10¹²643Пример 581CP-5815815201,05,8×10¹²643Пример 582CP-5825825201,15,8×10¹²643Пример 583CP-5835835201,25,7×10¹²543Пример 584CP-58458413200,85,2×10¹²543Пример 585CP-58558513200,95,2×10¹²643Пример 586CP-58658613201,05,1×10¹²643Пример 587CP-58758713201,15,1×10¹²643Пример 588CP-58858813201,25,1×10¹²543Пример 589CP-58958920200,84,7×10¹²543Пример 590CP-59059020200,94,7×10¹²643Пример 591CP-59159120201,04,7×10¹²643Пример 592CP-59259220201,14,7×10¹²643Пример 593CP-59359320201,24,6×10¹²543Пример 594CP-59459425201,04,4×10¹²443Пример 595CP-5955952300,83,1×10¹¹443Пример 596CP-5965962300,93,1×10¹¹543Пример 597CP-5975972301,03,1×10¹¹543Пример 598CP-5985982301,13,1×10¹¹543Пример 599CP-5995992301,23,1×10¹¹443Пример 600CP-6006005300,82,9×10¹¹543

Таблица 65 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/(V₁/V_T)}
×100{(V₁/V_T)+
(V₂/V_T)}
×100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинПример 601CP-6016015300,92,9×10¹¹643Пример 602CP-6026025301,02,9×10¹¹643Пример 603CP-6036035301,12,9×10¹¹643Пример 604CP-6046045301,22,9×10¹¹543Пример 605CP-60560513300,82,4×10¹¹543Пример 606CP-60660613300,92,4×10¹¹643Пример 607CP-60760713301,02,4×10¹¹643Пример 608CP-60860813301,12,4×10¹¹643Пример 609CP-60960913301,22,3×10¹¹543Пример 610CP-61061020300,82,1×10¹¹543Пример 611CP-61161120300,92,1×10¹¹643Пример 612CP-61261220301,02,0×10¹¹643Пример 613CP-61361320301,12,0×10¹¹643Пример 614CP-61461420301,22,0×10¹¹543Пример 615CP-61561525300,81,9×10¹¹343Пример 616CP-61661625300,91,9×10¹¹443Пример 617CP-61761725301,01,8×10¹¹443

Пример 618CP-61861825301,11,8×10¹¹443Пример 619CP-61961925301,21,8×10¹¹343Пример 620CP-6206202401,06,1×10⁹543Пример 621CP-6216215400,85,4×10⁹543Пример 622CP-6226225400,95,4×10⁹643Пример 623CP-6236235401,05,3×10⁹643Пример 624CP-6246245401,15,3×10⁹643Пример 625CP-6256255401,25,3×10⁹543Пример 626CP-62662613400,84,0×10⁹543Пример 627CP-62762713400,94,0×10⁹643Пример 628CP-62862813401,03,9×10⁹643Пример 629CP-62962913401,13,9×10⁹643Пример 630CP-63063013401,23,8×10⁹543Пример 631CP-63163120400,83,2×10⁹543Пример 632CP-63263220400,93,2×10⁹643Пример 633CP-63363320401,03,1×10⁹643Пример 634CP-63463420401,13,1×10⁹643Пример 635CP-63563520401,23,0×10⁹543Пример 636CP-63663625401,02,6×10⁹443Пример 637CP-6376372450,85,0×10⁸442Пример 638CP-6386382450,95,0×10⁸542Пример 639CP-6396392451,05,0×10⁸542Пример 640CP-6406402451,15,0×10⁸542

Таблица 66 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/(V₁/V_T)}×100{(V₁/V_T)+ (V₂/V_T)}×100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинПример 641CP-6416412451,24,9×10⁸442Пример 642CP-6426425451,04,2×10⁸642Пример 643CP-64364313450,83,0×10⁸542Пример 644CP-64464413450,93,0×10⁸642Пример 645CP-64564513451,02,9×10⁸642Пример 646CP-64664613451,12,9×10⁸642Пример 647CP-64764713451,22,8×10⁸542Пример 648CP-64864820451,02,1×10⁸642Пример 649CP-64964925450,81,9×10⁸342Пример 650CP-65065025450,91,9×10⁸442Пример 651CP-65165125451,01,8×10⁸442Пример 652CP-65265225451,11,8×10⁸442Пример 653CP-65365325451,21,7×10⁸342

Таблица 67 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/(V₁/V_T)}×100{(V₁/V_T)+
(V₂/V_T)}×
100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинПример 654CP-6546545200,84,3×10¹²543Пример 655CP-6556555200,94,3×10¹²643Пример 656CP-6566565201,04,3×10¹²643Пример 657CP-6576575201,14,3×10¹²643Пример 658CP-6586585201,24,3×10¹²543Пример 659CP-65965913200,83,8×10¹²543Пример 660CP-66066013200,93,8×10¹²643Пример 661CP-66166113201,03,8×10¹²643Пример 662CP-66266213201,13,8×10¹²643Пример 663CP-66366313201,23,7×10¹²543Пример 664CP-66466420200,83,5×10¹²543Пример 665CP-66566520200,93,5×10¹²643Пример 666CP-66666620201,03,4×10¹²643Пример 667CP-66766720201,13,4×10¹²643Пример 668CP-66866820201,23,4×10¹²543Пример 669CP-6696695300,81,5×10¹¹543Пример 670CP-6706705300,91,5×10¹¹643

Пример 671CP-6716715301,01,4×10¹¹643Пример 672CP-6726725301,11,4×10¹¹643Пример 673CP-6736735301,21,4×10¹¹543Пример 674CP-67467413300,81,2×10¹¹543Пример 675CP-67567513300,91,2×10¹¹643Пример 676CP-67667613301,01,1×10¹¹643Пример 677CP-67767713301,11,1×10¹¹643Пример 678CP-67867813301,21,1×10¹¹543Пример 679CP-67967920300,89,8×10¹⁰543Пример 680CP-68068020300,99,8×10¹⁰643Пример 681CP-68168120301,09,5×10¹⁰643Пример 682CP-68268220301,19,5×10¹⁰643Пример 683CP-68368320301,29,3×10¹⁰543Пример 684CP-6846845400,81,2×10⁹543Пример 685CP-6856855400,91,2×10⁹643Пример 686CP-6866865401,01,2×10⁹643Пример 687CP-6876875401,11,2×10⁹643Пример 688CP-6886885401,21,2×10⁹543Пример 689CP-68968913400,88,2×10⁸543Пример 690CP-69069013400,98,2×10⁸643

Таблица 68 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/(V₁/V_T)}×100{(V₁/V_T)+
(V₂/V_T)}×
100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинПример 691CP-69169113401,08,0×10⁸643Пример 692CP-69269213401,18,0×10⁸643Пример 693CP-69369313401,27,7×10⁸543Пример 694CP-69469420400,86,2×10⁸543Пример 695CP-69569520400,96,2×10⁸643Пример 696CP-69669620401,05,9×10⁸643Пример 697CP-69769720401,15,9×10⁸643Пример 698CP-69869820401,25,6×10⁸543Пример 699CP-69969913301,01,1×10¹¹643Пример 700CP-70070013301,04,7×10¹¹643

Таблица 69 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/(V₁/V_T)}×100{(V₁/V_T)+ (V₂/V_T)}×100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинСравнительный пример 129CP-C129C129---2,1×10¹³133Сравнительный пример 130CP-C130C130---3,3×10¹¹143Сравнительный пример 131CP-C131C131---5,5×10⁸142Сравнительный пример 132CP-C132C1321151,02,1×10¹³233Сравнительный пример 133CP-C133C1331311,03,2×10¹¹243Сравнительный пример 134CP-C134C1341471,05,2×10⁸242Сравнительный пример 135CP-C135C13530151,01,6×10¹³233Сравнительный пример 136CP-C136C13630311,01,7×10¹¹243Сравнительный пример 137CP-C137C13730471,01,5×10⁸242

Сравнительный пример 138CP-C138C138---6,1×10¹²133Сравнительный пример 139CP-C139C139---1,7×10¹⁰143Сравнительный пример 140CP-C140C140---1,9×10⁶142Сравнительный пример 141CP-C141C1412101,06,0×10¹³513Сравнительный пример 142CP-C142C1425101,05,9×10¹³613Сравнительный пример 143CP-C143C14313101,05,6×10¹³613Сравнительный пример 144CP-C144C14420101,05,4×10¹³613Сравнительный пример 145CP-C145C14525101,05,2×10¹³413Сравнительный пример 146CP-C146C1462521,02,4×10⁷541Сравнительный пример 147CP-C147C1475521,02,0×10⁷641Сравнительный пример 148CP-C148C14813521,01,3×10⁷641Сравнительный пример 149CP-C149C14920521,08,8×10⁶641Сравнительный пример 150CP-C150C15025521,07,0×10⁶441

Таблица 70 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/(V₁/V_T)}×100{(V₁/V_T)+
(V₂/V_T)}×
100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинСравнительный пример 151CP-C151C151---3,0×10¹¹143Сравнительный пример 152CP-C152C152---2,6×10¹¹143Сравнительный пример 153CP-C153C153---2,8×10¹¹143Сравнительный пример 154CP-C154C154---2,7×10¹¹143Сравнительный пример 155CP-C155C155---2,6×10¹¹143Сравнительный пример 156CP-C156C156---2,3×10¹¹143Сравнительный пример 157CP-C157C157---2,5×10¹¹143Сравнительный пример 158CP-C158C158---2,4×10¹¹143

Таблица 71 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/(V₁/V_T)}×100{(V₁/V_T)+
(V₂/V_T)}×
100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинСравнительный пример 159CP-C159C159---3,0×10¹¹143Сравнительный пример 160CP-C160C160---2,7×10¹¹143Сравнительный пример 161CP-C161C161---3,2×10¹¹143Сравнительный пример 162CP-C162C162---3,0×10¹¹143Сравнительный пример 163CP-C163C163---2,9×10¹¹143Сравнительный пример 164CP-C164C164---2,9×10¹¹143Сравнительный пример 165CP-C165C165---2,9×10¹¹143

Таблица 72 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/(V₁/V_T)}×100{(V₁/V_T)+(V₂/V_T)}×100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинСравнительный пример 166CP-C166C166---3,0×10¹¹143Сравнительный пример 167CP-C167C167---2,8×10¹¹143Сравнительный пример 168CP-C168C168---3,0×10¹¹143Сравнительный пример 169CP-C169C169---2,6×10¹¹143Сравнительный пример 170CP-C170C170---3,3×10¹¹143Сравнительный пример 171CP-C171C171---3,0×10¹¹143

Таблица 73 Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слояПример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента{(V₂/V_T)/(V₁/V_T)}×100{(V₁/V_T)+(V₂/V_T)}×100R₂/R₁Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]Результат оценкиПамять рисункаОстаточный потенциалНаличие трещинСравнительный пример 172CP-C172C172---2,9×10¹¹143Сравнительный пример 173CP-C173C173---2,9×10¹¹143Сравнительный пример 174CP-C174C174---2,9×10¹¹143Сравнительный пример 175CP-C175C175---3,0×10¹¹143Сравнительный пример 176CP-C176C176---2,8×10¹¹143Сравнительный пример 177CP-C177C177---3,0×10¹¹143Сравнительный пример 178CP-C178C178---3,0×10¹¹143Сравнительный пример 179CP-C179C179---1,9×10¹²143

Таблица 74 Категория памяти рисунка 654321Сплошное черное изображениеНенаблюдаемоеНаблюдаемоеНаблюдаемоеНаблюдаемоеНаблюдаемоеНаблюдаемоеПолутоновое изображениеИзображение с одноточечным рисунком с шахматным расположениемНенаблюдаемоеНенаблюдаемоеНаблюдаемоеНаблюдаемоеНаблюдаемоеНаблюдаемое С поперечными одноточечными линиями с одноточечным промежуткомНенаблюдаемоеНенаблюдаемоеНенаблюдаемоеНаблюдаемоеНаблюдаемоеНаблюдаемое С поперечными двухточечными линиями с трехточечным промежуткомНенаблюдаемоеНенаблюдаемоеНенаблюдаемоеНенаблюдаемоеНаблюдаемоеНаблюдаемое С поперечными одноточечными линиями с двухточечным промежуткомНенаблюдаемоеНенаблюдаемоеНенаблюдаемоеНенаблюдаемоеНенаблюдаемоеНаблюдаемое

Несмотря на то, что данное изобретение описано здесь со ссылками на типичные варианты осуществления, следует понимать, что данное изобретение не ограничивается этими описанными типичными вариантами осуществления. Объем представленной ниже формулы изобретения предоставляет наиболее широкое толкование, с тем, чтобы охватывать все такие модификации, эквивалентные структуры и функции.

Эта заявка притязает на приоритет по заявкам на патент Японии № 2012-189532, зарегистрированной 30 августа 2012 г., № 2013-077617, зарегистрированной 3 апреля 2013 г., и № 2013-177141, зарегистрированной 28 августа 2013 г., которые включены настоящим посредством ссылки во всей их полноте.

Список обозначений

1 электрофотографический фоточувствительный элемент

2 ось

3 узел для зарядки (первичный узел для зарядки)

4 экспонирующий свет (свет, передающий изображение)

5 узел для проявления

6 узел для переноса (такой как валик для переноса)

7 узел для очистки (такой как очистной ракельный нож)

8 фиксирующий узел

9 технологический картридж

10 направляющий узел

11 предэкспозиционный свет

P материал для переноса (такой как бумага)

Реферат

Изобретение раскрывает электрографический фоточувствительный элемент, содержащий основу, электропроводный слой, сформированный на основе, и фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое, при этом электропроводный слой содержит частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фосфором, частицы оксида олова, легированного фосфором, и связующий материал; и если общий объем электропроводного слоя представлен как V, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фосфором, в электропроводном слое представлен как Vи общий объем частиц оксида олова, легированного фосфором, в электропроводном слое представлен как V, величины V, Vи Vудовлетворяют следующим выражениям: 2≤{(V/V)/V/V)}×100≤25 и 15≤{(V/V)+(V/V)}×100≤45. Также раскрываются технологический картридж и электрофотографическое устройство, которые содержат указанный выше электрофотографический фоточувствительный элемент. Технический результат заключается в получении электрофотографического фоточувствительного элемента, в котором остаточный потенциал практически не увеличивается во время формирования изображения, эффекта памяти рисунка практически не происходит и практически не происходит возникновения трещин в электропроводном слое. 7 н. и 15 з.п. ф-лы, 5 ил., 74 табл., 1 пр.

Формула

1. Электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий:
основу;
электропроводный слой, сформированный на основе; и
фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое,
в котором:
электропроводный слой содержит:
частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фосфором,
частицы оксида олова, легированного фосфором, и
связующий материал; и
если общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фосфором, в электропроводном слое представлен как V_1P и общий объем частиц оксида олова, легированного фосфором, в электропроводном слое представлен как V_2P, величины V_T, V_1P и V_2P удовлетворяют приведенным ниже выражениям (1) и (2):
2≤{(V_2P/V_T)/(V_1P/V_T)}×100≤25 (1);
15≤{(V_1P/V_T)+(V_2P/V_T)}×100≤45 (2).

2. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 1, в котором величины V_T, V_1P и V_2P удовлетворяют приведенному ниже выражению (3):
5≤{(V_2P/V_T)/(V_1P/V_T)}×100≤20 (3).

3. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 1, в котором величины V_T, V_1P и V_2P удовлетворяют приведенному ниже выражению (4):
20≤{(V_1P/V_T)+(V_2P/V_T)}×100≤40 (4).

4. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 1, в котором если отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фосфором, представлено как R_1P [ат.%] и отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах оксида олова, легированного фосфором, представлено как R_2P [ат.%], то величины R_1P и R_2P удовлетворяют приведенному ниже выражению (5):
0,9≤R_2P/R_1P≤1,1 (5).

5. Электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий:
основу;
электропроводный слой, сформированный на основе; и
фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое,
в котором:
электропроводный слой содержит:
частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным вольфрамом,
частицы оксида олова, легированного вольфрамом, и
связующий материал; и
если общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным вольфрамом, в электропроводном слое представлен как V_1W и общий объем частиц оксида олова, легированного вольфрамом, в электропроводном слое представлен как V_2W, величины V_T, V_1W и V_2W удовлетворяют приведенным ниже выражениям (6) и (7):
2≤{(V_2W/V_T)/(V_1W/V_T)}×100≤25 (6);
15≤{(V_1W/V_T)+(V_2W/V_T)}×100≤45 (7).

6. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 5, в котором величины V_T, V_1W и V_2W удовлетворяют приведенному ниже выражению (8):
5≤{(V_2W/V_T)/(V_1W/V_T)}×100≤20 (8).

7. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 5, в котором величины V_T, V_1W и V_2W удовлетворяют приведенному ниже выражению (9):
20≤{(V_1W/V_T)+(V_2W/V_T)}×100≤40 (9).

8. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 5, в котором если отношение содержания вольфрама к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным вольфрамом, представлено как R_1W [ат.%] и отношение содержания вольфрама к оксиду олова в частицах оксида олова, легированного вольфрамом, представлено как R_2W [ат.%], то величины R_1W и R_2W удовлетворяют приведенному ниже выражению (10):
0,9≤R_2W/R_1W≤1,1 (10).

9. Электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий:
основу;
электропроводный слой, сформированный на основе; и
фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое,
в котором:
электропроводный слой содержит:
частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фтором,
частицы оксида олова, легированного фтором, и
связующий материал; и
если общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фтором, в электропроводном слое представлен как V_1F и общий объем частиц оксида олова, легированного фтором, в электропроводном слое представлен как V_2F, величины V_T, V_1F и V_2F удовлетворяют приведенным ниже выражениям (11) и (12):
2≤{(V_2F/V_T)/(V_1F/V_T)}×100≤25 (11);
15≤{(V_1F/V_T)+(V_2F/V_T)}×100≤45 (12).

10. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 9, в котором величины V_T, V_1F и V_2F удовлетворяют приведенному ниже выражению (13):
5≤{(V_2F/V_T)/(V_1F/V_T)}×100≤20 (13).

11. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 9, в котором величины V_T, V_1F и V_2F удовлетворяют приведенному ниже выражению (14):
20≤{(V_1F/V_T)+(V_2F/V_T)}×100≤40 (14).

12. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 9, в котором если отношение содержания фтора к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фтором, представлено как R_1F [ат.%] и отношение содержания фтора к оксиду олова в частицах оксида олова, легированного фтором, представлено как R_2F [ат.%], то величины R_1F и R_2F удовлетворяют приведенному ниже выражению (15):
0,9≤R_2F/R_1F≤1,1 (15).

13. Электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий:
основу;
электропроводный слой, сформированный на основе; и
фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое,
в котором:
электропроводный слой содержит:
частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным ниобием,
частицы оксида олова, легированного ниобием, и
связующий материал; и
если общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным ниобием, в электропроводном слое представлен как V_1Nb и общий объем частиц оксида олова, легированного ниобием, в электропроводном слое представлен как V_2Nb, величины V_T, V_1Nb и V_2Nb удовлетворяют приведенным ниже выражениям (16) и (17):
2≤{(V_2Nb/V_T)/(V_1Nb/VT)}×100≤25 (16);
15≤{(V_1Nb/V_T)+(V_2Nb/VT)}×100≤45 (17).

14. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 13, в котором величины V_T, V_1Nb и V_2Nb удовлетворяют приведенному ниже выражению (18):
5≤{(V_2Nb/V_T)/(V_1Nb/V_T)}×100≤20 (18).

15. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 13, в котором величины V_T, V_1Nb и V_2Nb удовлетворяют приведенному ниже выражению (19):
20≤{(V_1Nb/V_T)+(V_2Nb/V_T)}×100≤40 (19).

16. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 13, в котором если отношение содержания ниобия к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным ниобием, представлено как R_1Nb [ат.%] и отношение содержания ниобия к оксиду олова в частицах оксида олова, легированного ниобием, представлено как R_2Nb [ат.%], то величины R_1Nb и R_2Nb удовлетворяют приведенному ниже выражению (20):
0,9≤R_2Nb/R_1Nb≤1,1 (20).

17. Электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий:
основу;
электропроводный слой, сформированный на основе; и
фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое,
в котором:
электропроводный слой содержит:
частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным танталом,
частицы оксида олова, легированного танталом, и
связующий материал; и
если общий объем электропроводного слоя представлен как V_T, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным танталом, в электропроводном слое представлен как V_1Ta и общий объем частиц оксида олова, легированного танталом, в электропроводном слое представлен как V_2Ta, величины V_T, V_1Ta и V_2Ta удовлетворяют приведенным ниже выражениям (21) и (22):
2≤{(V_2Ta/V_T)/(V_1Ta/V_T)}×100≤25 (21);
15≤{(V_1Ta/V_T)+(V_2Ta/V_T)}×100≤45 (22).

18. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 17, в котором величины V_T, V_1Ta и V_2Ta удовлетворяют приведенному ниже выражению (23):
5≤{(V_2Ta/V_T)/(V_1Ta/V_T)}×100≤20 (23).

19. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 17, в котором величины V_T, V_1Ta и V_2Ta удовлетворяют приведенному ниже выражению (24):
20≤{(V_1Ta/V_T)+(V_2Ta/V_T)}×100≤40 (24).

20. Электрофотографический фоточувствительный элемент по п. 17, в котором если отношение содержания тантала к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным танталом, представлено как R_1Ta [ат.%] и отношение содержания тантала к оксиду олова в частицах оксида олова, легированного танталом, представлено как R_2Ta [ат.%], то величины R_1Ta и R_2Ta удовлетворяют приведенному ниже выражению (25):
0,9≤R_2Ta/R_1Ta≤1,1 (25).

21. Технологический картридж, присоединяемый с возможностью снятия к основному корпусу электрофотографического устройства, где технологический картридж содержит в интегрированном виде:
электрофотографический фоточувствительный элемент по любому из пп. 1-20; и
по меньшей мере один узел, выбранный из группы, состоящей из узла для зарядки, узла для проявления, узла для переноса и узла для очистки.

22. Электрофотографическое устройство, содержащее:
электрофотографический фоточувствительный элемент по любому из пп. 1-20;
узел для зарядки;
узел для экспонирования;
узел для проявления; и
узел для переноса.

Авторы

ЦУДЗИ Харуюки (JP)

ФУДЗИИ Ацуси (JP)

СИДА Кадзухиса (JP)

НАКАМУРА Нобухиро (JP)

МАЦУОКА Хидеаки (JP)

ТОМОНО Хироюки (JP)

TSUDZI KHARUYUKI

FUDZII ATSUSI

SIDA KADZUKHISA

NAKAMURA NOBUKHIRO

MATSUOKA KHIDEAKI

TOMONO KHIROYUKI

TSUDZI KHaruyuki

FUDZII Atsusi

SIDA Kadzukhisa

NAKAMURA Nobukhiro

MATSUOKA KHideaki

TOMONO KHiroyuki

Патентообладатели

KENON KK

KENON KABUSIKI KAJSYA

Заявители

KENON KK

KENON KABUSIKI KAJSYA

СПК: G03G5/087 G03G5/104

Публикация: 2016-08-27

Дата подачи заявки: 2013-08-29

РОССТИП

Поиск по товарам

Добавить свой товар

Сообщества

Товары

Участники

Патенты

Запросов

Поставщикам

О сервисе

Блогерам

Помощь