Способ и устройство для прогнозирования скорости роста осажденных загрязняющих примесей - RU2014115699A

Реферат

1. Система (10) литографии, содержащая:- систему (20) проецирования излучения для проецирования излучения на подложку;- систему (30) транспортировки подложки для погрузки и позиционирования подложки, которая должна быть обработана, на пути проецируемого излучения;- систему (40) управления для управления системой транспортировки подложки, чтобы перемещать подложку; и- систему (50) определения характеристик резиста, приспособленную для определения того, подходит ли конкретный тип резиста для того, чтобы экспонироваться при воздействии излучения в установке для литографии,при этом система (50) определения характеристик резиста приспособлена для:- экспонирования резиста на поверхности подложки одним или более пучками излучения;- измерения распределения масс молекулярных фрагментов, испускаемых из резиста;- использования модели (110) скорости роста, основанной на более ранних измерениях индуцированного облучением осаждения, вызванного известными молекулярными фрагментами для различных парциальных давлений;- прогнозирования скорости роста осажденных молекулярных фрагментов на основе модели скорости роста молекулярных фрагментов и измеренного распределения масс молекулярных фрагментов, и получения парциального давления на основе измеренного распределения масс молекулярных фрагментов; и- сравнения прогнозируемой скорости роста с предварительно определенной пороговой скоростью роста, пороговая скорость роста относится к максимально доступной скорости роста в установке для литографии.2. Система по п. 1, при этом излучение принимает форму одного или более элементарных лучей заряженных частиц, и при этом более ран