Чувствительная к облучению масса - RU2007110719A

Реферат

1. Чувствительная к облучению масса, состоящая из пленкообразующего компонента и полимерных продуктов реакции со слабым запахом, которые состоят из продукта взаимодействия

А) альдегидов общей формулы I

где R означает водород, неразветвленный или разветвленный алкильный остаток с 1-12 атомами углерода, арильный остаток

и

Б) по крайней мере, одного кетона общей формулы II

где R₁ означает неразветвленный алкильный остаток с 1-12 атомами углерода и

R₂=

причем остатки R₃ до R₇ означают водород, алкил, ОСН₃, ОС₂Н₅, CI, F, COO(C₁-С₃-алкил), R₄ до R₆ дополнительно означают ОН, SH

и

В) при необходимости, одного дополнительного СН-кислотного кетона.

2. Чувствительная к облучению масса по п.1, отличающаяся тем, что в качестве альдегидного компонента А) используют формальдегид, бензальдегид, ацетальдегид, н-бутиральдегид и/или изо-бутиральдегид, валериановый альдегид, а также додеканаль, как таковые или в комбинации.

3. Чувствительная к облучению масса по п.1, отличающаяся тем, что в качестве кетонного компонента Б) используют ацетофенон и замещенные в ядре производные ацетофенона, как таковые или в комбинации.

4. Чувствительная к облучению масса по п.3, отличающаяся тем, что в качестве замещенных в ядре производных ацетофенона используют гидрокси-, метил-, этил-, трет.-бутил- или циклогексилацетофеноны, как таковые или в комбинации.

5. Чувствительная к облучению масса по п.1, отличающаяся тем, что в качестве дополнительного СН-кислотного кетонного компонента под обозначением В) используют ацетон, 4-трет.-бутилметил-, метилнафтил-, гидроксинафтил-, метилэтилкетоны, гептан он-2, пентанон-3, метилизобутил-кетон, пропиофенон, циклопентанон, циклододеканон, смеси из 2,2,4-триметилциклопентанона и 2,4,4-триметилциклопентанона, циклогептанон, циклооктанон, циклогексанон и все алкилзамещенные циклогексаноны с одним или несколькими алкильными остатками, которые в сумме содержат 1-8 атомов углерода, как таковые или в комбинации.

6. Чувствительная к облучению масса по п.5, отличающаяся тем, что в качестве алкилзамещенных циклогексанонов используют 4-трет.-амил-, 2-втор.-бутил-, 2-трет.-бутил-, 4-трет.-бутил-, 2-метил- и 3,3,5-триметил-циклогексаноны, как таковые или в комбинации.

7. Чувствительная к облучению масса по п.1, отличающаяся тем, что максимум до 9,9 мол.% кетонного компонента В), считая на сумму из Б) и В), может быть заменено бензоином или алкиловым эфиром.

8. Чувствительная к облучению масса по п.1, отличающаяся тем, что полимерные продукты реакции из компонентов А), Б) и, при необходимости, В) имеют области плавления между 30 и 160°С, средние молекулярные массы - от 300 до 2000, индексы цвета (по Гарднеру, 50% в этилацетате) меньше 5 и ОН-числа - между 0 и 250 мг КОН/г.

9. Чувствительная к облучению масса по п.1, отличающаяся тем, что полимерные продукты реакции из компонентов А), Б) и, при необходимости, В) представлены в чувствительной к облучению массе в долях от 5 до 80 мас.%, считая на всю композицию.

10. Чувствительная к облучению масса по п.1, отличающаяся тем, что в качестве связующего используют ненасыщенные связующие, способные подвергаться радикальной реакции сшивания.

11. Чувствительная к облучению масса по п.1, отличающаяся тем, что в качестве пленкообразующего компонента используют ароматические и алифатические уретан-, эпоксиакрилаты, акрилаты сложных полиэфиров, акрилированные полиакрилаты, акрилаты простых полиэфиров, ненасыщенные сложные полиэфиры, алкидные смолы и акрилированные кетоно-формальдегидные смолы, как таковые или в комбинации.

12. Чувствительная к облучению масса по п.1, отличающаяся тем, что она дополнительно содержит реакционноспособные разбавители.

13. Чувствительная к облучению масса по п.12, отличающаяся тем, что в качестве реакционноспособных разбавителей используют акриловую, метакриловую кислоты, сложный алкиловый эфир с 1-40 атомами углерода, циклоалкиловый эфир метакриловой кислоты, акриловой кислоты, глицидилметакрилат, глицидил-, 1,2-эпоксибутилакрилаты, 1,2-эпоксибутил-метакрилат, 2,3-эпоксициклопентилакрилат, 2,3-эпоксициклопентил-метакрилат, а также аналоги амидов, стирол и его прозводные, ди-, три- и/или тетраакрилаты и их метакриловые аналоги, которые обычно получаются из продуктов взаимодействия акриловой или метакриловой кислоты и спиртового компонента с отщеплением воды, как таковые или в комбинации.

14. Чувствительная к облучению масса по п.13, отличающаяся тем, что в качестве спиртового компонента в случае реакционноспособных разбавителей используют этиленгликоль, 1,2-пропандиол, 1,3-пропандиол, диэтилен-, дипропилен- и трипропилен-, триэтилен-, тетраэтиленгликоли, 1,2-бутандиол, 1,4-бутандиол, 1,3-бутилэтил-, 1,3-метилпропандиолы, 1,5-пентандиол, бис-(1,4-гидрокси-метил)циклогексан (циклогександиметанол), глицерин, гександиол, неопентилгликоль, триметилолэтан, триметилол-пропан, пентаэритрит, бисфенол А, В, С, F, норборниленгликолъ, 1,4-бензилдиметанол, 1,4-бензилдиэтанол, 2,4-диметил-2-этилгексан-1,3-диол, 1,4-бутиленгликоль и 2,3-бутиленгликоль, ди-β-гидроксиэтилбутандиол, 1,5-пентандиол, 1,6-гександиол, 1,8-октандиол, декандиол, додекандиол, неопентилгликоль, циклогександиол, триметилолпропан, 3(4),8(9)-бис-(гидроксиметил)-трицикло[5.2.1.0^2,6]декан (дицидол), 2,2-бис-(4-гидрокси-циклогексил)пропан, 2,2-бис-[4-(β-гидроксиэтокси)фенил]пропан, 2-метил-пропандиол-1,3, 2-метилпентандиол-1,5, 2,2,4(2,4,4)-триметилгександиол-1,6, гексантриол-1,2,6, бутантриол-1,2,4, трис-(β-гидроксиэтил)изоцианурат, маннит, сорбит, полипропилен-, полибутиленгликоли, ксилиленгликоль или неопентилгликолевый эфир гидроксипивалиновой кислоты, как таковые или в смесях.

15. Чувствительная к облучению масса по п.1, отличающаяся тем, что она дополнительно содержит другие фотоинициаторы и/или фотосенсибилизаторы.

16. Чувствительная к облучению масса по п.15, отличающаяся тем, что в качестве фотоинициаторов и/или фотосенсибилизаторов применяют фенилглиоксилаты, бензофеноны, α-гидроксикетоны, α-аминокетоны, бензилдиметилкетали, моноацилфосфины, третичные амины, бисацил-фосфины, металлоцены и бисацилкетоны, как таковые или в комбинации.

17. Способ получения чувствительной к облучению массы, отличающийся тем, что используют пленкообразующий компонент и полимерные продукты реакции со слабым запахом, состоящие из продукта взаимодействия

А) альдегидов общей формулы I

где R означает водород, неразветвленный или разветвленный алкильный остаток с 1-12 атомами углерода, арильный остаток

и

Б) по крайней мере, одного кетона общей формулы II

где R₁ означает неразветвленный алкильный остаток с 1-12 атомами углерода

и R₂=

причем остатки R₃ до R₇ означают водород, алкил, ОСН₃, OC₂H₅, CI, F, COO(C₁-С₃-алкил), R₄ до R₆ дополнительно означают ОН, SH

и

В) при необходимости, одного дополнительного СН-кислотного кетона.

18. Применение чувствительной к облучению массы по одному из пп.1-16 в материалах для покрытий, клеях, печатных красках и чернилах, поверхностных покрытиях, политурах, лазурях, пигментных пастах, шпатлевках, косметических товарах и/или герметиках и изоляционных материалах.

19. Применение чувствительной к облучению массы по п.18, причем масса дополнительно содержит вспомогательные вещества или добавки, ингибиторы, воду и/или органические растворители, нейтрализаторы, поверхностно-активные вещества, акцепторы кислорода и/или свободных радикалов, катализаторы, светостабилизаторы, осветлители цвета, тиксотропные средства, средства для предупреждения образования поверхностной пленки, пеногасители, антистатики, загустители, термопластичные добавки, красители, пигменты, средства, повышающие огнестойкость, внутренние смазки, наполнители и/или вспенивающие агенты, как таковые или в комбинации.