Маска для ближнепольной литографии и ее изготовление - RU2013112860A

Реферат

1. Способ формирования снабженной нанорисунком цилиндрической фотомаски, содержащий:формирование рисунка шаблона на подложке шаблона, причем рисунок шаблона включает в себя элементы размером в диапазоне от примерно 1 нанометра до примерно 100 микрон;формирование слоя эластомерного материала на поверхности прозрачного цилиндра;перевод рисунка шаблона с шаблона в слой эластомерного материала на поверхности цилиндра.2. Способ по п.1, при этом подложка шаблона является плоской жесткой подложкой.3. Способ по п.1, при этом подложка шаблона выполнена из гибкого материала.4. Способ по п.1, при этом перевод рисунка шаблона с шаблона в слой эластомерного материала на поверхности цилиндра включает в себя наноимпринтную литографию «с пластины на цилиндр», оптическую литографию в стандартной контактной или ближнепольной конфигурациях, литографию со связыванием и отсоединением или переводную литографию, микроконтактную печать, нанопереводную печать и интерференционную литографию со сканирующим лучом.5. Способ по п.1, при этом перевод рисунка шаблона с шаблона в слой эластомерного материала на поверхности цилиндра включает в себя непрерывное вращение цилиндра в течение процесса литографии, при котором шаблон используется в качестве маски литографии.6. Способ по п.1, при этом перевод рисунка шаблона с шаблона в слой эластомерного материала на поверхности цилиндра включает в себя режим «шаг и поворот», при котором литографию осуществляют на одном участке цилиндра в один момент времени, с последующим этапом поворота между процессами литографии.7. Способ по п.1, при этом перевод рисунка шаблона с шаблона в слой эластомерного