Композиция адгезионного слоя основы кинофотоматериалов - SU710014A1

Описание

Изобретение относится к композиции адгезионного слоя основы кинофотоматериалов и может быть испо.ль зовано в химико-фотографической промышленности . Известна композиция адгезионного слоя основы кинофотоматериалов, вклю чающая продукт поликонденсации тере фтёшевой кислоты, этиленгликоля и диэтиленгликоля, метиленхлорид и дихлорэтан 11j. Недостатком известной композиции является то, что изготовленный из нее адгезионный слой имеет низкую температуру плавления, что вызывает прилипание основы кинофотоматериалов к валикам аппаратуры и их загрязнение при поливе основы. Другим недостатком известной ком позиции является то, что известный из нее адгезионный слой обладает неудовлетворительным держанием эмульсионного слоя на основе. Целью изобретения является повышение температуры плавления адгезионного слоя.. Поставленная цель достигается тем, что композиция адгезионного сло основы кинофотоматериалов, включающая продукт поликонденсации терефтай кислоты, этиленгликоля и диенгликоля , метиленхлорид и диэтан , дополнительно содержит этилат и термопластичный полиуретан й формулы О00 ПII II ИИСО- (СН) -0 -С-(СН п (10-12) следующем соотношении компоненвес .%: Продукт поликонденсации терефталевой кислоты, этиленгликоля и диэтиленгли1 ,14-1,28 коля Термопластичный по0 ,046-0,072 лиуретан 0,18-0,29 Этилацетат 65-75 Метиленхлорид Остальное. Дихлорэтан спользование предлагаемой компои позволяет изготовить адгезионслой с повышенной на 40-45 С

Реферат

Формула