Фотолитографическое формирование микрорельефа в полимерных материалах - RU2007134366A

Реферат

1. Способ формирования микрорельефа в отверждаемом излучением полимере, нанесенном на пластиковую подложку, включающий следующие стадии:

осаждение отверждаемого излучением полимера на пластиковую подложку; и

экспонирование по изображению в отверждающем энергетическом излучении, по меньшей мере, участка упомянутого отверждаемого излучением полимера для создания области отвержденного полимера, причем, упомянутую пластиковую подложку защищают от упомянутого излучения.

2. Способ по п. 1, в котором упомянутую пластиковую подложку защищают от упомянутого излучения i) обеспечением в подложке добавки, предназначенной для поглощения упомянутого энергетического излучения, или ii) обеспечением защитного слоя, непрозрачного для упомянутого энергетического излучения, и осажденного на упомянутую подложку, или iii) сочетанием перечисленных методов.

3. Способ по п. 2, в котором упомянутую пластиковую подложку защищают от упомянутого отверждающего энергетического излучения путем ввода в подложку добавки, подобранной для поглощения упомянутого отверждающего энергетического излучения, где энергетическим излучением предпочтительно является УФ-излучение и добавкой предпочтительно является поглотитель УФ-излучения.

4. Способ по п. 3, в котором упомянутый слой отверждаемого излучением полимера содержит, по меньшей мере, один мономер, олигомер или полимер, содержащий, по меньшей мере, одну функциональную группу, способную к претерпеванию аддитивной полимеризации, и, по меньшей мере, один фотоинициатор, где, по меньшей мере, один фотоинициатор является предпочтительно фотоинициатором свободно-радикальной полимеризации, и, по меньшей мере, одна функциональная группа является предпочтительно этиленненасыщенной группой или эпокси группой.

5. Способ по п. 3, в котором упомянутая добавка внедрена диффузией в поверхность упомянутой пластиковой подложки, причем пластиковая подложка предпочтительно является полиэтилентерефталатом или поликарбонатом.

6. Способ по п. 4, в котором этиленненасыщенную группу выбирают из метакрилатной, акрилатной, стирольной, винильной или простой винилэфирной групп.

7. Способ по п. 3, в котором отверждаемый излучением полимер содержит силоксановый полимер.

8. Способ по п. 2, в котором упомянутую пластиковую подложку защищают от упомянутого отверждающего энергетического излучения защитным слоем, непрозрачным для упомянутого энергетического излучения, и осажденного на упомянутую подложку, где энергетическим излучением предпочтительно является УФ-излучение, и отверждаемый излучением полимер предпочтительно содержит силоксановый полимер.

9. Способ по п. 8, в котором упомянутый защитный слой содержит металлическую пленку, и упомянутая металлическая пленка предпочтительно содержит алюминий.

10. Способ по п. 8, в котором упомянутый защитный слой содержит полимер, содержащий добавку, которая поглощает упомянутое энергетическое излучение, и упомянутый защитный слой предпочтительно экструдируют совместно с упомянутой пластиковой подложкой.

11. Способ по п. 10, в котором упомянутый слой отверждаемого излучением полимера содержит, по меньшей мере, один мономер, олигомер или полимер, содержащий, по меньшей мере, одну функциональную группу, способную к претерпеванию аддитивной полимеризации, и, по меньшей мере, один фотоинициатор, где, по меньшей мере, один фотоинициатор является предпочтительно фотоинициатором свободно-радикальной полимеризации, и, по меньшей мере, одна функциональная группа является предпочтительно этиленненасыщенной группой, выбранной из метакрилатной, акрилатной, стирольной, винильной или простой винилэфирной групп, или эпокси группой.

12. Способ по п. 3 или 8, в котором экспонирование упомянутого слоя отверждаемого излучением полимера энергетическим излучением выбирают из i) экспонирования через шаблон для формирования рисунка или ii) экспонирования направленным пучком упомянутого энергетического излучения, для обеспечения, по меньшей мере, одной области отвержденного полимера и, по меньшей мере, одной неэкспонированной области отверждаемого излучением полимера, предпочтительно дополнительно содержащий стадию нанесения растворителя для удаления неэкспонированного отверждаемого излучением полимера с упомянутой неэкспонированной области отверждаемого излучением полимера.

13. Способ по п. 12, в котором область отвержденного полимера и неэкспонированная область отверждаемого излучением полимера характеризуются разностью показателей преломления, чтобы обеспечить выполнение функций оптического устройства.

14. Способ по п. 8, в котором пластиковая подложка представляет собой полиэтилентерефталат или поликарбонат.

15. Способ по п. 3 или 8, при применении для изготовления световода предпочтительно дополнительно содержащий стадию осаждения оптического буферного слоя на защитный слой перед осаждением слоя отверждаемого излучением полимера, где оптический буферный слой предпочтительно содержит отверждаемый излучением полимер.

16. Способ по п. 15, дополнительно содержащий стадию осаждения слоя оболочки на микрорельефно сформированный слой отвержденного излучением полимера, где слой оболочки предпочтительно содержит отверждаемый излучением полимер.

17. Способ по п. 3 или 15, в котором световод формирует компонент оптического датчика сенсорного экрана.

18. Оптическое устройство, содержащее:

пластиковую подложку;

промежуточный защитный слой, непрозрачный для энергетического излучения; и

микрорельефно сформированный отвержденный излучением полимер, осажденный на упомянутый защитный слой.

19. Оптическое устройство по п. 18, в котором упомянутый защитный слой является металлической пленкой.

20. Оптическое устройство по п. 18, в котором пластиковая подложка представляет собой полиэтилентерефталат или поликарбонат.

21. Оптическое устройство по п. 18, в котором микрорельефно сформированный отвержденный излучением полимер отвержден УФ-излучением, и защитный слой содержит полимер с добавкой, которая поглощает упомянутое УФ-излучение, где упомянутый защитный слой экструдируют совместно с упомянутой пластиковой подложкой.

22. Световодный оптический датчик сенсорного экрана, содержащий оптическое устройство по п. 18.

23. Оптическое устройство, содержащее:

пластиковую подложку; и

микрорельефно сформированный отвержденный излучением полимер, осажденный на упомянутую подложку;

при этом, пластиковая подложка содержит добавку, которая поглощает излучение, применяемое для отверждения полимера.

24. Оптическое устройство по п. 23, в котором пластиковая подложка представляет собой полиэтилентерефталат или поликарбонат, содержащий добавку, которая поглощает излучение, применяемое для отверждения полимера, где излучение предпочтительно является УФ-излучением.

25. Способ фотолитографического формирования микрорельефа в УФ-отверждаемом полимере, нанесенном на пластиковую подложку, включающий следующие стадии:

осаждение УФ-отверждаемого полимера на пластиковую подложку;

экспонирование по изображению в УФ-излучении через шаблон для формирования рисунка, по меньшей мере, участка упомянутого УФ-отверждаемого полимера для создания, по меньшей мере, одной области отвержденного полимера, и, по меньшей мере, одной неэкспонированной области УФ-отверждаемого полимера;

нанесение растворителя для удаления неэкспонированного УФ-отверждаемого полимера с упомянутой неэкспонированной области УФ-отверждаемого полимера; и, при этом, упомянутую пластиковую подложку защищают от упомянутого УФ-излучения посредством введения в подложку добавки, подобранной для поглощения УФ-излучения.

26. Способ по п. 25, при применении для изготовления световода, световод формирует предпочтительно компонент оптического датчика сенсорного экрана.

27. Способ фотолитографического формирования микрорельефа в УФ-отверждаемом полимере, нанесенном на пластиковую подложку, включающий следующие стадии:

осаждение УФ-отверждаемого полимера на пластиковую подложку;

экспонирование по изображению в УФ-излучении через шаблон для формирования рисунка, по меньшей мере, участка упомянутого УФ-отверждаемого полимера для создания, по меньшей мере, одной области отвержденного полимера, и, по меньшей мере, одной неэкспонированной области УФ-отверждаемого полимера;

нанесение растворителя для удаления неэкспонированного УФ-отверждаемого полимера с упомянутой неэкспонированной области УФ-отверждаемого полимера; и, при этом, упомянутую пластиковую подложку защищают от упомянутого УФ-излучения защитным слоем, непрозрачным для упомянутого энергетического излучения и осажденным на упомянутую подложку.

28. Способ по п. 27, в котором упомянутый защитный слой является металлической пленкой, при применении для изготовления световода, где световод предпочтительно формирует компонент оптического датчика сенсорного экрана.

29. Способ по п. 27, в котором упомянутый защитный слой содержит полимер с добавкой, которая поглощает УФ-излучение, где упомянутый защитный слой экструдируют совместно с упомянутой пластиковой подложкой, при применении для изготовления световода, где световод предпочтительно формирует компонент оптического датчика сенсорного экрана.

30. Оптическое устройство, содержащее:

пластиковую подложку;

промежуточный защитный слой, непрозрачный для УФ-излучения и сформированный совместной экструзией с упомянутой пластиковой подложкой; и

микрорельефно сформированный УФ-отвержденный полимер, осажденный на упомянутый промежуточный слой.

31. Оптическое устройство, содержащее пластиковую подложку, содержащую УФ-поглощающую добавку и содержащее микрорельефно сформированный УФ-отвержденный полимер, осажденный на упомянутую подложку.

32. Световодный оптический датчик сенсорного экрана, содержащий оптическое устройство по п. 30 или 31.