Композиция для нанесения металлического покрытия, содержащая подавляющий агент, для беспустотного заполнения субмикронных элементов поверхности - RU2011144618A

Реферат

1. Композиция, содержащая источник металлических ионов и по меньшей мере один подавляющий агент, который получают путем реакции:a) аминного соединения, содержащего активные функциональные аминогруппы,соb) смесью этиленоксида и по меньшей мере одного соединения, выбранного из С3 и С4 алкиленоксидов,где указанный подавляющий агент имеет молекулярную массу (M) 6000 г/моль или более, и где содержание этиленоксида в сополимере этиленоксида и С3-С4 алкиленоксида составляет от 30 до 70%.2. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что молекулярная масса (M) подавляющего агента составляет от 7000 до 19000 г/моль.3. Композиция по п.2, отличающаяся тем, что молекулярная масса (M) подавляющего агента составляет от 9000 до 18000 г/моль.4. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что металлические ионы содержат ионы меди.5. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что аминное соединение, содержащие активные функциональные аминогруппы, содержит по меньшей мере 3 активные аминогруппы.6. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что подавляющий агент выбирается из соединений формулы I:где- каждый радикал Rнезависимо выбирается из сополимера этиленоксида и по меньшей мере еще одного С3-С4 алкиленоксида, причем указанный сополимер представляет собой случайный сополимер,- каждый радикал Rнезависимо выбирается из Rили алкила, предпочтительно С1-С6 алкила,- Х и Y независимо представляют собой спейсерные группы, причем Х имеет независимые значения для каждой повторяющейся единицы, выбранные из С1-С6 алкилена и Z-(O-Z)m, где каждый радикал Z независимо выбирается из С2-С6 алкилена,- n представляет собой целое число больше или равное 0,- m представляет собой целое число больше или равное 1.7. Ком