Способы, использующие удаленную плазму дугового разряда - RU2013142040A

Реферат

1. Система для нанесения покрытий, содержащая:вакуумную камеру и узел нанесения покрытий, включающий:источник паров;подложкодержатель для удерживания подложек, на которые наносятся покрытия, таким образом, чтобы эти подложки располагались перед источником паров;узел катодной камеры, включающий катодную мишень, необязательный первичный анод и экран, изолирующий катодную мишень от вакуумной камеры, при этом указанный экран имеет отверстия для пропускания тока электронной эмиссии от катодной мишени в вакуумную камеру;удаленный анод, электрически связанный с катодной мишенью;первичный источник питания, присоединяемый между катодной мишенью и первичным анодом; ивторичный источник питания, присоединяемый между катодной мишенью и удаленным анодом, причем источник паров располагается между узлом катодной камеры и удаленным анодом, линейные размеры удаленного анода, источника паров, катодной мишени и подложкодержателя параллельны друг другу, и линейные размеры удаленного анода равны или превышают линейные размеры катодной мишени, и источник паров имеет такие линейные размеры, чтобы удерживаемая плазма протекала от катодной мишени к удаленному аноду.2. Система по п.1, в которой первичный анод является заземлением или экраном.3. Система по п.1, дополнительно содержащая по меньшей мере один дополнительный источник паров, размещенный между узлом катодной камеры и удаленным анодом.4. Система по п.3, в которой перпендикулярные расстояния между каждым из источников паров и подложками, на которые наносится покрытие, являются по существу одинаковыми, и расстояние между узлом катодной камеры и удаленным анодом меньше �