Осаждение из паровой фазы для нанесения покрытия с погружением в дуговую плазму низкого давления и ионная обработка - RU2014109915A

Реферат

1. Система для нанесения покрытия, содержащая:вакуумную камеру; иузел для нанесения покрытия, включающий в себя:источник пара, имеющий сторону мишени с длинным размером стороны мишени и коротким размером стороны мишени;держатель подложек для удержания подложек, на которые требуется нанести покрытие, таким образом, что подложки располагаются перед источником пара, причем держатель подложек имеет линейный размер держателя;удаленный анод, электрически соединенный с мишенью-катодом, причем удаленный анод имеет линейный размер удаленного анода, а источник пара имеет линейный размер источника пара;узел катодной камеры, включающий в себя мишень-катод, необязательный первичный анод и экран, который изолирует мишень-катод от вакуумной камеры, при этом мишень-катод имеет линейный длинный размер мишени-катода и линейный короткий размер мишени-катода, в экране сформировано по меньшей мере одно отверстие для передачи тока электронной эмиссии удаленного дугового разряда от мишени-катода к удаленному аноду, который проходит вдоль длинного размера стороны мишени;первичный источник питания, подключенный между мишенью-катодом и первичным анодом; ивторичный источник питания, подключенный между мишенью-катодом и удаленным анодом, причем линейный размер удаленного анода и короткий размер источника пара расположены параллельно размеру, в котором управляют пятном дугового разряда вдоль мишени-катода.2. Система по п. 1, в которой в экране сформировано единственное отверстие.3. Система по п. 1, в которой в экране сформировано множество отверстий.4. Система по п. 1, дополнительно содержащая дополнительный источник пара, располо�