Формула
1. Композиция для ухода за полостью рта, содержащая комплекс цинк-аминокислота-галогенид.
2. Композиция по п. 1, в которой комплекс цинк-аминокислота-галогенид образуется из предшественников.
3. Композиция по п. 2, в которой предшественники представляют собой источник ионов цинка, источник аминокислоты и источник галогенидов.
4. Композиция по п. 2 или 3, в которой источник галогенидов может быть частью источника ионов цинка, источника аминокислоты или галогенсодержащей кислоты.
5. Композиция по п. 3, в которой источник ионов цинка и источник аминокислоты образуют комплекс.
6. Композиция по п. 1, в которой аминокислота выбрана из лизина, глицина и аргинина в свободной форме или в форме орально приемлемой кислотно-аддитивной соли.
7. Композиция по п. 1, в которой аминокислота представляет собой основную аминокислоту в свободной форме или в форме орально приемлемой соли.
8. Композиция по п. 1, в которой количество цинка составляет 0,05-4% по массе.
9. Композиция по п. 1, в которой цинк растворяется в композиции, но при этом обеспечивается осаждение цинка при разбавлении 1:16 слюной и/или промывкой.
10. Композиция по п. 1, в которой источник ионов цинка и источник аминокислоты образуют комплекс цинк-лизин-хлорид или комплекс цинк-аргинин-хлорид.
11. Композиция по п. 1, в которой комплекс цинка с аминокислотой представляет собой комплекс цинк-лизин-хлорид, имеющий химическую структуру [Zn(C6H14N2O2)2Cl]+Cl-, или в растворе в виде катиона (например, [Zn(C6H14N2O2)2Cl]+) и аниона хлорида, или в форме твердой соли, необязательно в форме моно- или дигидрата.
12. Композиция по п. 1 в виде зубной пасты, геля, жидкости для полоскания рта, порошка, крема, полоски или жевательной резинки.
13. Композиция по п. 1 в орально приемлемой основе, например, основе жидкости для полоскания рта, геля или средства для ухода за зубами.
14. Композиция по п. 1, дополнительно содержащая эффективное количество источника фторид-ионов.
15. Композиция по п. 1, содержащая орально приемлемую основу, включающую ингредиенты, выбранные из одного или нескольких абразивных веществ, буферных веществ, увлажнителей, поверхностно-активных веществ, загустителей, жевательных полосок или фрагментов, освежителей для полости рта, придающих вкус веществ, ароматизирующих веществ, красящих веществ, антибактериальных веществ, отбеливающих веществ, веществ, которые препятствуют или предотвращают прикрепление бактерий, источников кальция, источников фосфата, орально приемлемых солей калия, анионных полимеров и их сочетаний.
16. Композиция по п. 1, в которой значение pH композиции находится в диапазоне от 6 до 8.
17. Композиция по любому из вышеуказанных пунктов, предназначенная для снижения и ослабления кислотной эрозии эмали зубов, чистки зубов, уменьшения биопленки, образуемой бактериями, и зубного налета, уменьшения воспаления десен, подавления развития кариеса и образования полостей и/или снижения повышенной чувствительности дентина.
18. Композиция для ухода за полостью рта, содержащая комплекс цинк-хлорид-лизин, имеющий химическую структуру [Zn(C6H14N2O2)2Cl]+Cl- или в растворе в виде катиона (например, [Zn(C6H14N2O2)2Cl]+) и аниона хлорида, или в форме твердой соли для применения для снижения и ослабления кислотной эрозии эмали зубов, чистки зубов, уменьшения биопленки, образуемой бактериями, и зубного налета, уменьшения воспаления десен, подавления развития кариеса и образования полостей, и/или снижения повышенной чувствительности дентина; необязательно в которой комплекс цинк-хлорид-лизин находится в форме моно- или дигидрата.
19. Применение комплекса цинк-аминокислота-галогенид для получения композиции для ухода за полостью рта.
20. Способ лечения или уменьшения эрозии зубной эмали, чистки зубов, уменьшения биопленки, образуемой бактериями, и зубного налета, снижения воспаления десен, ингибирования кариеса и образования полостей и/или уменьшения повышенной чувствительности дентина, включающий нанесение композиции по любому из пп. 1-18 на зубы.
Комментарии