Способ определения положения подложки в системе литографии, подложка для использования в таком способе и система литографии для выполнения такого способа - RU2015119644A

Реферат

1. Система для определения положения подложки в системе (1) литографии, содержащая:оптическую колонну (PO), выполненную с возможностью проецирования одного или более экспонирующих лучей на подложку (12, 513);первый чувствительный элемент (SS, 500) оптического совмещения, установленный на системе таким образом, что он имеет по существу постоянное расстояние от оптической колонны (PO), причем первый чувствительный элемент (SS, 500) оптического совмещения выполнен с возможностью испускания луча (511) света с предопределенной длиной волны на подложку (12, 513), а также с возможностью измерения профиля интенсивности луча (518) отраженного света нулевого порядка;луч света, фокусируемый в пятно, имеющее размер пятна на подложке;подложку содержащую оптическую отметку (SMRK, DMRK, 100) положения, имеющую высоту (MH) отметки, длину (ML) отметки и предопределенное известное положение на подложке (12, 513), оптическая отметка (100) положения проходит вдоль первого направления и выполнена с возможностью изменения коэффициента отражения отметки (SMRK, DMRK, 100) положения вдоль упомянутого первого направления, причем оптическая отметка положения содержит:- первую главную область (110), содержащую первую пару (105) областей;в которой первая пара (105) областей первой главной области (110) содержит:- первую область (101), имеющую первый коэффициент отражения и первую ширину (W);- вторую область (102), имеющую второй коэффициент отражения и вторую ширину (W), причем второй коэффициент отражения отличается от первого коэффициента отражения; при этом вторая область граничит с первой областью (101);в которой первая область (101) содержит субволновые структуры (SWS) по сравнению с предопределенной длиной волны испускаемоголуча света;в которой субволновые структуры (SWS)