Формула
1. Раствор для удаления отложений различной природы, содержащий, перекись водорода, комплексон, каликсарен и воду при следующем количественном соотношении, мас.%:
перекись водорода2-90
комплексон3-30
каликсарен0,01-10
водаостальное
2. Раствор по п. 1, дополнительно содержит органическую кислоту в количестве 3-30 мас.%.
3. Раствор по п. 1, дополнительно содержит стабилизатор разложения перекисных соединений в количестве 1-5 мас.%.
4. Раствор по п. 1, дополнительно содержит ПАВ в количестве 0,5-2,5 мас.%.
5. Раствор по п. 1, дополнительно содержит ингибитор в количестве 0,5-1,5 мас.%.
6. Раствор по п. 2, в котором в качестве органической кислоты используют уксусную кислоту, муравьиную кислоту, пропановую кислоту, бутановую кислоту, щавелевую кислоту, лимонную кислоту, сульфаминовую, адипиновую, винную, молочную, ангидриды указанных кислот или любую их возможную комбинацию.
7. Раствор по п. 1, в котором в качестве комплексона используют водорастворимые хелатирующие агенты, например, многоосновные органические кислоты, их натриевые соли и производные фосфористых кислот.
8. Раствор по п. 3, в котором в качестве стабилизатора разложения перекисных соединений используют гексаметафосфат натрия, фосфат калия, гидрофосфат натрия и дигидрофосфат натрия.
9. Раствор по п. 4, в котором в качестве ПАВ используют сульфонол, неонолом или их смесь.
10. Раствор по п. 9, в котором смесь сульфонола с неонолом используют предпочтительно в соотношении 2:1.
11. Концентрированный компонент для получения раствора по п. 1, содержащий комплексон и каликсарен в следующем соотношении, мас.%:
комплексон60-90
каликсарен10-40
12. Концентрированный компонент по п. 11, который дополнительно содержит ингибитор в количестве 5-15 мас.%.
13. Концентрированный компонент по п. 11, который дополнительно содержит органическую кислоту в количестве 10-85 мас.%.
14. Концентрированный компонент по п. 11, который дополнительно содержит стабилизатор разложения перекисных соединений в количестве 10-30 мас.%.
15. Концентрированный компонент по п. 11, который дополнительно содержит ПАВ в количестве 1-10 мас.%.
16. Способ приготовления раствора для очистки от отложений различной природы по любому из пп. 1-10, в котором концентрированный компонент по п. 11 смешивают с перекисью водорода и разбавляют водой.
17. Способ очистки поверхности раствором для очистки от отложений различной природы по любому из пп. 1-16, включающий стадию, на которой указанную поверхность вводят в контакт с указанным раствором.
18. Способ очистки по п. 17, в котором указанная поверхность представляет собой металлическую поверхность или неметаллическую поверхность.
19. Способ очистки поверхности от отложений различной природы, заключающийся в совмещении механического, химического и физико-химического воздействия на указанные отложения компонентов раствора для очистки, полученного взаимодействием концентрированного раствора, содержащего, по меньшей мере, комплексон и каликсарен, с перекисью водорода с последующим разбавлением водой, приводящем к интенсивному газообразованию на поверхности и внутри пор указанных отложений с формированием пузырьков радиусом от 1,3⋅10-6 м до 2⋅10-3м, поддерживающих в зоне локального разложения температуру до 150°C и давление от 0,1 до 15 МПа.
20. Способ очистки по п. 19, в котором указанная поверхность представляет собой металлическую поверхность или неметаллическую поверхность.