Формула
1. Система для контролируемой термической обработки мишени, содержащей целевой хромофор, погруженный в окружающую среду, при этом система содержит:
охлаждающее устройство, выполненное с возможностью применения охлаждения к поверхности окружающей среды;
световой источник, выполненный с возможностью передачи света в окружающую среду, мишень и целевой хромофор;
процессор, сообщающийся с охлаждающим устройством и световым источником и выполненный с возможностью управления охлаждающим устройством и световым источником; а также
память, в которой хранятся команды, которые при исполнении их процессором, заставляют процессор выполнять рутинную операцию по предварительному кондиционированию и рутинную операцию по фотообработке,
при этом процессор в ходе рутинной операции по предварительному кондиционированию управляет охлаждающим устройством и световым источником для создания термического градиента в окружающей среде, при этом термический градиент создает максимальную температуру на требуемой глубине под поверхностью окружающей среды, при этом требуемая глубина выбирается на основе сведений о глубине расположения мишени и целевого хромофора,
при этом процессор в ходе рутинной операции по фотообработке управляет световым источником для селективного нагрева целевого хромофора на величину, достаточную для превышения порога повреждения мишени на требуемой глубине, но не превышающую при этом порога повреждения окружающей среды на требуемой глубине.
2. Система по п.1, в которой световой источник выполнен с возможностью создания светового излучения, имеющего длину волны, настроенную на пиковое поглощение целевого хромофора.
3. Система по п.2, в которой рутинная операция по предварительному кондиционированию приводит к селективному нагреву целевого хромофора до температуры, превышающей температуру окружающей среды.
4. Система по любому из предшествующих пунктов, в которой световой источник выполнен с возможностью создания светового излучения, имеющего длину волны от 1000 нм до 1500 нм или от 1600 нм до 1800 нм, либо длину волны 1210 нм или 1726 нм.
5. Система по любому из предшествующих пунктов, в которой процессор в ходе рутинной операции по предварительному кондиционированию управляет охлаждающим устройством и световым источником, чтобы одновременно применять охлаждение охлаждающим устройством поверхности окружающей среды и передавать световое излучение от светового источника в окружающую среду, при этом процессор в ходе рутинной операции по фотообработке в качестве опции управляет охлаждающим устройством.
6. Способ контролируемой термической обработки мишени, содержащей целевой хромофор, погруженный в окружающую среду, при этом способ содержит следующие этапы:
a) создание с помощью охлаждающего устройства и светового источника термического градиента в окружающей среде путем применения охлаждения поверхности окружающей среды и передачи светового излучения в окружающую среду, мишень и целевой хромофор, при этом термический градиент создает максимальную температуру на требуемой глубине под поверхностью окружающей среды, при этом требуемая глубина выбирается на основе сведений о глубине расположения мишени и целевого хромофора; а также
b) селективный нагрев с помощью светового источника, выполняемый вслед за этапом a), целевого хромофора на величину, достаточную для превышения порога повреждения мишени на требуемой глубине, но не превышающую при этом порога повреждения окружающей среды на требуемой глубине.
7. Способ по п.6, в котором на этапе a) или этапе b) используется световое излучение от светового источника, имеющее длину волны, настроенную на пиковое поглощение целевого хромофора, при этом этап a) в качестве опции приводит к селективному нагреву целевого хромофора до температуры, превышающей температуру окружающей среды.
8. Способ по п.6 или 7, в котором на этапе a) или этапе b) используется световое излучение от светового источника, имеющее длину волны от 1000 нм до 1500 нм или от 1600 нм до 1800 нм, либо длину волны 1210 нм или 1726 нм.
9. Система или способ по любому из предшествующих пунктов, где световой источник представляет собой лазер.
10. Система или способ по любому из предшествующих пунктов, где световой источник выполнен с возможностью создания импульсного светового излучения в ходе рутинной операции по предварительному кондиционированию или рутинной операции по фотообработке, либо в ходе этапа a) или этапа b).
11. Система или способ по любому из предшествующих пунктов, где охлаждающее устройство содержит теплопроводный материал, соединенный с охлаждающим контуром.
12. Система или способ по любому из предшествующих пунктов, где требуемая глубина составляет от 1 мкм до 100 мм.
13. Система по любому из предшествующих пунктов, в которой целевой хромофор выбирается из группы, состоящей из кожного сала, меланина, гемоглобина, оксигемоглобина, восстановленного гемоглобина, воды, а также комбинаций таковых.
14. Система или способ по любому из предшествующих пунктов, где целевой хромофор представляет собой кожное сало, а мишень представляет собой сальную железу.
15. Система или способ по любому из предшествующих пунктов, где окружающая среда расположена на субъекте или в субъекте.