Формула
1. Устройство, содержащее:
аэродинамическую микроструктуру на наружной поверхности транспортного средства и
субмикроструктуры, наложенные на аэродинамическую микроструктуру и размещенные на расстоянии друг от друга, чтобы уменьшить отражения.
2. Устройство по п. 1, в котором расстояния между субмикроструктурами составляют приблизительно длину волны видимого света.
3. Устройство по п. 1 или 2, в котором аэродинамическая микроструктура содержит риблету воздушного летательного аппарата.
4. Устройство по п. 2, в котором риблета имеет относительно небольшие субмикроструктуры вблизи кончика риблеты и относительно увеличенные субмикроструктуры вблизи желоба риблеты.
5. Устройство по п. 1 или 2, в котором поверхности субмикроструктур покрыты отражающим покрытием.
6. Устройство по п. 1 или 2, в котором расстояния между субмикроструктурами меньше чем примерно 0,4 мкм.
7. Устройство по п. 1 или 2, в котором расстояния между субмикроструктурами составляют примерно между 0,4 мкм и 0,7 мкм.
8. Устройство по п. 1 или 2, дополнительно содержащее цветовой слой рядом с аэродинамической микроструктурой.
9. Способ, включающий этапы, согласно которым:
выполняют субмикроструктуры на аэродинамической микроструктуре и
размещают субмикроструктуры на расстоянии друг от друга, чтобы уменьшить отражения.
10. Способ по п. 9, согласно которому расстояния между субмикроструктурами составляют приблизительно длину волны видимого света.
11. Способ по п. 9 или 10, согласно которому выполнение субмикроструктур включает механическую обработку аэродинамической микроструктуры, литье или экструдирование субмикроструктур на аэродинамической микроструктуре.
12. Способ по п. 9 или 10, согласно которому выполнение субмикроструктур включает тиснение субмикроструктур на аэродинамической микроструктуре.
13. Способ по п. 9 или 10, согласно которому выполнение субмикроструктур включает механическую обработку или тиснение микроструктуры.
14. Способ по п. 9 или 10, дополнительно включающий выравнивание инструмента, чтобы выполнить субмикроструктуры на аэродинамической микроструктуре, при этом выполнение субмикроструктур осуществляют посредством указанного инструмента.
15. Способ по п. 9 или 10, согласно которому расстояния между субмикроструктурами составляют примерно между 0,4 мкм и 0,7 мкм.