Способ получения высокочистого, свободного от галогенов офталальдегида - RU2006122900A

Реферат

1. Способ получения высокочистого свободного от галогенов о-фталальдегида, который включает:

а) гидролиз тетрагало-о-ксилола при температуре 155-160°С и давлении от 2 до 5 бар, проходящий в присутствии катализатора межфазного переноса, до о-фталальдегида, который

b) превращают в кислом спиртовом растворе при температуре от 0°С до температуры кипения с обратным холодильником в соответствующий диалкоксифталан и, далее

с) ацеталь разлагают кислотным гидролизом при рН от >1,5 до рН 7, получая высокочистый, свободный от галогенов о-фталальдегид.

2. Способ по п.1, в котором стадию а) проводят в С₁-С₄ карбоновой кислоте в присутствии основания и воды.

3. Способ по п.2, в котором количество применяемой карбоновой кислоты больше, чем 4-20 мольных эквивалентов, исходя из тетрагало-о-ксилола.

4. Способ по п.1, в котором стадию b) проводят при pH от 0 до 3.

5. Способ по п.1, в котором стадию с) проводят при pH от 1,6 до 2,5.