Демпфирующее радиолокационное отражение остекление - RU2014128474A

Реферат

1. Демпфирующее радиолокационное отражение остекление, по меньшей мере, содержащее:- первый субстрат (1) и расположенный по площади над первым субстратом (1) второй субстрат (2),- первую отражающую радиолокационное излучение структуру (3) на внешней поверхности (I) или на внутренней поверхности (II) первого субстрата (1), и- вторую отражающую радиолокационное излучение структуру (4) на внутренней поверхности (III) или на внешней поверхности (IV) второго субстрата (2),причем первая отражающая радиолокационное излучение структура (3) является электропроводным покрытием (3'), в которое введены линейные области (5) с удаленным слоем.2. Остекление по п. 1, причем ширина линий областей (5) с удаленным слоем равна 1 мм или менее, предпочтительно равна 500 мкм или менее, особо предпочтительно равна 300 мкм или менее.3. Остекление по п. 1 или 2, причем общая площадь всех областей (5) с удаленным слоем составляет менее 5%, предпочтительно от 0,2% до 1%, площади электропроводного покрытия (3').4. Остекление по п. 1 или 2, причем области (5) с удаленным слоем выполнены в форме прямолинейных, непрерывных или прерывистых, расположенных параллельно друг другу полос, и причем расстояние между двумя соседними областями (5) с удаленным слоем составляет, предпочтительно, от 2 мм до 100 мм, особо предпочтительно от 20 мм до 40 мм.5. Остекление по п. 3, причем области (5) с удаленным слоем выполнены в форме прямолинейных, непрерывных или прерывистых, расположенных параллельно друг другу полос, и причем расстояние между двумя соседнимиобластями (5) с удаленным слоем составляет, предпочтительно, от 2 мм до 100 мм, особо предпочтительно от 20 мм до 40 мм.6. Остекление по п. 4, причем угол α между вектором напряженности электрического поля радиолокационного излучения и ориен