Формула
1. Способ инициации экзотермической реакции в реакционной камере, при этом реакционная камера содержит поглощающий водород материал, причем способ предусматривает:
введение газообразного водорода в камеру;
применение первого условия, при котором газообразным водородом насыщается поглощающий водород материал с первой скоростью насыщения водородом в течение первого периода времени;
применение второго условия, при котором газообразным водородом насыщается поглощающий водород материал со второй скоростью насыщения водородом в течение второго периода времени; и
инициацию экзотермической реакции в реакционной камере при втором условии;
причем вторая скорость насыщения водородом выше, чем первая скорость насыщения водородом.
2. Способ по п. 1, в котором применение первого условия предусматривает применение температуры T1 и давления P1.
3. Способ по п. 1, в котором реакционная камера также содержит электрод, и электрод покрыт поглощающим водород материалом, и при этом применение второго условия предусматривает применение высокой разности потенциалов между реакционной камерой и электродом.
4. Способ по п. 3, в котором высокая разность потенциалов находится в диапазоне от 3000 В до 6000 В.
5. Способ по п. 2, в котором применение второго условия предусматривает увеличение давления P1 в реакционной камере от вакуума до 100 фунтов/кв. дюйм.
6. Способ по п. 1, в котором стадия применения первого условия является необязательной.
7. Способ по п. 1, в котором первый коэффициент насыщения или второй коэффициент насыщения представляет локальный коэффициент насыщения.
8. Способ по п. 1, в котором первый коэффициент насыщения или второй коэффициент насыщения представляет средний коэффициент насыщения.
9. Устройство, сконструированное для инициации и поддержания экзотермической реакции, содержащее:
поглощающий водород материал и
одно или более входных отверстий для приема впуска газа и одного или более регулирующих устройств,
при этом газообразный водород подается в устройство через впуск газа, и
при этом одно или более регулирующих устройств сконструированы для применения первого условия, при котором газообразным водородом насыщается поглощающий водород материал при первом коэффициенте насыщения водородом в течение первого периода времени, и для применения второго условия, при котором газообразным водородом насыщается поглощающий водород материал при втором коэффициенте насыщения водородом в течение второго периода времени, причем второй коэффициент насыщения водородом выше, чем первый коэффициент насыщения водородом;
причем экзотермическая реакция инициируется при втором условии.
10. Устройство по п. 9, в котором первое условие включает температуру T1 и давление P1.
11. Устройство по п. 9, которое дополнительно содержит электрод, и электрод покрыт поглощающим водород материалом, причем второе условие включает высокую разность потенциалов между устройством и электродом.
12. Устройство по п. 11, в котором высокая разность потенциалов находится в диапазоне от 3000 В до 6000 В.
13. Устройство по п. 9, в котором второе условие содержит повышение давления P1 в реакционной камере от вакуума до 100 фунтов/кв. дюйм.
14. Устройство по п. 9, в котором стадия приложения первого условия является необязательной.
15. Устройство по п. 9, в котором первый коэффициент насыщения или второй коэффициент насыщения представляет локальный коэффициент насыщения.
16. Устройство по п. 9, в котором первый коэффициент насыщения или второй коэффициент насыщения представляет средний коэффициент насыщения.
17. Способ инициации экзотермической реакции в реакционной камере, при этом реакционная камера содержит поглощающий водород материал, причем способ предусматривает:
введение газообразного водорода в реакционную камеру;
применение условия, при котором газообразным водородом насыщают поглощающий водород материал для достижения высокой скорости насыщения водородом; и
инициацию экзотермической реакции в реакционной камере.