Композиции удаляемых гелевых аппликаций для ногтей и способ их применения - RU2012122608A

Реферат

1. Отверждаемая излучением гелевая композиция для нанесения покрытия на ногти, содержащая:от около 40 масс.% до около 60 масс.% от массы композиции для нанесения покрытия на ногти ди-(гидроксиэтилметакрилового)-триметилгексилдикарбамата;от около 3 масс.% до около 5 масс.% от массы композиции для нанесения покрытия на ногти по меньшей мере одного сложного эфира метакриловой кислоты;от около 3 масс.% до около 6 масс.% от массы композиции для нанесения покрытия на ногти гидроксиэтилметакрилата;от около 3 масс.% до около 6 масс.% от массы композиции для нанесения покрытия на ногти гидроксипропилметакрилата;от около 0,1 масс.% до около 0,4 масс.% от массы композиции для нанесения покрытия на ногти фотоинициатора; и краску для дизайна ногтей.2. Отверждаемая излучением гелевая композиция для нанесения покрытия на ногти, содержащая:от около 40 масс.% до около 60 масс.% от массы композиции для нанесения покрытия на ногти ди-(гидроксиэтилметакрилового)-триметилгексилдикарбамата;от около 3 масс.% до около 6 масс.% от массы композиции для нанесения покрытия на ногти сложного эфира метакриловой кислоты;от около 2 масс.% до около 6 масс.% от массы композиции для нанесения покрытия на ногти гидроксиэтилметакрилата;от около 2 масс.% до около 6 масс.% от массы композиции для нанесения покрытия на ногти гидроксипропилметакрилата;от около 0,1 масс.% до около 1 масс.% от массы композиции для нанесения покрытия на ногти фотоинициатора; иот около 25 до около 40 масс.% от массы композиции для нанесения покрытия на ногти краски для дизайна ногтей.3. Отверждаемая излучением гелевая композиция для нанесения покрытия на ногти по п.2, отличающаяся тем, что краска для ди�