Формирование метки на драгоценном камне или промышленном алмазе - RU2003127843A

Реферат

1. Способ формирования метки на драгоценном камне или промышленном алмазе, который включает в себя проецирование экспонирующего излучения на драгоценный камень или алмаз для формирования изображения на нем, получаемого экспонированием, при этом способ также включает в себя размещение, ориентирование и/или фокусировку изображения, получаемого экспонированием, путем проецирования на драгоценный камень или алмаз настроечного излучения, отличающегося от экспонирующего излучения, для формирования настроечного изображения на драгоценном камне или алмазе, причем настроечное излучение не оказывает такого воздействия на драгоценный камень или алмаз, которое вызывает или вызовет образование метки; настроечное изображение на драгоценном камне или алмазе считывают вне оптического пути, по которому проходит настроечное излучение перед тем, как оно достигнет драгоценного камня или алмаза, и регулируют местоположение, ориентацию и/или фокус настроечного изображения на драгоценном камне или алмазе, чтобы тем самым отрегулировать местоположение, ориентацию и/или фокус изображения, получаемого экспонированием.

2. Способ по п.1, в котором настроечное изображение проецируют через объектив или систему линз и считывают посредством объектива или системы линз.

3. Способ по п.1 или 2, в котором настроечное и экспонирующее излучения имеют разные длины волн.

4. Способ по пп.2 и 3, в котором объектив или систему линз подвергают коррекции для настроечного излучения и для экспонирующего излучения.

5. Способ по п.1 или 2, в котором настроечное и экспонирующее излучения имеют одинаковые длины волн или полосу длин волн, но настроечное излучение имеет меньшую интенсивность по сравнению с экспонирующим излучением.

6. Способ по любому из предшествующих пунктов, в котором метку формируют с помощью литографии, и фоторезист наносят ранее на драгоценный камень или промышленный алмаз, при этом резист является нечувствительным к указанному настроечному излучению.

7. Способ по любому из предшествующих пунктов, в котором настроечное излучение находится в видимом диапазоне спектра.

8. Способ по п.7, в котором настроечное изображение наблюдают визуально.

9. Способ по любому из пп.1-7, в котором настроечное изображение считывается электронным детектором изображений.

10. Способ по любому из предшествующих пунктов, в котором настроечное изображение формируют путем проецирования настроечного излучения через шаблон, и изображение, получаемое экспонированием, формируют путем проецирования экспонирующего излучения через шаблон.

11. Способ по п.10, в котором шаблон для настройки является, по меньшей мере, частично таким же, как шаблон для экспонирования, при этом как настроечное излучение, так и экспонирующее излучение проецируют через шаблон, и оптическую систему подвергают коррекции для настроечного излучения и для экспонирующего излучения.

12. Способ по любому из предшествующих пунктов, в котором шаблоны для настройки и для экспонирования образуют путем выполнения шаблона, содержащего, по меньшей мере, одну зону для настройки, которая является непроницаемой для экспонирующего излучения, но проницаемой для настроечного излучения, и, по меньшей мере, одну зону для экспонирования, которая является проницаемой для экспонирующего излучения, при этом зона для настройки образует некоторую конфигурацию для размещения, ориентирования и/или фокусировки изображения, получаемого экспонированием, на драгоценном камне или алмазе, при этом способ включает в себя проецирование настроечного излучения через шаблон для формирования настроечного изображения на драгоценном камне или алмазе, размещение, ориентирование и/или фокусировку указанного настроечного изображения на драгоценном камне или алмазе и проецирование экспонирующего излучения через шаблон для формирования изображения, получаемого экспонированием, на драгоценном камне или алмазе, и формирование в результате этого указанной метки на драгоценном камне или алмазе.

13. Способ по п.12, в котором зона для экспонирования образует некоторую конфигурацию, соответствующую конфигурации метки, подлежащей формированию.

14. Способ по п.12, в котором зона для экспонирования представляет собой относительно большую зону, проницаемую для экспонирующего излучения, при этом экспонирующее излучение сканируют.

15. Способ по любому из пп.1-13, в котором изображение, получаемое экспонированием, формируют путем проецирования экспонирующего излучения через шаблон с существенным уменьшением.

16. Способ по п.15, в котором линейный размер изображения, получаемого экспонированием, составляет не более приблизительно одной десятой линейного размера шаблона.

17. Способ по любому из предшествующих пунктов, в котором изображение, получаемое экспонированием, формируют путем проецирования экспонирующего излучения через шаблон, при этом шаблон содержит, по меньшей мере, некоторую зону, образованную отдельными элементами изображения, при этом действие шаблона указанных отдельных элементов изображения можно изменять по желанию, в результате чего следующие один за другим драгоценные камни или алмазы могут иметь различные изображения, полученные экспонированием и спроецированные на них.

18. Способ по любому из предшествующих пунктов, в котором настроечное и экспонирующее излучения проецируют через расщепитель лучей, и настроечное изображение видят через расщепитель лучей.

19. Способ формирования метки на алмазе, представляющем собой драгоценный камень, который включает в себя проецирование экспонирующего излучения через шаблон на алмаз для формирования на нем изображения, получаемого экспонированием, при этом шаблон содержит, по меньшей мере, некоторую зону, образованную отдельными элементами изображения, действие шаблона указанных отдельных элементов изображения можно изменять по желанию, в результате чего следующие один за другим алмазы могут иметь различные изображения, полученные экспонированием и спроецированные на них.

20. Способ по п.19, в котором шаблон содержит жидкокристаллические световые клапаны.

21. Способ по п.19, в котором шаблон содержит решетку микроотражателей.

22. Устройство, предназначенное для использования при формировании метки на драгоценном камне или алмазе путем применения экспонирующего излучения, содержащее

оптическую систему для проецирования изображения на драгоценный камень или алмаз,

устройства для проецирования экспонирующего излучения для формирования изображения, получаемого экспонированием, на драгоценном камне или алмазе,

устройства для проецирования настроечного излучения для формирования настроечного изображения на драгоценном камне или алмазе, причем настроечное излучение не оказывает такого воздействия на указанную поверхность, которое вызывает или вызовет образование метки,

устройства для считывания настроечного изображения, которые находятся вне оптического пути, по которому проходит настроечное излучение перед тем, как оно достигнет драгоценного камня или алмаза, и

устройства для регулирования местоположения, ориентации и/или фокуса настроечного изображения на драгоценном камне или алмазе, чтобы тем самым отрегулировать местоположение, ориентацию и/или фокус изображения, получаемого экспонированием, на драгоценном камне или алмазе.

23. Устройство по п.22, в котором настроечное изображение проецируется через объектив или систему линз и считывается посредством объектива или системы линз.

24. Устройство по п.22 или 23, в котором настроечное и экспонирующее излучения имеют разные длины волн.

25. Устройство по пп.23 и 24, в котором объектив или система линз подвергнута коррекции как для настроечного излучения, так и для экспонирующего излучения.

26. Устройство по п.22 или 23, в котором настроечное и экспонирующее излучения имеют одинаковую длину волны или полосу длин волн, но настроечное излучение имеет меньшую интенсивность по сравнению с экспонирующим излучением.

27. Устройство по любому из пп.22-26, в котором указанное настроечное излучение находится в видимом диапазоне спектра.

28. Устройство по п.27, в котором настроечное изображение можно наблюдать визуально для регулировки на глаз местоположения, ориентации и/или фокуса настроечного изображения на драгоценном камне или алмазе.

29. Устройство по п.28, которое содержит увеличительное средство для визуального контроля настроечного изображения.

30. Устройство по любому из пп.22-27, которое содержит электронный детектор изображений, предназначенный для обнаружения настроечной метки, для последующей выдачи сигнала для регулировки местоположения и/или фокуса настроечного изображения на драгоценном камне или алмазе.

31. Устройство по любому из пп.22-29, которое содержит средства для удерживания шаблона, при этом оптическая система предназначена для проецирования изображения шаблона на драгоценный камень или алмаз.

32. Устройство по п.31, в котором оптическая система проецирует изображение метки с существенным уменьшением.

33. Устройство по п.32, в котором линейный размер изображения, получаемого экспонированием, составляет не более приблизительно одной десятой линейного размера шаблона.

34. Устройство по любому из пп.31-33, в котором шаблон содержит, по меньшей мере, некоторую зону, образованную отдельными элементами изображения, при этом действие шаблона указанных отдельных элементов изображения можно изменять по желанию, в результате чего следующие один за другим драгоценные камни или алмазы могут иметь различные изображения, полученные экспонированием и спроецированные на них.

35. Устройство, предназначенное для использования при формировании метки на алмазе, представляющем собой драгоценный камень, путем использования экспонирующего излучения, содержащее

шаблон, содержащий, по меньшей мере, некоторую зону, образованную отдельными элементами изображения, при этом действие шаблона указанных отдельных элементов изображения можно изменять по желанию, и

оптическую систему для проецирования изображения шаблона на алмаз для формирования на нем изображения, получаемого экспонированием, в результате чего следующие один за другим алмазы могут иметь различные изображения, полученные экспонированием и спроецированные на них.

36. Устройство по п.35, в котором шаблон содержит жидкокристаллические световые клапаны.

37. Устройство по п.35, в котором шаблон содержит решетку микроотражателей.

38. Драгоценный камень или промышленный алмаз, на котором была образована метка с помощью способа по любому из пп.1-21 и 38.