Маски для лица, содержащие состав против отпотевания (бликоподавляющий) - RU2006121331A

Реферат

1. Маска для лица, включающая в себя подложку, в которой покрытие присутствует, по крайней мере, на одной поверхности указанной подложки, которая включает в себя один или несколько органических полимеров в качестве основного компонента.

2. Маска для лица по п.1, в которой указанная подложка является прозрачной.

3. Маска для лица по п.1, в которой указанный один или несколько органических полимеров составляют, по меньшей мере, примерно 50 мас.% указанного покрытия, предпочтительно, по меньшей мере, примерно 75 мас.% указанного покрытия, и, предпочтительно, по меньшей мере, примерно 90 мас.% указанного покрытия.

4. Маска для лица по п.1, в которой указанное покрытие имеет толщину от примерно 50 до примерно 250 нанометров.

5. Маска для лица по п.1, в которой указанный один или несколько органических полимеров включают в себя полисахарид или его производную.

6. Маска для лица по п.1, в которой указанный один или несколько органических полимеров включают в себя полиглюкозамин или его производную.

7. Маска для лица по п.1, в которой указанный один или несколько органических полимеров включают в себя хитозан или производную хитозана.

8. Маска для лица по п.1, в которой указанный один или несколько органических полимеров включают в себя эфир целлюлозы.

9. Маска для лица по п.8, в которой указанный простой эфир целлюлозы является неионогенным.

10. Маска для лица по п.9, в которой указанный неионогенный эфир целлюлозы выбран из группы, состоящей из эфиров алкилцеллюлозы, эфиров гидроксиалкилцеллюлозы, эфиров алкилгидроксиалкилцеллюлозы и их комбинации.

11. Маска для лица по п.9, в которой указанный неионогенный эфир целлюлозы включает в себя эфир алкилгидроксиалкилцеллюлозы.

12. Маска для лица по п.9, в которой указанный неионогенный эфир целлюлозы включает в себя этилгидроксиэтилцеллюлозу.

13. Маска для лица по п.8, в которой указанный эфир целлюлозы является катионным.

14. Маска для лица по п.8, в которой указанный эфир целлюлозы является модифицированным четвертичной аммониевой группой.

15. Маска для лица по п.1, в которой указанное покрытие включает в себя, по крайней мере, один органический полимер с показателем преломления от 1,0 до 1,7, предпочтительно от 1,2 до 1,4, и, предпочтительно, от 1,25 до 1,36.

16. Маска для лица по п.1, в которой указанное покрытие включает в себя менее примерно 10 мас.% поверхностно-активных веществ, и, предпочтительно, менее примерно 1 мас.% поверхностно-активных веществ.

17. Маска для лица по п.1, в которой указанная подложка с покрытием показывает пропускание нормально падающего света больше примерно 3%, предпочтительно больше примерно 5%, и, предпочтительно, больше примерно 8% при сравнении с подложкой без покрытия.

18. Маска для лица по п.1, в которой мутность указанной подложки с покрытием при вычитании мутности подложки без покрытия составляет менее 0%.

19. Маска для лица по п.1, в которой указанная подложка с покрытием образует козырек или щиток маски для лица.

20. Способ формирования маски для лица, которая включает в себя прозрачную подложку, указанный способ включает в себя

нанесение водного состава, по крайней мере, на одну поверхность прозрачной подложки, указанный водный состав включает в себя смесь воды и одного или нескольких водорастворимых органических полимеров;

сушку указанного водного состава с образованием покрытия на указанной прозрачной подложке, в котором указанный один или несколько водорастворимых органических полимеров составляет основной компонент указанного покрытия.

21. Способ по п.20, в котором указанный один или несколько органических полимеров составляют, по меньшей мере, примерно 50 мас.% указанного покрытия, предпочтительно, по меньшей мере, примерно 75 мас.% указанного покрытия, и, предпочтительно, по меньшей мере, примерно 90 мас.% указанного покрытия.

22. Способ по п.20, в котором указанное покрытие имеет толщину от примерно 50 до примерно 250 нанометров.

23. Способ по п.20, в котором указанный один или несколько органических полимеров включают в себя полисахарид или его производную.

24. Способ по п.20, в котором указанный один или несколько органических полимеров включают в себя полиглюкозамин или его производную.

25. Способ по п.20, в котором указанный один или несколько органических полимеров включают в себя хитозан или производную хитозана.

26. Способ по п.20, в котором указанный один или несколько органических полимеров включают в себя эфир целлюлозы.

27. Способ по п.26, в котором указанный простой эфир целлюлозы является неионогенным.

28. Способ по п.27, в котором указанный неионогенный эфир целлюлозы выбран из группы, состоящей из эфиров алкилцеллюлозы, эфиров гидроксиалкилцеллюлозы, эфиров алкилгидроксиалкилцеллюлозы и их комбинации.

29. Способ по п.27, в котором указанный неионогенный эфир целлюлозы включает в себя эфир алкилгидроксиалкилцеллюлозы.

30. Способ по п.27, в котором указанный неионогенный эфир целлюлозы включает в себя этилгидроксиэтилцеллюлозу.

31. Способ по п.26, в котором указанный эфир целлюлозы является катионным.

32. Способ по п.26, в котором указанный эфир целлюлозы является модифицированным четвертичной аммониевой группой.

33. Способ по п.20, в котором указанное покрытие включает в себя, по крайней мере, один органический полимер с показателем преломления от 1,0 до 1,7, предпочтительно от 1,2 до 1,4, и, предпочтительно, от 1,25 до 1,36.

34. Способ по п.20, в котором указанное покрытие включает в себя менее примерно 10 мас.% поверхностно-активных веществ, и, предпочтительно, менее примерно 1 мас.% поверхностно-активных веществ.

35. Способ по п.20, в котором указанная подложка с покрытием показывает пропускание нормально падающего света больше примерно 3%, предпочтительно больше примерно 5%, и, предпочтительно, больше примерно 8% при сравнении с подложкой без покрытия.

36. Способ по п.20, в котором мутность указанной подложки с покрытием при вычитании мутности подложки без покрытия составляет менее 0%.

37. Способ по п.20, в котором указанная подложка с покрытием образует козырек или щиток маски для лица.