Способ получения остекления, снабженного многослойным покрытием - RU2005100958A

Реферат

1. Способ получения остекления, снабженного многослойным покрытием, причем указанное многослойное покрытие наносят на стеклянный субстрат катодным распылением при пониженном давлении, отличающийся тем, что, по меньшей мере, первый прозрачный диэлектрический слой наносят на субстрат с последующим нанесением функционального слоя на основе материала, отражающего инфракрасное излучение, и тем, что в атмосфере, содержащей, максимум, 20% кислорода, наносят на указанный функциональный слой первый защитный слой с геометрической толщиной, максимум, 3 нм, состоящий из материала, отличие электроотрицательности которого от кислорода составляет менее 1,9 и величина электроотрицательности которого меньше, чем таковая указанного материала, отражающего инфракрасное излучение, с последующим нанесением в атмосфере, содержащей, максимум, 50% кислорода, второго защитного слоя с геометрической толщиной, максимум, 7 нм, состоящего из материала, отличие электроотрицательности которого от кислорода составляет более 1,4, и тем, что затем наносят, по меньшей мере, второй прозрачный диэлектрический слой.

2. Способ по п.1, отличающийся тем, что первый защитный слой состоит из материала, электроотрицательность которого отличается от кислорода на менее чем на 1,8 и, предпочтительно, менее чем 1,7.

3. Способ по п.1, отличающийся тем, что второй защитный слой состоит из материала, отличие электроотрицательности которого от кислорода составляет более 1,6 и, предпочтительно, более 1,8.

4. Способ по п.1, отличающийся тем, что величина электроотрицательности материала первого защитного слоя, по меньшей мере, на 0,05 меньше таковой у материала, отражающего инфракрасное излучение.

5. Способ по п.1, отличающийся тем, что материал второго защитного слоя имеет более низкую величину электроотрицательности, чем величина электроотрицательности у материала первого защитного слоя.

6. Способ по п.5, отличающийся тем, что материал второго защитного слоя имеет величину электроотрицательности на, по меньшей мере, 0,1, предпочтительно, по меньшей мере, 0,2, меньше, чем величина электроотрицательности материала первого защитного слоя.

7. Способ по п.1, отличающийся тем, что первый защитный слой является слоем на основе сплава NiCr, и предпочтительно, на основе сплаве NiCr 80/20.

8. Способ по п.1, отличающийся тем, что материал второго защитного слоя выбирают из титана, алюминия или тантала, и предпочтительно, он представляет собой титан.

9. Способ по 1, отличающийся тем, что первый защитный слой наносят с толщиной в интервале между 0,5 и 2,5 нм, предпочтительно, 0,5 и 2 нм, и более предпочтительно, между 0,6 и 1,5 нм.

10. Способ по п.1, отличающийся тем, что второй защитный слой наносят с толщиной в интервале между 2 и 6 нм.

11. Способ по п.1, отличающийся тем, что наносят, по меньшей мере, два функциональных слоя на основе материала, отражающего инфракрасное излучение, за каждым следует нанесение первого и второго защитных слоев, и что, по меньшей мере, один промежуточный диэлектрический слой наносят между указанными функциональными слоями.

12. Способ по любому из пп.1-11, отличающийся тем, что наносят конечный защитный слой на основе титана, чтобы завершить многослойное покрытие.

13. Способ получения изогнутого или закаленного остекления, снабженного многослойным покрытием, отличающийся тем, что субстрат с покрытием, полученный способом по любому из пп.1-12, затем подвергают операции гнутья или закалки.

14. Остекление, снабженное многослойным покрытием, отличающееся тем, что оно включает стеклянный субстрат, на который наносят, по меньшей мере, один функциональный слой на основе материала, отражающего инфракрасное излучение, причем функциональный слой или, по меньшей мере, один из функциональных слоев заключают в, по меньшей мере, один прозрачный диэлектрический слой, и тем что на его стороне, противоположной субстрату и непосредственно в контакте с ним, указанный функциональный слой покрывают первым защитным слоем с геометрической толщиной, максимум, 3 нм, состоящим из материала на основе металла или полуметалла в виде металла, в азотированной форме или в форме субоксида, отличие электроотрицательности которого от кислорода составляет менее 1,9, и величина электроотрицательности которого составляет меньше, чем таковая у материала, отражающего инфракрасного излучение, с последующим нанесением второго защитного слоя с геометрической толщиной, максимум, 7 нм, состоящего из материала на основе металла или полуметалла в по существу полностью окисленной форме, отличие электроотрицательности которого от кислорода составляет более 1,4, и который отличается от материала прозрачного диэлектрического слоя, непосредственно примыкающего к нему.

15. Остекление по п.14, отличающееся тем, что первый, либо, по меньшей мере, один из первых защитных слоев состоит/состоят из материала, отличие электроотрицательности которого от кислорода составляет менее 1,8 и, предпочтительно, менее 1,7.

16. Остекление по п.14, отличающееся тем, что второй, либо, по меньшей мере, один из вторых защитных слоев состоит/состоят из материала, отличие электроотрицательности которого от кислорода составляет более 1,6, и предпочтительно, более 1,8.

17. Остекление по п.14, отличающееся тем, что величина электроотрицательности материала первого или, по меньшей мере, одного из первых защитных слоев, по меньшей мере, на 0,05 меньше, чем таковая у материала, отражающего инфракрасное излучение, примыкающего к нему.

18. Остекление по п.14, отличающееся тем, что материал второго или, по меньшей мере, одного из вторых защитных слоев имеет более низкую величину электроотрицательности, чем величина электроотрицательности материала первого защитного слоя, примыкающего к нему.

19. Остекление по п.18, отличающееся тем, что материал второго или, по меньшей мере, одного из вторых защитных слоев имеет величину электроотрицательности, по меньшей мере, на 0,1, и, предпочтительно, по меньшей мере, на 0,2, меньше, чем величина электроотрицательности материала первого защитного слоя, примыкающего к нему.

20. Остекление по любому из пп.14-19, отличающееся тем, что функциональный слой или, по меньшей мере, один из функциональных слоев состоит/состоят из материала на основе Ag, и что указанный первый защитный слой или слои состоит/состоят из материала на основе сплава Ni и Cr, и указанный второй защитный слой или слои сформирован/сформированы из оксида титана.

21. Изогнутое или закаленное остекление, снабженное многослойным покрытием, отличающееся тем, что оно включает стеклянный субстрат, на который наносят, по меньшей мере, один функциональный слой на основе материала, отражающего инфракрасное излучение, причем функциональный слой или, по меньшей мере, один из функциональных слоев заключен в, по меньшей мере, один прозрачный диэлектрический слой, и тем что на его стороне, противоположной субстрату, и непосредственно в контакте с ним указанный функциональный слой покрыт первым защитным слоем с геометрической толщиной, максимум, 3 нм, состоящим из материала на основе металла или полуметалла в окисленной форме или форме субоксида, отличие электроотрицательности которого от кислорода составляет менее 1,9, с последующим нанесением второго защитного слоя с геометрической толщиной, максимум, 7 нм, состоящего из материала на основе металла или полуметалла в по существу полностью окисленной форме, отличие электроотрицательности которого от кислорода составляет более 1,4, и который отличается от материала прозрачного диэлектрического слоя, непосредственно примыкающего к нему.

22. Остекление по п.21, отличающееся тем, что первый или, по меньшей мере, один из первых защитных слоев состоит/состоят из материала, отличие электроотрицательности которого от кислорода составляет менее 1,8, и, предпочтительно, менее 1,7.

23. Остекление по п.21, отличающееся тем, что второй или, по меньшей мере, один из вторых защитных слоев состоит/состоят из материала, отличие электроотрицательности которого от кислорода составляет более 1,6, и, предпочтительно, более 1,8.

24. Остекление по п.21, отличающееся тем, что величина электроотрицательности материала первого или, по меньшей мере, одного из первых защитных слоев меньше таковой материала, отражающего инфракрасное излучение, примыкающего к нему, и, предпочтительно, на, по меньшей мере, 0,05.

25. Остекление по п.21, отличающееся тем, что материал второго или, по меньшей мере, одного из вторых защитных слоев имеет более низкую величину электроотрицательности, чем величина электроотрицательности материала первого защитного слоя, примыкающего к нему.

26. Остекление по п.25, отличающееся тем, что материал второго или, по меньшей мере, одного из вторых защитных слоев имеет величину электроотрицательности, по меньшей мере, на 0,1, и, предпочтительно, по меньшей мере, на 0,2 меньше, чем величина электроотрицательности материала первого защитного слоя, примыкающего к нему.

27. Остекление по любому из пп.21-26, отличающееся тем, что функциональный слой изготовлен на основе Ag, и что указанный первый защитный слой или слои состоит/состоят из материала на основе сплава Ni и Cr, и указанный второй защитный слой или слои сформирован/сформированы из оксида титана, и что, по меньшей мере, один из диэлектрических слоев содержит оксид на основе цинка, предпочтительно, оксид на основе сплава цинка и олова.

28. Остекление, снабженное многослойным покрытием, отличающееся тем, что оно включает стеклянный субстрат, на который наносят последовательно, по меньшей мере, первый прозрачный диэлектрический слой, функциональный слой на основе серебра, первый защитный слой на основе сплава никеля в виде металла, в азотированной, окисленной форме или форме субоксида непосредственно в контакте с функциональным слоем, второй защитный слой на основе оксида титана, нанесенный на первый защитный слой в контакте с ним, и второй прозрачный диэлектрический слой, состоящий из материала, отличающегося от материала второго защитного слоя, непосредственно примыкающего к нему.