Формула
1. Материал, содержащий прозрачную основу, покрытую пакетом тонких слоев, содержащих по меньшей мере одно функциональное покрытие, содержащее:
- по меньшей мере один металлический функциональный слой на основе серебра, имеющий толщину между 2 и 15 нм,
- необязательно по меньшей мере один блокирующий слой, выбранный из металлических слоев, слоев нитрида металла, слоев оксида металла и слоев оксинитрида металла из одного или нескольких элементов, выбранных из титана, никеля, хрома и тантала, таких как Ti, TiN, TiOx, Ta, TaN, Ni, NiN, Cr, CrN, NiCr или NiCrN,
- по меньшей мере один функциональный металлический или нитридный слой на основе ниобия, который расположен:
- в контакте с по меньшей мере частью функционального слоя на основе серебра, или
- отделен от по меньшей мере части функционального слоя на основе серебра посредством одного или нескольких слоев, выбранных из блокирующих слоев, суммарная толщина которых составляет менее чем 5 нм,
- предпочтительно, каждый металлический слой на основе серебра расположен в контакте и между одним или несколькими функциональными металлическими или нитридными слоями на основе ниобия и/или одним или несколькими блокирующими слоями,
- суммарная толщина функционального слоя или слоев на основе ниобия, расположенных в непосредственном контакте или отделенных на расстояние менее чем 5 нм от по меньшей мере части функционального слоя на основе серебра, находится между 4 и 20 нм.
2. Материал по п. 1, отличающийся тем, что функциональное покрытие содержит по меньшей мере один функциональный слой на основе ниобия, расположенный выше по меньшей мере части функционального слоя на основе серебра и имеющий толщину между 2 и 10 нм.
3. Материал по любому одному из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что функциональное покрытие содержит по меньшей мере один ниобиевый слой, расположенный ниже по меньшей мере части функционального слоя на основе серебра и имеющий толщину между 1 и 10 нм.
4. Материал по любому одному из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что функциональное покрытие содержит блокирующий слой, расположенный ниже и/или выше металлического функционального слоя на основе серебра.
5. Материал по любому одному из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что толщина блокирующего слоя составляет по меньшей мере 0,2 нм и самое большее 5,0 нм.
6. Материал по одному из предшествующих пунктов, в котором функциональное покрытие имеет толщину между 5 и 20 нм.
7. Материал по любому одному из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что пакет тонких слоев содержит по меньшей мере одно функциональное покрытие и по меньшей мере два диэлектрических покрытия, содержащих по меньшей мере один диэлектрический слой, так что каждое функциональное покрытие расположено между двумя диэлектрическими покрытиями.
8. Материал по любому одному из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что пакет тонких слоев содержит лишь одно функциональное покрытие.
9. Материал по любому одному из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что пакет тонких слоев содержит по меньшей мере одно диэлектрическое покрытие, содержащее по меньшей мере один диэлектрический слой, состоящий из нитрида или оксинитрида алюминия и/или кремния или смешанного оксида цинка-олова, предпочтительно толщиной между 20 и 70 нм.
10. Материал по любому одному из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что диэлектрическое покрытие или покрытия, расположенные ниже функционального покрытия, содержат лишь один слой, состоящий из нитрида или оксинитрида алюминия и/или кремния, толщиной между 30 и 70 нм, предпочтительно слой, состоящий из нитрида кремния, необязательно дополнительно содержащий алюминий.
11. Материал по любому одному из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что диэлектрическое покрытие или покрытия, расположенные выше функционального покрытия, содержат:
- по меньшей мере слой, состоящий из нитрида или оксинитрида алюминия и/или кремния, толщиной между 30 и 60 нм, предпочтительно слой, состоящий из нитрида кремния, необязательно дополнительно содержащий алюминий,
- необязательно по меньшей мере один защитный слой толщиной между 2 и 10 нм.
12. Материал по любому одному из предшествующих пунктов, такой, что прозрачная основа:
- изготовлена из стекла, в частности, из натриево-кальциево-силикатного стекла, или
- изготовлена из полимера, в частности, из полиэтилена, полиэтилентерефталата или полиэтиленнафталата.
13. Способ изготовления материала, содержащего прозрачную основу, покрытую пакетом тонких слоев, осажденных посредством катодного напыления, необязательно катодным напылением с применением магнитного поля, при этом данный способ включает последовательность следующих стадий:
- по меньшей мере одно функциональное покрытие, содержащее по меньшей мере один функциональный слой на основе серебра, имеющий толщину между 2 и 10 нм, и по меньшей мере один функциональный слой на основе ниобия, имеющий толщину между 2 и 10 нм, расположенный ниже и/или выше и в контакте с по меньшей мере частью функционального слоя на основе серебра, осаждают на прозрачную основу, после чего
- покрытие на основе диэлектрических материалов осаждают поверх функционального слоя,
- основу, покрытую таким образом, подвергают термообработке.
14. Оконное стекло, содержащее по меньшей мере один материал по одному из пп. 1-12.
15. Оконное стекло по предшествующему пункту, отличающееся тем, что оно находится в виде монолитного, ламинированного или многослойного оконного стекла, в частности, в виде двойного оконного стекла или тройного оконного стекла.