Нестехиометрическая керамическая мишень из niox - RU2004126704A

Реферат

1. В основном керамическая мишень для распылительной установки, главным образом для магнетронного распыления, преимущественно состоящая из оксида никеля, отличающаяся тем, что оксид никеля является дефицитным по кислороду по сравнению со стехиометрическим составом.

2. Мишень по п.1, отличающаяся тем, что стехиометрический дефицит создается за счет состава однородной смеси, образованной порошками оксида никеля и порошками никеля.

3. Мишень по п.1 или 2, отличающаяся тем, что величина х строго меньше, чем 1.

4. Мишень по п.1 или 2, отличающаяся тем, что мишень имеет электрическое сопротивление меньше, чем 10 Ом·см, предпочтительно меньше, чем 1 Ом·см и, еще более предпочтительно меньше, чем 0,1 Ом·см.

5. Мишень по п.1 или 2, отличающаяся тем, что оксид никеля легируют примесным элементом.

6. Мишень по п.5, отличающаяся тем, что атомный процент примесного элемента, рассчитанный по отношению к никелю, составляет менее чем 50% предпочтительно менее чем 30% и, еще более предпочтительно менее чем 20%.

7. Мишень по п.1 или 2, отличающаяся тем, что примесный элемент представляет собой элемент, оксид которого является электроактивным веществом при анодном окрашивании.

8. Мишень по п.7, отличающаяся тем, что примесный элемент выбирают из Co, Ir, Ru и Rh.

9. Мишень по п.1 или 2, отличающаяся тем, что примесный элемент представляет собой элемент, оксид которого является электроактивным веществом при катодном окрашивании.

10. Мишень по п.9, отличающаяся тем, что примесный элемент выбирают из Mo, W, Re, Sn, In и Bi или смеси указанных элементов.

11. Мишень по п.1 или 2, отличающаяся тем, что примесный элемент выбирают из элементов, относящихся к первой группе Периодической таблицы элементов.

12. Мишень по п.11, отличающаяся тем, что примесный элемент выбирают из H, Li, K и Na.

13. Мишень по п.1 или 2, отличающаяся тем, что примесный элемент представляет собой металл, или щелочную землю, или полупроводник, гидратированный или гидроксилированный оксид которого обладает протонной проводимостью.

14. Мишень по п.13, отличающаяся тем, что примесный элемент выбирают из Ta, Zn, Zr, Al, Si, Sb, U, Be, Mg, Ca, V и Y или смеси указанных элементов.

15. Способ получения тонкого слоя на основе оксида никеля путем магнетронного распыления, отличающийся тем, что в нем используют керамическую мишень по любому из пп.1-14.

16. Применение способа по п.15 для получения электрохимического вещества, обладающего способностью к анодному окрашиванию, в виде тонкого слоя на основе оксида никеля.

17. Электрохимическое устройство, включающее, по меньшей мере, одну подложку, на которой сформирован блок функциональных слоев, включающих, по меньшей мере, один электрохимически активный слой, способный обратимо и одновременно включать в себя ионы типа H⁺, Li⁺ или OHЇ и электроны, отличающееся тем, что указанный электрохимически активный слой основывается на оксиде никеля, полученного по способу по п.15, и/или из мишени по любому из пп.1-14.

18. Электрохимическое устройство, включающее, по меньшей мере, одну подложку, на которой сформирован блок функциональных слоев, включающих, по меньшей мере, один электрохимически активный слой, способный обратимо и одновременно включать в себя ионы типа H⁺, Li⁺ или OHЇ и электроны, отличающееся тем, что указанный электрохимически активный слой основывается на оксиде никеля, при этом указанный слой легирован примесным элементом, представляющим собой элемент, оксид которого является электроактивным веществом при анодном окрашивании, в частности, выбранным из Co, Ir, Ru и Rh или смеси указанных элементов, при этом указанный слой получают из мишени по любому из пп.1-8.

19. Электрохимическое устройство, включающее, по меньшей мере, одну подложку, на которой сформирован блок функциональных слоев, включающих, по меньшей мере, один электрохимически активный слой, способный обратимо и одновременно включать в себя ионы типа H⁺, Li⁺ или OHЇ и электроны, отличающееся тем, что указанный электрохимически активный слой основывается на оксиде никеля, при этом указанный слой легирован примесным элементом, представляющим собой элемент, оксид которого является электроактивным веществом при анодном окрашивании, в частности, выбранным из Mo, W, Re, Sn, In и Bi или смеси указанных элементов, при этом указанный слой получают из мишени по любому из пп.1-6 и 9-10.

20. Электрохимическое устройство, включающее, по меньшей мере, одну подложку, на которой сформирован блок функциональных слоев, включающих, по меньшей мере, один электрохимически активный слой, способный обратимо и одновременно включать в себя ионы типа H⁺, Li⁺ или OHЇ и электроны, отличающееся тем, что указанный электрохимически активный слой основывается на оксиде никеля, при этом указанный слой легирован примесным элементом, выбранным из элементов, относящихся к первой группе Периодической таблицы элементов, в частности, выбранным из H, Li, K и Na или смеси указанных элементов, при этом указанный слой получают из мишени по любому из пп.1-6 и 11-12.

21. Электрохимическое устройство, включающее, по меньшей мере, одну подложку, на которой сформирован блок функциональных слоев, включающих, по меньшей мере, один электрохимически активный слой, способный обратимо и одновременно включать в себя ионы типа H⁺, Li⁺ или OHЇ и электроны, отличающееся тем, что указанный электрохимически активный слой представляет собой металл, или щелочную землю, или полупроводник, гидратированный или гидроксилированный оксид которого обладает протонной проводимостью, в частности выбранный из Ta, Zn, Zr, Al, Si, Sb, U, Be, Mg, Ca, V и Y или смеси указанных элементов, при этом указанный слой получают из мишени по любому из пп.1-6 и 13-14.

22. Применение электрохимического устройства по любому из пп.17-21 для получения компонентов электрохромного остекления, в частности, для зданий или средств передвижения, таких как поезд, самолет или автомобиль, для получения компонентов экранов дисплеев или компонентов электрохромных зеркал.