Формула
1. Материал, содержащий прозрачную подложку, покрытую системой тонких слоев, содержащей последовательно, начиная от подложки, чередование трех функциональных металлических слоев на основе серебра, обозначенных, считая от подложки, как первый, второй и третий функциональные слои, причем толщина функциональных металлических слоев, начиная от подложки, увеличивается в зависимости от удаленности от подложки, и чередование четырех диэлектрических покрытий, обозначенных, считая от подложки, как M1, M2, M3 и M4, причем каждое диэлектрическое покрытие содержит по меньшей мере один диэлектрический слой, так что каждый функциональный металлический слой находится между двумя диэлектрическими покрытиями, отличающийся тем, что:
диэлектрические покрытия M1, M2, M3 и M4 имеют оптическую толщину Eo1, Eo2, Eo3 и Eo4, соответственно,
каждое диэлектрическое покрытие содержит по меньшей мере один диэлектрический слой с высоким показателем преломления, показатель преломления которого составляет по меньшей мере 2,15, и оптическая толщина которого больше 20 нм,
сумма оптических толщин всех диэлектрических слоев с высоким показателем преломления в одном и том же диэлектрическом покрытии обозначена, в соответствии с конкретным диэлектрическим покрытием, как Eohi1, Eohi2, Eohi3 или Eohi4,
и каждое диэлектрическое покрытие удовлетворяет следующему соотношению:
2. Материал по п. 1, отличающийся тем, что три функциональных металлических слоя удовлетворяют следующим условиям:
отношение толщины второго металлического слоя к толщине первого функционального металлического слоя составляет от 1,10 до 2,00, включая граничные значения, и/или
отношение толщины третьего металлического слоя к толщине второго функционального металлического слоя составляет от 1,10 до 1,80, включая граничные значения.
3. Материал по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что система дополнительно содержит по меньшей мере один блокирующий слой, находящийся в контакте с функциональным слоем, выбранный из металлических слоев, металлонитридных слоев, металлоксидных слоев и металло-оксинитридных слоев с одним или несколькими элементами, выбранными из титана, никеля, хрома и ниобия, такой как слой Ti, TiN, TiO2Nb, NbN, Ni, NiN, Cr, CrN, NiCr, NiCrN.
4. Материал по любому из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что диэлектрические покрытия M1, M2, M3 и M4 имеют оптические толщины Eo1, Eo2, Eo3 и Eo4, соответственно, которые удовлетворяют следующему соотношению: Eo4 < Eo1 < Eo2 < Eo3.
5. Материал по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что слои с высоким показателем преломления имеют показатель преломления меньше или равный 2,35.
6. Материал по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что каждое диэлектрическое покрытие удовлетворяет следующему соотношению:
7. Материал по любому из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что по меньшей мере два диэлектрических покрытия содержат диэлектрический слой с высоким показателем преломления на основе нитрида кремния и циркония.
8. Материал по любому из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что каждое диэлектрическое покрытие содержит диэлектрический слой с высоким показателем преломления на основе нитрида кремния и циркония.
9. Материал по любому из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что диэлектрические покрытия имеют следующие характеристики:
оптическая толщина первого диэлектрического покрытие M1 составляет от 60 до 140 нм,
оптическая толщина второго диэлектрического покрытия M2 составляет от 120 до 180 нм,
оптическая толщина третьего диэлектрического покрытия M3 составляет от 140 до 200 нм,
оптическая толщина четвертого диэлектрического покрытия M4 составляет от 50 до 120 нм.
10. Материал по любому из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что каждое диэлектрическое покрытие дополнительно содержит по меньшей мере один диэлектрический слой, показатель преломления которого ниже 2,15.
11. Материал по любому из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что он содержит систему тонких слоев слоев, содержащую, начиная от прозрачной подложки:
первое диэлектрическое покрытие, содержащее по меньшей мере один слой с высоким показателем преломления, необязательно слой с функцией барьера, диэлектрический слой с функцией стабилизации,
необязательно, блокирующий слой,
первый функциональный слой,
необязательно, блокирующий слой,
второе диэлектрическое покрытие, содержащее по меньшей мере один нижний диэлектрический слой со стабилизирующей функцией, необязательно слой с функцией барьера, диэлектрический слой с высоким показателем преломления, необязательно слой со сглаживающей функцией, верхний диэлектрический слой со стабилизирующей функцией,
необязательно, блокирующий слой,
второй функциональный слой,
необязательно, блокирующий слой,
третье диэлектрическое покрытие, содержащее по меньшей мере один нижний диэлектрический слой со стабилизирующей функцией, необязательно слой с функцией барьера, диэлектрический слой с высоким показателем преломления, необязательно слой со сглаживающей функцией, верхний диэлектрический слой со стабилизирующей функцией,
необязательно, блокирующий слой,
третий функциональный слой,
необязательно, блокирующий слой,
четвертое диэлектрическое покрытие, содержащее по меньшей мере один диэлектрический слой со стабилизирующей функцией, необязательно слой с функцией барьера, диэлектрический слой с высоким показателем преломления и, необязательно, защитный слой.
12. Способ получения материала по одному из предыдущих пунктов, в соответствии с которым слои системы тонких слоев осаждают методом магнетронного катодного распыления.
13. Стекло, содержащее по меньшей мере один материал по любому из пп.1-11.
14. Стекло по предыдущему пункту, отличающееся тем, что система слоев расположена в стекле так, что падающий снаружи свет проходит сначала через первое диэлектрическое покрытие, прежде чем пройти через первый функциональный металлический слой.
15. Стекло по любому из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что оно имеет вид стеклопакета, в частности, однокамерного или двухкамерного стеклопакета.