Код документа: RU2008107990A
1. Способ вакуумного осаждения по меньшей мере одного тонкого слоя на основе бора на подложку, отличающийся тем, что ! выбирают по меньшей мере один агент распыления, химически активный или неактивный к бору, ! создают, с помощью по меньшей мере одного линейного источника ионов, находящегося внутри установки, имеющей промышленные размеры, коллимированный пучок ионов, содержащий в основном указанный агент распыления, ! направляют указанный пучок по меньшей мере на одну мишень на основе бора, ! помещают по меньшей мере часть поверхности указанной подложки напротив указанной мишени так, чтобы указанный материал, распыленный ионной бомбардировкой мишени, или материал, получающийся в результате реакции указанного распыленного материала по меньшей мере с одним из агентов распыления, осаждался на указанной части поверхности. ! 2. Способ по п.1, отличающийся тем, что производят относительное перемещение между источником ионного осаждения и подложкой. ! 3. Способ по п.1, отличающийся тем, что линейный источник ионов создает коллимированный пучок ионов с энергией, составляющей от 0,2 до 10 кэв, предпочтительно от 1 до 5 кэв, в частности около 1,5 кэв. ! 4. Способ по п.1, отличающийся тем, что в установке создается давление в диапазоне от 10-5 до 8·10-3 торр. ! 5. Способ по п.1, отличающийся тем, что пучок ионов и мишень образуют угол α, составляющий от 90 до 30°, предпочтительно от 60 до 45°. ! 6. Способ по п.1, отличающийся тем, что распыляемый материал осаждают с помощью по меньшей мере указанного линейного источника ионного осаждения одновременно или последовательно на две разные части поверхности подложки. ! 7. Способ по п.1, отличающийся тем, что расп