Тигель для кристаллизации кремния - RU2008103402A

Реферат

1. Тигель для кристаллизации кремния, который содержит ! основной корпус, который имеет дно и боковые стенки, образующие внутренний объем тигля; ! подложку, которая содержит от 80 до 100 вес.% нитрида кремния, расположенную у поверхности боковых стенок, обращенной к внутреннему объему; ! промежуточный слой, который содержит от 50 до 100 вес.% диоксида кремния, нанесенный сверху от подложки; ! поверхностный слой, который содержит от 50 до 100 вес.% нитрида кремния, до 50 вес.% диоксида кремния и до 20 вес.% кремния, нанесенный сверху от промежуточного слоя. ! 2. Тигель по п.1, отличающийся тем, что подложка имеет толщину от 20 до 300 мкм. ! 3. Тигель по п.1, отличающийся тем, что промежуточный слой имеет толщину от 50 до 500 мкм. ! 4. Тигель по одному из пп.1-3, отличающийся тем, что он содержит дополнительный промежуточный слой сверху от первого промежуточного слоя, который содержит до 50 вес.% нитрида кремния, с остатком, содержащим диоксид кремния. ! 5. Тигель по п.4, отличающийся тем, что дополнительный промежуточный слой имеет толщину до 200 мкм. ! 6. Тигель по п.1, отличающийся тем, что поверхностный слой имеет толщину от 50 мкм до 500 мкм. ! 7. Тигель по п.1, отличающийся тем, что поверхностный слой содержит от 50 до 100 вес.% Si3N4, до 40 вес.% SiO2 и до 10 вес.% кремния. ! 8. Способ изготовления тигля для кристаллизации кремния, который содержит следующие операции: ! использование основного корпуса тигля, который имеет дно и боковые стенки, образующие внутренний объем; ! нанесение подложки, которая содержит от 80 до 100 вес.% нитрида кремния, у поверхности боковых стенок, обращенной к внутреннему объему; ! сверху подложки нанесение промежуточного слоя, который содержит от 50 до 100 вес