Способ изготовления солнечного элемента с просветляющим покрытием с использованием химического осаждения из газовой фазы при сжигании (ccvd) и соответствующее изделие - RU2008146093A

Реферат

1. Способ изготовления солнечного элемента, содержащий: ! обеспечение фотоэлектрического слоя и по меньшей мере стеклянной подложки на обращенной к падающему свету стороне фотоэлектрического слоя; ! обеспечение просветляющего покрытия, предусматриваемого на стеклянной подложке, причем это просветляющее покрытие включает в себя по меньшей мере один слой и расположено на обращенной к падающему свету стороне стеклянной подложки; и ! при этом для формирования по меньшей мере части просветляющего покрытия, которое предусмотрено на обращенной к падающему свету стороне стеклянной подложки солнечного элемента, используют пламенный пиролиз. ! 2. Способ по п.1, при котором для формирования просветляющего покрытия используют пламенный пиролиз при приблизительно атмосферном давлении, причем просветляющее покрытие содержит SiO2. ! 3. Способ по п.1, при котором пламенный пиролиз содержит принудительную подачу силана, жидкого и/или газообразного, в по меньшей мере одну горелку и/или пламя для того, чтобы вызвать осаждение слоя, содержащего оксид кремния, на стеклянную подложку в качестве по меньшей мере части просветляющего покрытия. ! 4. Способ по п.3, при котором силан содержит TEOS и/или HDMSO. ! 5. Способ по п.1, при котором пламенный пиролиз используют для формирования на стеклянной подложке слоя, содержащего SiO2. ! 6. Способ по п.5, при котором на стеклянной подложке между стеклянной подложкой и слоем, содержащим SiO2, предусматривают другой слой. ! 7. Способ по п.1, при котором просветляющее покрытие включает в себя градиентный слой, предусмотренный непосредственно на стеклянной подложке и контактирующий с ней, причем этот градиен�