Код документа: RU2013102422A
1. Способ подготовки подложки для раскалывания, включающий следующие шаги:облучение указанной подложки пакетом импульсов сфокусированного лазерного пучка, при этом указанная подложка является прозрачной для указанного сфокусированного лазерного пучка, временная задержка между последовательными импульсами в пакете импульсов меньше времени, в течение которого происходит релаксация одной или более динамических характеристик модификации материала, а пакет импульсов имеет энергию и длительность импульсов, выбранные для формирования филамента в указанной подложке;сдвиг указанной подложки относительно указанного сфокусированного лазерного пучка для облучения подложки и формирования дополнительного филамента в одном или более дополнительных положениях;при этом указанные филаменты формируют решетку, задающую скрайбированный изнутри путь для раскалывания указанной подложки.2. Способ по п.1, в котором подложку сдвигают относительно сфокусированного лазерного пучка со скоростью, выбранной для создания расстояния между филаментами в микронном диапазоне.3. Способ по п.1 или 2, в котором указанный пакет импульсов подают два или более раз с заданной частотой, при этом указанную подложку сдвигают относительно указанного сфокусированного лазерного пучка по существу с постоянной скоростью.4. Способ по п.1 или 2, в котором положение фокуса указанного сфокусированного лазерного пучка выбирают так, чтобы формировать в подложке филаменты, при этом по меньшей мере на одной поверхности подложки абляция отсутствует.5. Способ по п.1 или 2, в котором характеристики указанного пакета импульсов выбирают так, чтобы обеспечи�